CN106277838A - 一种附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内到外依次溅射在玻璃基板上的第二介质层、第一遮挡保护层，功能层、第二遮挡保护层、外层抗氧化保护层，其中第二介质层和外层抗氧化保护层的材料为Si3N4，第一遮挡保护层和第二遮挡保护层的材料为NiCr，在玻璃基板与第二介质层之间镀制第一介质层，在第二介质层与第一遮挡保护层之间镀制第三介质层，第一介质层、第二介质层和第三介质层共同构成底层复合介质层。本发明通过设计新的底层复合介质层，增强膜系整体的结合力，既能达到现有结构的颜色效果，又能保证某些膜层厚度过厚或过薄时的附着力，降低工艺对本底真空、原片等条件的要求。

Description

一种附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃
技术领域
本发明属于低辐射镀膜玻璃生产技术领域，具体涉及一种附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃。
背景技术
磁控溅射：在真空环境中，利用电磁场对氩气进行电离加速，获得的带电粒子在加速过程中相互碰撞进行能量传递，带电粒子不是单纯做螺旋运动，而是做一种不规则的复杂运动，在此过程中，更多的带电粒子获得电磁场带来的能量，目标材料被这样的高能粒子溅射到基板上成膜，这种由于电磁场的作用，使得真空溅射效率比常规方式效率更高的工艺称之为磁控溅射。
低辐射玻璃：一般来说，运用磁控溅射工艺生产处理的玻璃包含低辐射镀膜玻璃和阳光控制镀膜玻璃，其中膜层中含有热反射作用的Ag及其类似金属层的膜系称之为低辐射镀膜玻璃，不包含Ag及其类似作用金属层的膜系为阳光控制镀膜玻璃。
现有低辐射镀膜玻璃的单银膜系结构一般采用五层结构，即基层介质/遮挡层/银层/遮挡层/顶层介质层，生产时，通过调整各层厚度以产生不同的反射色调，为满足建筑设计对颜色效果的要求，经常出现某些膜层厚度过厚或过薄的情况，由此导致膜层附着力变差，在设备真空度较差、玻璃原片不新鲜等情况下产生脱膜缺陷。
发明内容
本发明的目的在于提供一种附着力增强型可钢化低辐射玻璃，通过设计新的底层复合介质层，增强膜系整体的结合力，既能达到现有结构的颜色效果，又能保证某些膜层厚度过厚或过薄时的附着力，降低工艺对本底真空、原片等条件的要求。
为解决上述技术问题，本发明采用如下技术方案：一种附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板、从内到外依次溅射在玻璃基板上的第二介质层、第一遮挡保护层、功能层、第二遮挡保护层和外层抗氧化保护层，其中第二介质层和外层抗氧化保护层的材料为Si3N4，第一遮挡保护层和第二遮挡保护层的材料为NiCr，在玻璃基板与第二介质层之间镀制第一介质层，在第二介质层与第一遮挡保护层之间镀制第三介质层，第一介质层、第二介质层和第三介质层共同构成底层复合介质层。
所述第一介质层材料为SiO2，第三介质层材料为ZnOx。
所述第一介质层的厚度为1～20nm，第二介质层的厚度为5～30nm，第三介质层的厚度为5～10nm。
所述第一层遮挡保护层（5）材料为NiCr，其厚度为1～3nm；所述功能层（6）为Ag层，其厚度为3～10nm；所述第二层遮挡保护层（7）材料为NiCr，其厚度为1～5nm；所述外层抗氧化保护层（8）材料为Si3N4，其厚度为20～60nm。
本发明的有益效果是：
1、既能达到现有工艺的颜色效果，又能显著增强膜系整体的结合力，防止或者减缓脱膜现象的产生。
2、降低工艺对设备本底真空的要求，本底真空度达到8×10-6mbar时即可生产。
3、提高高透光率膜系的均匀性和抗氧化性。。
附图说明
图1是本发明的结构示意图。
具体实施方式
以下结合附图对本发明的具体实施方式作详细说明。
如图1所示，本发明的一种附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板1、从内到外依次溅射在玻璃基板上的第二介质层3、第一遮挡保护层5，功能层6，第二遮挡保护层7，外层抗氧化保护层8，其中第二介质层3和外层抗氧化保护层8的材料为Si3N4，第一遮挡保护层5和第二遮挡保护层7的材料为NiCr，在玻璃基板（1）与第二介质层（3）之间镀制第一介质层2，在第二介质层3与第一遮挡保护层5之间镀制第三介质层4，第一介质层2、第二介质层3和第三介质层4共同构成底层复合介质层。
由于玻璃基板的主要成分是SiO2，原片玻璃在经过一段时间存放后，玻璃表面会形成一个钠离子含量较低的多孔SiOx层，在玻璃表面镀膜一层较薄的SiO2膜层，可改善玻璃表面质量，提高玻璃与膜层整体的结合力，所以第一介质层材2料为SiO2，其厚度为1～20nm。
Si3N4的结构致密，可阻挡钠离子，且与SiO2之间有非常好的结合力，所以用Si3N4作为第二介质层3的材料，其厚度为5～30nm。
ZnOx有良好的延展性和致密性，可以部分替代遮挡保护层NiCr的保护作用，提高高透光率膜系的整体均匀性和抗氧化性能，所以用ZnOx作为第三介质层4的材料，其厚度为5～10nm。
第一介质层2、第二介质层3和第三介质层4共同构成底层复合介质层。
第一层遮挡保护层5材料为NiCr，其膜层厚度为1～3nm，其作用为调节透光率，防止Ag层被氧化。
功能层6材料为Ag，厚度为3～10nm，过滤大部分红外线，起到隔热保温的作用。
第二层遮挡保护层7材料为NiCr，膜层厚度为1～5nm，其作用为调节透光率，防止Ag被氧化。
外层抗氧化保护层8材料为Si3N4，厚度为20～60nm，保护整体膜层结构，防止膜层受到空气中的氧气、水气等其他有害气体对整体膜层的侵蚀，另外有加强膜层硬度，减少外界对膜层擦伤的作用。
本发明通过设计新的底层复合介质层，增强膜系整体的结合力，既能达到现有结构的颜色效果，又能保证某些膜层厚度过厚或过薄时的附着力，降低工艺对本底真空、原片等条件的要求。
以上实施例仅用以说明而非限制本发明的技术方案，尽管参照上述实施例对本发明进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解：依然可以对本发明进行修改或者等同替换，而不脱离本发明的精神和范围的任何修改或局部替换，其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。

Claims (4)

1.一种附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基板（1）、从内到外依次溅射在玻璃基板上的第二介质层（3）、第一遮挡保护层（5）、功能层（6）、第二遮挡保护层（7）和外层抗氧化保护层（8），其中第二介质层（3）和外层抗氧化保护层（8）的材料为Si3N4，第一遮挡保护层（5）和第二遮挡保护层（7）的材料为NiCr，其特征在于：在玻璃基板（1）与第二介质层（3）之间镀制第一介质层（2），在第二介质层（3）与第一遮挡保护层（5）之间镀制第三介质层（4），第一介质层（2）、第二介质层（3）和第三介质层（4）共同构成底层复合介质层。
2.根据权利要求1所述的附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层（2）材料为SiO2，第三介质层（4）材料为ZnOx。
3.根据权利要求1或2所述的附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一介质层（2）的厚度为1～20nm，第二介质层（3）的厚度为5～30nm，第三介质层（4）的厚度为5～10nm。
4.根据权利要求3所述的附着力增强型可钢化低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述第一层遮挡保护层（5）材料为NiCr，其厚度为1～3nm；所述功能层（6）为Ag层，其厚度为3～10nm；所述第二层遮挡保护层（7）材料为NiCr，其厚度为1～5nm；所述外层抗氧化保护层（8）材料为Si3N4，其厚度为20～60nm。
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