JP2017228553A - 配線基板の製造方法 - Google Patents
配線基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017228553A JP2017228553A JP2016121386A JP2016121386A JP2017228553A JP 2017228553 A JP2017228553 A JP 2017228553A JP 2016121386 A JP2016121386 A JP 2016121386A JP 2016121386 A JP2016121386 A JP 2016121386A JP 2017228553 A JP2017228553 A JP 2017228553A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- wall
- hole
- wiring board
- core
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Abstract
【課題】隣接するスルーホール内の配線導体同士の電気的信頼性が良好な配線基板の製造方法を提供することを課題とする。
【解決手段】ガラス繊維1aにコア形成用樹脂1bを含浸させて成るコア基板1の両主面に金属層が形成された積層板10を準備する工程と、積層板10にスルーホール4を形成する工程と、金属層表面にめっき金属を析出させることでスルーホール4の開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部11を有するめっき層12を形成する工程と、スルーホール4内に内壁被覆用樹脂13を充填する工程と、めっき層12をマスクとして内壁被覆用樹脂13を掘削し、上面視で庇部11から露出する領域の内壁被覆用樹脂13を除去するとともに、庇部11で覆われた領域の内壁被覆用樹脂13を樹脂壁5として残す工程と、スルーホール4の内側から開口縁にかけて配線導体2aを形成する工程と、を行うことを特徴とする。
【選択図】図2
【解決手段】ガラス繊維1aにコア形成用樹脂1bを含浸させて成るコア基板1の両主面に金属層が形成された積層板10を準備する工程と、積層板10にスルーホール4を形成する工程と、金属層表面にめっき金属を析出させることでスルーホール4の開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部11を有するめっき層12を形成する工程と、スルーホール4内に内壁被覆用樹脂13を充填する工程と、めっき層12をマスクとして内壁被覆用樹脂13を掘削し、上面視で庇部11から露出する領域の内壁被覆用樹脂13を除去するとともに、庇部11で覆われた領域の内壁被覆用樹脂13を樹脂壁5として残す工程と、スルーホール4の内側から開口縁にかけて配線導体2aを形成する工程と、を行うことを特徴とする。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体集積回路素子などの半導体素子を搭載するために用いられる配線基板の製造方法に関するものである。
近年、ゲーム機や音楽プレーヤーに代表される電子機器の高機能化に伴い、これらの電子機器には、大量の信号を短時間で処理できる半導体素子が採用される。このような半導体素子には多数の電極が高密度に配設されているため、半導体素子が搭載される配線基板にも半田を介して電極と接続される配線導体が高密度に形成されている。そして、配線基板の両主面の配線導体同士を電気的に接続するためのスルーホールも高密度に形成されることから、スルーホール間の絶縁信頼性の確保が重要である。
このような、絶縁信頼性を考慮して形成される従来の配線基板の製造方法の一例を、図4および図5に示す。
このような、絶縁信頼性を考慮して形成される従来の配線基板の製造方法の一例を、図4および図5に示す。
まず、図4(a)に示すように、ガラス繊維21aにコア形成用樹脂21bを含浸させて成るコア基板21の両主面に、銅箔22が被着された両面銅張積層板23を準備する。
次に、図4(b)に示すように、両面銅張積層板23に複数のスルーホール24を形成する。スルーホール24は、例えばドリル加工やレーザー加工により形成される。
このとき、ガラス繊維21aとコア形成用樹脂21bとの間に間隙が生じて、スルーホール24の内壁にこの間隙が露出する場合がある。
このとき、ガラス繊維21aとコア形成用樹脂21bとの間に間隙が生じて、スルーホール24の内壁にこの間隙が露出する場合がある。
次に、図4(c)に示すように、銅箔22をエッチング除去する。
次に、図4(d)に示すように、スルーホール24内に内壁被覆用樹脂25を充填する。
次に、図4(e)に示すように、スルーホール24の内壁付近の内壁被覆用樹脂25を残しつつ、スルーホール24の一方の開口中央から他方の開口中央にかけて、内壁被覆用樹脂25を除去することで、スルーホール24の内壁表面に樹脂壁26を形成する。
内壁被覆用樹脂25は、例えばレーザー加工により除去される。
このような樹脂壁26は、ガラス繊維21aとコア形成用樹脂21bとの間隙を被覆することで、間隙を介して生じるマイグレーション等によって、隣接するスルーホール24内の配線導体同士の短絡不良を防ぐ役目を果たす。
内壁被覆用樹脂25は、例えばレーザー加工により除去される。
このような樹脂壁26は、ガラス繊維21aとコア形成用樹脂21bとの間隙を被覆することで、間隙を介して生じるマイグレーション等によって、隣接するスルーホール24内の配線導体同士の短絡不良を防ぐ役目を果たす。
次に、図5(f)に示すように、例えば周知のセミアディティブ法により、コア基板21の表面および樹脂壁26の表面にコア用の配線導体27aを形成する。
次に、図5(g)に示すように、コア基板21の表面およびコア用の配線導体27aの表面に絶縁層28を形成する。
次に、図5(h)に示すように、絶縁層28にコア用の配線導体27aの一部を底面とするビアホール29を形成する。
最後に、図5(i)に示すように、絶縁層28の表面およびビアホール29内に積層用の配線導体27bを形成することで、従来の配線基板が形成される。
ところが、従来の配線基板の製造方法によると、スルーホール24の一方の開口中央から他方の開口中央にかけて内壁被覆用樹脂25を除去する際に、レーザー光がスルーホール24の深さ方向に対して平行に照射されない場合や、照射精度の限界等の理由により樹脂壁26の厚みに偏りが生じることがある。このため、ガラス繊維21aとコア形成用樹脂21bとの間隙を樹脂壁26により完全に被覆できない部分が生じてしまい、隣接するスルーホール24内に形成されたコア用の配線導体27a同士が短絡してしまうという場合がある。
本発明は、隣接するスルーホール内の配線導体同士の電気的信頼性が良好な配線基板の製造方法を提供することを課題とする。
本発明における配線基板の製造方法は、ガラス繊維にコア形成用樹脂を含浸させて成るコア基板の両主面に金属層が形成された積層板を準備する工程と、積層板に複数のスルーホールを形成する工程と、両主面の金属層の表面にめっき金属を析出させることで、スルーホールの開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部を有するめっき層を形成する工程と、スルーホール内に内壁被覆用樹脂を充填する工程と、めっき層をマスクとして内壁被覆用樹脂を掘削し、上面視において庇部から露出する領域の内壁被覆用樹脂を除去するとともに、上面視において庇部で覆われた領域の内壁被覆用樹脂をスルーホールの内壁に樹脂壁として残す工程と、スルーホールの内側から開口縁にかけて、樹脂壁の表面を被覆するように配線導体を形成する工程と、を行うことを特徴とするものである。
本発明の配線基板の製造方法によれば、スルーホールの開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部を有するめっき層を形成する。そして、めっき層をマスクとして内壁被覆用樹脂を掘削し、上面視において庇部から露出する領域の内壁被覆用樹脂を除去するとともに、上面視において庇部で覆われた領域の内壁被覆用樹脂をスルーホールの内壁に樹脂壁として残す。
このように、開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部をマスクとして内壁被覆用樹脂を掘削することから、樹脂壁の厚みを一様に形成することができ、ガラス繊維と絶縁性樹脂との間隙を樹脂壁により完全に被覆することができる。
その結果、隣接するスルーホール内の配線導体同士の電気的信頼性が良好な配線基板の製造方法を提供することができる。
このように、開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部をマスクとして内壁被覆用樹脂を掘削することから、樹脂壁の厚みを一様に形成することができ、ガラス繊維と絶縁性樹脂との間隙を樹脂壁により完全に被覆することができる。
その結果、隣接するスルーホール内の配線導体同士の電気的信頼性が良好な配線基板の製造方法を提供することができる。
次に、図1により、本発明に係る配線基板の製造方法により形成される配線基板の一例を説明する。
図1に示すように本例の配線基板Aは、コア基板1と、コア用および積層用の配線導体2a、2bと、絶縁層3と、を備えている。
図1に示すように本例の配線基板Aは、コア基板1と、コア用および積層用の配線導体2a、2bと、絶縁層3と、を備えている。
コア基板1は、例えばガラス繊維1aにエポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等のコア形成用樹脂1bを含浸させた電気絶縁材料により形成される。
コア基板1は、複数のスルーホール4を有している。
各スルーホール4の内部には、内壁を被覆する樹脂壁5が形成されている。樹脂壁5は、例えばエポキシ樹脂等の電気絶縁材料により形成される。
コア基板1の厚みは、およそ100〜800μm程度である。
スルーホール4の開口径は、およそ50〜200μm程度である。
樹脂壁5の厚みは、およそ8〜13μm程度である。
コア基板1は、複数のスルーホール4を有している。
各スルーホール4の内部には、内壁を被覆する樹脂壁5が形成されている。樹脂壁5は、例えばエポキシ樹脂等の電気絶縁材料により形成される。
コア基板1の厚みは、およそ100〜800μm程度である。
スルーホール4の開口径は、およそ50〜200μm程度である。
樹脂壁5の厚みは、およそ8〜13μm程度である。
コア用の配線導体2aは、コア基板1の表面およびスルーホール4内に、銅めっき等の良導電性金属により形成される。
スルーホール4内に形成されたコア用の配線導体2aは、コア基板1の両表面に形成されたコア用の配線導体2a同士の導通をとっている。
スルーホール4内に形成されたコア用の配線導体2aは、コア基板1の両表面に形成されたコア用の配線導体2a同士の導通をとっている。
絶縁層3は、コア基板1の表面およびコア用の配線導体2aの表面に積層されている。絶縁層3は、エポキシ樹脂やビスマレイミドトリアジン樹脂等の熱硬化性樹脂に、シリカやアルミナ等の無機絶縁性粒子を分散させた電気絶縁材料により形成される。
絶縁層3は、コア用の配線導体2aの一部を底面とするビアホール6を有している。絶縁層3の表面およびビアホール6内には、積層用の配線導体2bが形成されている。上側の絶縁層3に形成された積層用の配線導体2bの一部は、半導体素子接続パッド7として機能する。半導体素子接続パッド7には、半導体素子Sの電極Tが半田を介して接続される。下側の絶縁層3に形成された積層用の配線導体2bの一部は、外部接続パッド8として機能する。外部接続パッド8には、外部電気基板(不図示)の電極が半田を介して接続される。これにより、半導体素子Sと外部電気基板とが電気的に接続される。
絶縁層3は、コア用の配線導体2aの一部を底面とするビアホール6を有している。絶縁層3の表面およびビアホール6内には、積層用の配線導体2bが形成されている。上側の絶縁層3に形成された積層用の配線導体2bの一部は、半導体素子接続パッド7として機能する。半導体素子接続パッド7には、半導体素子Sの電極Tが半田を介して接続される。下側の絶縁層3に形成された積層用の配線導体2bの一部は、外部接続パッド8として機能する。外部接続パッド8には、外部電気基板(不図示)の電極が半田を介して接続される。これにより、半導体素子Sと外部電気基板とが電気的に接続される。
次に、図2を基にして、本発明に係る配線基板の製造方法の一例を説明する。
なお、図1と同じ部材には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
なお、図1と同じ部材には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
まず、図2(a)に示すように、ガラス繊維1aにコア形成用樹脂1bを含浸させて形成されるコア基板1の上下両面に、厚みが3〜18μm程度の銅箔9が被着された両面銅張積層板10を準備する。
次に、図2(b)に示すように、両面銅張積層板10にドリル加工やレーザー加工、あるいはブラスト加工によりスルーホール4を穿孔する。
ドリル加工やレーザー加工によってスルーホール4を穿孔した後には、例えば過マンガン酸ナトリウム水溶液によりスルーホール4内部のスミアを除去することが好ましい。
ドリル加工やレーザー加工によってスルーホール4を穿孔した後には、例えば過マンガン酸ナトリウム水溶液によりスルーホール4内部のスミアを除去することが好ましい。
次に、図2(c)に示すように、銅箔9の表面に電解銅めっき処理を施す。これにより、スルーホール4の開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部11を有するめっき層12を形成する。
庇部11の長さは、およそ10〜15μm程度である。
庇部11の長さは、およそ10〜15μm程度である。
次に、図2(d)に示すように、スルーホール4の内部に内壁被覆用樹脂13を充填する。内壁被覆用樹脂13は、例えばエポキシ樹脂等のペースト状の熱硬化性樹脂を、スルーホール4内に注入して熱硬化することで形成される。
次に、図2(e)に示すように、めっき層12をマスクとして内壁被覆用樹脂13を掘削し、上面視において庇部11から露出する領域の内壁被覆用樹脂13を除去するとともに、上面視において庇部11で覆われた領域の内壁被覆用樹脂13をスルーホール4の内壁に樹脂壁5として残す。このように、開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部11をマスクとして内壁被覆用樹脂13を掘削するため、樹脂壁5の厚みを一様に形成することができる。
内壁被覆用樹脂13の掘削は、ブラスト加工を用いることが好ましい。
ブラスト加工は、微細粉体を混入した高圧の噴流をノズルから内壁被覆用樹脂13に対して噴射することで、内壁被覆用樹脂13を掘削することができる。なお、微細粉体としては、酸化アルミや酸化ケイ素、あるいは酸化鉄や酸化チタンなどが用いられる。微細紛体の最大径は3〜40μm程度である。
ブラスト加工を用いることで、内壁被覆用樹脂13の掘削面にスミアの発生を抑えられるので、掘削後にスミアを除去する工程が不要となる。また、微細紛体によって樹脂壁5表面に微細な溝が形成されるため、コア用の配線導体2aが樹脂壁5に強固に密着できる。
内壁被覆用樹脂13の掘削は、ブラスト加工を用いることが好ましい。
ブラスト加工は、微細粉体を混入した高圧の噴流をノズルから内壁被覆用樹脂13に対して噴射することで、内壁被覆用樹脂13を掘削することができる。なお、微細粉体としては、酸化アルミや酸化ケイ素、あるいは酸化鉄や酸化チタンなどが用いられる。微細紛体の最大径は3〜40μm程度である。
ブラスト加工を用いることで、内壁被覆用樹脂13の掘削面にスミアの発生を抑えられるので、掘削後にスミアを除去する工程が不要となる。また、微細紛体によって樹脂壁5表面に微細な溝が形成されるため、コア用の配線導体2aが樹脂壁5に強固に密着できる。
次に、図3(f)に示すように、めっき層12および銅箔9をエッチング除去する。
次に、図3(g)に示すように、コア基板1表面および樹脂壁5表面に、例えば周知のセミアディティブ法により無電解銅めっきおよび電解銅めっきから成るコア用の配線導体2aを形成する。
無電解銅めっきの厚みは、およそ0.1〜1μm程度、電解銅めっきの厚みは、およそ5〜30μm程度である。
無電解銅めっきの厚みは、およそ0.1〜1μm程度、電解銅めっきの厚みは、およそ5〜30μm程度である。
次に、図3(h)に示すように、コア基板1表面およびコア用の配線導体2a表面に絶縁層3を形成する。絶縁層3は、例えば半硬化状の絶縁フィルムを真空下にてコア基板1表面およびコア用の配線導体2a表面に貼着して熱硬化することで形成される。
次に、図3(i)に示すように、絶縁層3にコア用の配線導体2aの一部を底面とするビアホール14を形成する。ビアホール14は、例えばレーザー加工やブラスト加工により形成される。ビアホール14の開口径は、およそ30〜100μm程度である。
最後に、図3(j)に示すように、絶縁層3表面およびビアホール14内に積層用の配線導体2bを形成する。積層用の配線導体2bもコア用の配線導体2aと同様に、例えば周知のセミアディティブ法により形成すればよい。
上述のように本発明に係る配線基板の製造方法によれば、スルーホール4の開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部11を有するめっき層12を形成する。そして、めっき層12をマスクとして内壁被覆用樹脂13を掘削し、上面視において庇部11から露出する領域の内壁被覆用樹脂13を除去するとともに、上面視において庇部11で覆われた領域の内壁被覆用樹脂13をスルーホール4の内壁に樹脂壁5として残す。
このように、開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部11をマスクとして内壁被覆用樹脂13を掘削することから、樹脂壁5の厚みを一様に形成することが可能になり、ガラス繊維1aとコア形成用樹脂1bとの間隙を樹脂壁5により完全に被覆することができる。
その結果、隣接するスルーホール内の配線導体同士の電気的信頼性が良好な配線基板の製造方法を提供することができる。
このように、開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部11をマスクとして内壁被覆用樹脂13を掘削することから、樹脂壁5の厚みを一様に形成することが可能になり、ガラス繊維1aとコア形成用樹脂1bとの間隙を樹脂壁5により完全に被覆することができる。
その結果、隣接するスルーホール内の配線導体同士の電気的信頼性が良好な配線基板の製造方法を提供することができる。
1 コア基板
1a ガラス繊維
1b コア形成用樹脂
2a 配線導体
4 スルーホール
5 樹脂壁
10 積層板
11 庇部
12 めっき層
13 内壁被覆用樹脂
A 配線基板
1a ガラス繊維
1b コア形成用樹脂
2a 配線導体
4 スルーホール
5 樹脂壁
10 積層板
11 庇部
12 めっき層
13 内壁被覆用樹脂
A 配線基板
Claims (2)
- ガラス繊維にコア形成用樹脂を含浸させて成るコア基板の両主面に金属層が形成された積層板を準備する工程と、
前記積層板に複数のスルーホールを形成する工程と、
前記両主面の金属層の表面にめっき金属を析出させることで、前記スルーホールの開口縁から開口中央に向けて一様な長さに延びる庇部を有するめっき層を形成する工程と、
前記スルーホール内に内壁被覆用樹脂を充填する工程と、
前記めっき層をマスクとして前記内壁被覆用樹脂を掘削し、上面視において前記庇部から露出する領域の前記内壁被覆用樹脂を除去するとともに、上面視において前記庇部で覆われた領域の前記内壁被覆用樹脂を前記スルーホールの内壁に樹脂壁として残す工程と、
前記スルーホールの内側から開口縁にかけて、前記樹脂壁の表面を被覆するように配線導体を形成する工程と、
を行うことを特徴とする配線基板の製造方法。 - 前記内壁被覆用樹脂を、前記めっき層をマスクとしてブラスト加工により掘削することを特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016121386A JP2017228553A (ja) | 2016-06-20 | 2016-06-20 | 配線基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016121386A JP2017228553A (ja) | 2016-06-20 | 2016-06-20 | 配線基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2017228553A true JP2017228553A (ja) | 2017-12-28 |
Family
ID=60892011
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016121386A Pending JP2017228553A (ja) | 2016-06-20 | 2016-06-20 | 配線基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2017228553A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111225517A (zh) * | 2019-12-03 | 2020-06-02 | 厦门弘信电子科技集团股份有限公司 | 一种fpc的孔图形电镀方法 |
-
2016
- 2016-06-20 JP JP2016121386A patent/JP2017228553A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111225517A (zh) * | 2019-12-03 | 2020-06-02 | 厦门弘信电子科技集团股份有限公司 | 一种fpc的孔图形电镀方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9247644B2 (en) | Wiring board and method for manufacturing the same | |
US11812556B2 (en) | Printed circuit board and manufacturing method thereof | |
KR20090037801A (ko) | 코어 기판 및 그 제조 방법 | |
JP7097139B2 (ja) | 配線基板 | |
JP2019176068A (ja) | 印刷配線板および印刷配線板の製造方法 | |
TW201524297A (zh) | 配線基板的製造方法 | |
JP2014150091A (ja) | 配線基板およびその製造方法 | |
JP7234049B2 (ja) | プリント配線基板 | |
JP2017228553A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2012160559A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2016092052A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2013229421A (ja) | 配線基板 | |
JP6258810B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP4160765B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
KR102191573B1 (ko) | 인쇄회로기판 및 이의 제조 방법 | |
JP2009290044A (ja) | 配線基板 | |
JP2009290043A (ja) | 配線基板 | |
JP2012160558A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2014107526A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP6247353B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP3988664B2 (ja) | 多層プリント配線板及びその製造方法 | |
JP2016207763A (ja) | 部品内蔵配線基板およびその製造方法 | |
JP2015070105A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2007150348A (ja) | 配線基板および電子部品搭載構造体 | |
JP2020194875A (ja) | 配線基板およびそれを用いた電子部品実装構造体 |