CN103358619A - 高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明提出一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该镀膜玻璃依次包括：玻璃基板/底层电介质层/第一阻挡层/第一功能层/第二阻挡层/中间电介质层/第三阻挡层/第二功能层/第四阻挡层/顶层电介质层；其中，底层、顶层电介质层为Si3N4层；第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层；第一、第二功能层为Ag层；中间电介质层为ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层。本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，采用新颖的架构膜系，其优点在于：（1）产品的可见光透过率高，Tr≥80；（2）产品钢前钢后数据漂移小，机械性能较好且稳定；（3）产品外观颜色接近自然色，真实美观舒适。
Description
技术领域
本发明涉及镀膜玻璃技术领域，具体的，涉及一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃及其制备方法。
背景技术
LOW-E玻璃是在玻璃表面利用磁控溅射法沉积多层膜，在多层膜层材料中沉积一层或两层或两层以上的纯银基材而成的高性能玻璃制品。LOW-E玻璃突出地强调了玻璃对太阳热辐射的遮蔽效果，将玻璃的高透光性与太阳热辐射的低透过性巧妙地结合在一起，成功地解决了高透光与低传热系数U值，遮阳系数SC值的双重优势并存的难题具有很好节能效果。
而双银LOW-E玻璃，相比于单银LOW-E玻璃，在产品的性能上又有了很大程度的提高，在透光率相同的情况下，双银LOW-E玻璃具有更低的遮阳系数SC，能更大限度地将太阳光过滤成冷光源；另一方面，双银LOW-E玻璃的传热系数较单银LOW-E更低，进一步提高了外窗的保温性能，真正达到了冬暖夏凉。总的来说，双银LOW-E玻璃较单银LOW-E玻璃在满足良好采光性能的同时，更大程度的提高了室内热舒适度，减少了设备采暖制冷的运行时间，节约了电能，是节约环保的好产品。
双银LOW-E玻璃存在许多优点的同时，也避免不了出现一些缺陷，如：产品可见光透过率低；产品性能不稳定；后续加工困难等。
发明内容
为了解决现有技术上的上述缺陷，本发明提出了一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其目的在于提高镀膜玻璃的可见光透过率，稳定产品的性能，美化玻璃的外观颜色。
本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该镀膜玻璃依次包括：玻璃基板/底层电介质/第一阻挡层/第一功能层/第二阻挡层/中间电介质层/第三阻挡层/第二功能层/第四阻挡层/顶层电介质层；其中，底层、顶层电介质层为Si3N4层；第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层；第一、第二功能层为Ag层；中间电介质层为ZnSnO3层或者是Si3N4和ZnSnO3的组合层。
其中，所述的底层、顶层电介质层Si3N4层的膜层厚度范围为10～50nm。
其中，所述的第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层的膜层厚度范围为1～30nm。
其中，所述的第一、第二功能层Ag层的膜层厚度范围为1～30nm。
其中，所述的中间电介质层ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层的膜层厚度范围为30～150nm。
本发明还提出了一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：采用真空磁控溅射镀膜技术，在玻璃基板的表面逐层镀膜：在玻璃基板上镀底层电介质层；在底层电介质层上镀第一阻挡层；在第一阻挡层上镀第一功能层；在第一功能层上镀第二阻挡层；在第二阻挡层上镀中间电介质层；在中间电介质层上镀第三阻挡层；在第三阻挡层上镀第二功能层；在第二功能层上镀第四阻挡层；在第四阻挡层上镀顶层电介质层。
其中，所述的底层、顶层电介质层为Si3N4层；第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层；第一、第二功能层为Ag层；中间电介质层为ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层。
其中，所述的底层、顶层电介质层Si3N4层，使用硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体N2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层，使用锌铝靶或者AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～80KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第一、第二功能层Ag层，使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，在工艺气体Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～20KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的中间电介质层ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层，采用锌锡靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，采用新颖的架构膜系，其优点在于：（1）产品的可见光透过率高，Tr≥80；（2）产品钢前钢后数据漂移小，机械性能较好且稳定；（3）产品外观颜色接近自然色，真实美观。
附图说明
图1是本发明高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的结构示意图；
图2是本发明高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的制造工艺的流程结构示意图；
图3是实施例1高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的膜面反射光谱曲线图；
图4是实施例1高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的玻璃面反射光谱曲线图；
图5是实施例1高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的透射特性谱图；
图6是实施例2高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的膜面反射光谱曲线图；
图7是实施例2高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的玻璃面反射光谱曲线图；
图8是实施例2高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的透射特性谱图。
具体实施方式
为了阐明本发明的技术方案及技术目的，下面结合附图及具体实施方式对本发明做进一步的介绍。
如图1所示，本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，包括有玻璃基板1和镀制在所述玻璃基板1上的多个膜层。从玻璃基板1向上，依次为：底层电介质层2，第一阻挡层3,第一功能层4，第二阻挡层5，中间电介质层6，第三阻挡层7，第二功能层8，第四阻挡层9，顶层电介质层10。
下面通过具体的实施例进一步来说明本发明。
实施例1
本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该镀膜玻璃依次包括：玻璃基板1/底层电介质层2/第一阻挡层3/第一功能层4/第二阻挡层5/中间电介质层6/第三阻挡层7/第二功能层8/第四阻挡层9/顶层电介质层10。
具体的，在本实施例中，所述的底层、顶层电介质层为Si3N4层；第一、第三阻挡层为ZnO层；第一、第二功能层为Ag层；第二、第四阻挡层为AZO层；中间电介质层为ZnSnO3层，即镀膜玻璃依次为Glass/Si3N4/ZnO/Ag/AZO/ZnSnO3/ZnO/Ag/AZO/Si3N4。
其中，所述的底层、顶层电介质层Si3N4层的膜层厚度范围为10～50nm。
所述的第一，第三阻挡层ZnO层的膜层厚度范围为1～30nm。
所述的第一、第二功能层Ag层的膜层厚度范围为1～30nm。
所述的第二，第四阻挡层AZO层的膜层厚度范围为1～30nm。
所述的中间电介质层ZnSnO3层的膜层厚度范围为30～150nm。
本发明采用真空磁控溅射镀膜技术，在玻璃基板的表面逐层镀膜，如图2所示，在玻璃基板1上镀底层电介质层Si3N4层2；在底层电介质层Si3N4层2上镀第一阻挡层ZnO层3；在第一阻挡层ZnO层3上镀第一功能层Ag层4；在第一功能层Ag层4上镀第二阻挡层AZO层5；在第二阻挡层AZO层5上镀中间电介质层ZnSnO3层6；在中间电介质层ZnSnO3层6上镀第三阻挡层ZnO层7；在第三阻挡层ZnO层7上镀第二功能层Ag层8；在第二功能层Ag层8上镀第四阻挡层AZO层9；在第四阻挡层AZO层9上镀顶层电介质层Si3N4层10。
其中，所述的底层、顶层电介质层Si3N4层，使用硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体N2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第一，第三阻挡层ZnO层，使用锌铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～80KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第一、第二功能层Ag层，使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，在工艺气体Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～20KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第二，第四阻挡层AZO层，使用AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～80KW；真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的中间电介质层ZnSnO3层，使用锌锡靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
图3是本发明高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的膜面反射光谱曲线图，反映了玻璃的镀膜面在可见光不同频段内对可见光的反光率；
图4是本发明高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的玻璃面反射光谱曲线图，反映了玻璃面在可见光不同的频段内对可见光的反光率；
图5是本发明高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的透射特性谱图，反映了镀膜玻璃在可见光不同的频段内对可见光的透过率。
本实施例使用7个交流旋转阴极，2个直流平面阴极，制出了一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其工艺参数和靶的位置如下表所示：
如上表所示：本实施例使用了硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体N2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成底层电介质膜Si3N4；使用锌铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体O2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第一阻挡层膜ZnO；使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第一功能层膜Ag；使用AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第二阻挡层膜AZO;使用锌锡靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体O2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成中间电介质膜ZnSnO3;使用锌铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体O2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第三阻挡层膜ZnO；使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第二功能层膜Ag；使用AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第四阻挡层膜AZO;使用了硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体N2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成顶层电介质膜Si3N4。
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的钢化前后数据如下表所示：
如上表所示：
可见光玻璃面的反射率值，钢化前为10.5%，钢化后为8.9%；
可见光玻璃面的色坐标a*值，钢化前为-0.5，钢化后为-1.2；
可见光玻璃面的色坐标b*值，钢化前为-10.8，钢化后为-9.9；
可见光膜面的反射率值，钢化前为9.3%，钢化后为9%；
可见光膜面的色坐标a*值，钢化前为3.8，钢化后为1.8；
可见光膜面的色坐标b*值，钢化前为-5.6，钢化后为-7.2；
可见光的透过率值，钢化前为76.2%，钢化后为80.4%；
可见光的透视色坐标a*值，钢化前为-4.3，钢化后为-2.9；
可见光的透视色坐标b*值，钢化前为3.6，钢化后为3.1。
由上表可知：本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的可见光透过率较高，钢后值大于80%，属于高透型；由上面数据也可看出，产品钢前钢后数据较稳定，漂移小；机械性能较好且稳定；外观颜色接近自然色，真实美观。
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的机械性能（抗氧化性能测试、酸碱测试、及抗机械性能测试）结果如下表所示。
如上表所示：
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的湿热试验测试结果为24H内产品未氧化，合格；产品在越久的时间内不氧化，则代表该产品的湿热试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的沸水试验测试结果为5H内膜面颜色没有发生变化，合格；产品在越久的时间内膜面不变色，则代表该产品的沸水试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的裸放试验测试结果为220H内产品未氧化，合格；产品在越久的时间内不氧化，则代表该产品的裸放试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的耐酸、耐碱试验结果为1440min内产品不脱膜，合格；产品在酸碱液中不脱膜时间越久，则代表该产品耐酸碱性越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的耐磨耗测试结果为T=0.30%，合格；产品的T值越小，则代表产品的耐磨耗测试结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的铅笔硬度试验测试结果为5H，合格；产品的硬度试验结果分为：6B、5B...B、HB、H、2H...6H、值越往后，则代表产品硬度试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的耐水洗试验测试结果为1000次膜面无划伤，合格；产品只要1000次耐水洗后膜面无划伤，则代表该产品合格。
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的酒精擦拭试验结果为100次不脱膜，合格；产品只要酒精擦拭50次不脱膜，则代表该产品合格。
由上表可知：本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的各项指标均合格，产品的机械性较好。
实施例2
本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该镀膜玻璃依次包括：玻璃基板1/底层电介质层2/第一阻挡层3/第一功能层4/第二阻挡层5/中间电介质层6/第三阻挡层7/第二功能层8/第四阻挡层9/顶层电介质层10。
具体的，在本实施例中，所述的底层、顶层电介质层为Si3N4层；第一、第三阻挡层为ZnO层；第一、第二功能层为Ag层；第二、第四阻挡层为AZO层；中间电介质层为Si3N4和ZnSnO3的组合层，即镀膜玻璃依次为Glass/Si3N4/ZnO/Ag/AZO/Si3N4/ZnSnO3/ZnO/Ag/AZO/ Si3N4。
其中，所述的底层、顶层电介质层Si3N4层的膜层厚度范围为10～50nm。
所述的第一，第三阻挡层ZnO层的膜层厚度范围为1～30nm。
所述的第一、第二功能层Ag层的膜层厚度范围为1～30nm。
所述的第二，第四阻挡层AZO层的膜层厚度范围为1～30nm。
所述的中间电介质层为Si3N4和ZnSnO3的组合层膜层厚度范围为30～150nm。
本发明采用真空磁控溅射镀膜技术，在玻璃基板的表面逐层镀膜，如图2所示，在玻璃基板1上镀底层电介质层Si3N4层2；在底层电介质层Si3N4层2上镀第一阻挡层ZnO层3；在第一阻挡层ZnO层3上镀第一功能层Ag层4；在第一功能层Ag层4上镀第二阻挡层AZO层5；在第二阻挡层AZO层5上镀中间电介质层Si3N4和ZnSnO3的组合层6；在中间电介质层Si3N4和ZnSnO3的组合层6上镀第三阻挡层ZnO层7；在第三阻挡层ZnO层7上镀第二功能层Ag层8；在第二功能层Ag层8上镀第四阻挡层AZO层9；在第四阻挡层AZO层9上镀顶层电介质层Si3N4层10。
其中，所述的底层、顶层电介质层Si3N4层，使用硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体N2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第一，第三阻挡层ZnO层，使用锌铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～80KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第一、第二功能层Ag层，使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，在工艺气体Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～20KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的第二，第四阻挡层AZO层，使用AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～80KW；真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
其中，所述的中间电介质层Si3N4和ZnSnO3的组合层，先使用硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体N2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar；再使用锌锡靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
图6是实施例2的膜面反射光谱曲线图，反映了玻璃的镀膜面在可见光不同频段内对可见光的反光率；
图7是实施例2的玻璃面反射光谱曲线图，反映了玻璃面在可见光不同的频段内对可见光的反光率；
图8是实施例2的透射特性谱图，反映了镀膜玻璃在可见光不同的频段内对可见光的透过率。
本实施例使用8个交流旋转阴极，2个直流平面阴极，制出了一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其工艺参数和靶的位置如下表所示：
如上表所示：本实施例使用了硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体N2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成底层电介质膜Si3N4；使用锌铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体O2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第一阻挡层膜ZnO；使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第一功能层膜Ag；使用AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第二阻挡层膜AZO;先使用使用硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体N2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar；再使用锌锡靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW;真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成中间电介质层Si3N4和ZnSnO3的组合层，;使用锌铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体O2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第三阻挡层膜ZnO；使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第二功能层膜Ag；使用AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成第四阻挡层膜AZO;使用了硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，通入工艺气体N2与Ar，在溅射工艺气压8.0E-3mbar～1.0E-3mbar的条件下，溅射沉积形成顶层电介质膜Si3N4。
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的钢化前后数据如下表所示：
如上表所示：
可见光玻璃面的反射率值，钢化前为9.6%，钢化后为10.4%；
可见光玻璃面的色坐标a*值，钢化前为0.3，钢化后为-0.8；
可见光玻璃面的色坐标b*值，钢化前为-7，钢化后为-4.7；
可见光膜面的反射率值，钢化前为8%，钢化后为11%；
可见光膜面的色坐标a*值，钢化前为6.8，钢化后为7；
可见光膜面的色坐标b*值，钢化前为7.9，钢化后为9.7；
可见光的透过率值，钢化前为73%，钢化后为82%；
可见光的透视色坐标a*值，钢化前为-5.7，钢化后为-5.7；
可见光的透视色坐标b*值，钢化前为-1.8，钢化后为-3.1。
由上表可知：本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的可见光透过率较高，钢后值大于80%，属于高透型；由上面数据也可看出，产品钢前钢后数据较稳定，漂移小；机械性能较好且稳定；外观颜色接近自然色，真实美观。
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的机械性能（抗氧化性能测试、酸碱测试、及抗机械性能测试）结果如下表所示。
如上表所示：
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的湿热试验测试结果为48H内产品未氧化，合格；产品在越久的时间内不氧化，则代表该产品的湿热试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的沸水试验测试结果为8H内膜面颜色没有发生变化，合格；产品在越久的时间内膜面不变色，则代表该产品的沸水试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的裸放试验测试结果为260H内产品未氧化，合格；产品在越久的时间内不氧化，则代表该产品的裸放试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的耐酸、耐碱试验结果为1440min内产品不脱膜，合格；产品在酸碱液中不脱膜时间越久，则代表该产品耐酸碱性越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的耐磨耗测试结果为T=0.10%，合格；产品的T值越小，则代表产品的耐磨耗测试结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的铅笔硬度试验测试结果为5H，合格；产品的硬度试验结果分为：6B、5B...B、HB、H、2H...6H、值越往后，则代表产品硬度试验结果越好；
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的耐水洗试验测试结果为1000次膜面无划伤，合格；产品只要1000次耐水洗后膜面无划伤，则代表该产品合格。
一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的酒精擦拭试验结果为100次不脱膜，合格；产品只要酒精擦拭50次不脱膜，则代表该产品合格。
本发明提出的一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，采用新颖的架构膜系，其优点在于：（1）产品的可见光透过率高，Tr≥80；（2）产品钢前钢后数据漂移小，机械性能较好且稳定；（3）产品外观颜色接近自然色，真实美观。
本领域技术人员均应了解，在不脱离本发明的精神或范围的情况下，可对本发明进行各种修改和变型。因而，如果任何修改或变型落入所附权利要求书及等同物的保护范围内时，认为本发明涵盖这些修改和变型。
Claims (11)
1.一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于，该镀膜玻璃依次包括：玻璃基板/底层电介质层/第一阻挡层/第一功能层/第二阻挡层/中间电介质层/第三阻挡层/第二功能层/第四阻挡层/顶层电介质层；其中，底层、顶层电介质层为Si3N4层；第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层；第一、第二功能层为Ag层；中间电介质层为ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层。
2.根据权利要求1所述的高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的底层、顶层电介质层Si3N4层的膜层厚度范围为10～50nm。
3.根据权利要求1所述的高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层的膜层厚度范围为1～30nm。
4.根据权利要求1所述的高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的第一、第二功能层Ag层的膜层厚度范围为1～30nm。
5.根据权利要求1所述的高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃，其特征在于：所述的中间电介质层为ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层的膜层厚度范围为30～150nm。
6.一种高透型可钢化双银低辐射镀膜玻璃的制备方法，其特征在于：采用真空磁控溅射镀膜技术，在玻璃基板的表面逐层镀膜：在玻璃基板上镀底层电介质层；在底层电介质上镀第一阻挡层；在第一阻挡层上镀第一功能层；在第一功能层上镀第二阻挡层；在第二阻挡层上镀中间电介质层；在中间电介质层上镀第三阻挡层；在第三阻挡层上镀第二功能层；在第二功能层上镀第四阻挡层；在第四阻挡层上镀顶层电介质层。
7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于：所述的底层、顶层电介质层为Si3N4层；第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层；第一、第二功能层为Ag层；中间电介质层为ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层。
8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：所述的底层、顶层电介质层Si3N4层，使用硅铝靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体N2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW；真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：所述的第一，第二、第三、第四阻挡层为ZnO层或者AZO层或者NiCrOx层，使用锌铝靶或者AZO靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～80KW；真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
10.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：所述的第一、第二功能层Ag层，使用银靶，采用平面阴极，直流磁控溅射的方式，在工艺气体Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为1～20KW；真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
11.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于：所述的中间电介质层ZnSnO3层或者Si3N4和ZnSnO3的组合层，采用锌锡靶，采用旋转双阴极，中频电源溅射的方式，在工艺气体O2与Ar的参与下，溅射沉积形成膜；其溅射功率为10～100KW；真空溅射的工艺气压为：8.0E-3mbar～1.0E-3mbar。
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