JP2017215063A

JP2017215063A - 定温水供給システム

Info

Publication number: JP2017215063A
Application number: JP2016107561A
Authority: JP
Inventors: 正臣松本; Masaomi Matsumoto; 優斉藤; Masaru Saito
Original assignee: Disco Abrasive Systems Ltd
Current assignee: Disco Corp
Priority date: 2016-05-30
Filing date: 2016-05-30
Publication date: 2017-12-07
Also published as: US20170341198A1; KR102260928B1; TWI718287B; US10183370B2; KR20170135685A; TW201803688A; CN107443167A

Abstract

【課題】外部要因による水温のバラツキを抑えて、所望温度の水を加工装置に供給すること。
【解決手段】水供給源（２）からの水を定温水供給装置（３）で定温に調整して加工装置（４）に供給する定温水供給システムであり、定温水供給装置には加工水及び冷却水を所定温度に調整する水温調整手段（１６、２６）と、水温調整手段の所定温度を設定し直す水温制御部（４６、４９）とが設けられ、加工装置には加工水及び冷却水の水温を検出する水温検出手段（４１、４２）と、水温検出手段に検出された水温と予め設定した所望温度の温度差を算出する水温管理部（４５、４８）とが設けられている。加工装置の水温管理部から定温水供給装置の温調制御部に温度差がフィードバックされることで、温調制御部によって水温調整手段の所定温度が加工装置で所望温度になるように再設定される。
【選択図】図１

Description

本発明は、水供給源からの水を一定温度に調整して、加工装置に供給する定温水供給システムに関する。

一般に研削装置や切削装置等の加工装置では、加工水やスピンドルの冷却水等の水温が一定温度に管理されている。一定温度の加工水や冷却水の供給によって、機械部品の熱膨張及び熱収縮による加工精度の悪化や、スピンドルのかじり等のように部品同士の接触によって装置自体を損傷させることを防止している。従来、加工装置に供給される水を定温水供給装置で一定温度に保つ定温水供給システムが知られている（例えば、特許文献１参照）。定温水供給システムは、貯留タンクから加工装置に至る流路の途中に温度調整器が設けられ、温度調整器によって一定温度に調整された水が加工装置に供給される。

特開２００７−１２７３４３号公報

ところで、定温水供給システムでは、定温水供給装置と加工装置が同一フロアに設置されているとは限らない。このため、定温水供給装置と加工装置の設置場所が離れていると、定温水供給装置から加工装置に向かう間に使用環境等の外部要因の影響を受けて配管内で温度が変化してしまっていた。このため、定温水供給装置で所望の温度に調整した加工水や冷却水が加工装置に供給されても、加工装置に供給される際には水温が数度以上変化してしまって、噴射ノズルからの噴射や加工装置の冷却を所望温度で行うことができないという問題があった。

本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、外部要因による水温のバラツキを抑えて、所望温度の水を加工装置に供給することができる定温水供給システムを提供することを目的とする。

本発明の定温水供給システムは、水供給源から供給された水を所定温度に調整して供給する定温水供給装置と、該定温水供給装置から供給された水を使用する加工装置と、該加工装置で使用する水が所望温度になるように該定温水供給装置を制御する制御手段とを備える定温水供給システムであって、該定温水供給装置は、水供給源から供給された該加工装置で使用する水を貯留する貯留タンクと、該貯留タンクから該加工装置に至る流路上に配設され該加工装置へ水を送出する送出ポンプと、該流路上の該送出ポンプよりも下流に配設され水温を所定温度Ｔに調整する水温調整手段とを備え、該加工装置は、該加工装置内に供給された水の水温を検出する水温検出手段を備え、該制御手段は、該加工装置内の該水温検出手段が検出した水温Ｔ０を受信して予め記憶されている所望温度Ｔ１との差Ｔ１−Ｔ０＝Δを算出する水温管理部と、該水温管理部で算出された該差Δ情報を受信し該定温水供給装置の該水温調整手段の該所定温度Ｔに該差Δを加算して設定し直す温調制御部と、を含み、水を該所望温度で該加工装置内に供給することを特徴とする。

この構成によれば、加工装置で検出された水温と所望温度との温度差が定温水供給装置にフィードバックされて、定温水供給装置において温度差を反映した所定温度が再設定される。すなわち、加工装置が設置された使用環境で検出された水温と所望温度との温度差によって、定温水供給装置が設置された使用環境での所定温度の設定誤差が補正される。定温水供給装置において再設定後の所定温度に水温が調整されることで、定温水供給装置から加工装置に水が供給される間に所定温度から加工装置の所望温度に水温が変化する。よって、定温水供給装置から加工装置に水が供給される間に外部要因等によって水温が変化しても、所望温度の水を加工装置に供給することができる。

また、本発明の定温水供給システムにおいて、該制御手段の該水温管理部は該加工装置内に配設され、該水温管理部から該定温水供給装置の該温調制御部へ無線又は有線の通信手段により該差Δ情報が送信される。

また、本発明の定温水供給システムにおいて、該制御手段の該水温管理部は該定温水供給装置内に配設され、該加工装置内の該水温検出手段から該定温水供給装置内の該水温管理部へ水温Ｔ０の情報が無線又は有線の通信手段により送信される。

本発明によれば、加工装置で検出された水温と所望温度との温度差を定温水供給装置にフィードバックして温度調整することで、外部要因による水温のバラツキを抑えて、定温水供給装置から所望温度の水を加工装置に供給することができる。

本実施の形態の定温水供給システムの模式図である。本実施の形態の定温水供給システムによる温度調整動作の説明図である。変形例の定温水供給システムによる温度調整動作の説明図である。

以下、添付図面を参照して、本実施の形態の定温水供給システムについて説明する。図１は、本実施の形態の定温水供給システムの模式図である。なお、以下の説明では、加工装置として切削装置を備えた定温水供給システムを例示するが、この構成に限定されない。加工装置は、定温水供給装置から供給された水を使用する構成であればよく、例えば、研削等の他の加工装置であってもよい。

図１に示すように、定温水供給システム１は、水供給源２からの水を定温水供給装置３で定温に調整して加工装置４に供給するものであり、加工水（加工用の水）を供給する第１系統１０と冷却水（冷却用の水）を供給する第２系統２０と備えている。第１系統１０では、加工装置４の噴射ノズル５から加工水が噴射されて加工箇所が冷却及び洗浄される。供給後の加工水は加工装置４のウォータケース（不図示）等を介して外部に排水される。加工水は加工対象のワーク等にも吹き付けられるため、加工精度に影響が生じないように所望温度に調整されている。

第２系統２０では、スピンドル６内のウォータジャケット（不図示）等に冷却水が供給されて、スピンドルシャフトが冷却される。冷却水はスピンドルシャフトを冷却すればよいため、加工水のような純度や温度調整が不要であり、定温水供給装置３と加工装置４の間で循環されている。このように、加工装置４の稼働時には、水供給源２からの水が第１系統１０を通じて加工装置４に供給され続けると共に、第２系統２０で水が循環してスピンドル６の摩擦熱を冷却し続けている。なお、第２系統２０ではスピンドル６に加えて、チャックテーブル（不図示）を冷却するようにしてもよい。

第１系統１０には、第１貯留タンク（貯留タンク）１１から加工装置４に至る第１流路１２が設けられている。第１流路１２上には、上流から下流に向かって定温水供給装置３の第１貯留タンク１１、第１送出ポンプ（送出ポンプ）１４、第１圧力検出手段１５、第１水温調整手段１６、第１フィルタ１７が順に設けられている。第１貯留タンク１１には水供給源２から供給された加工水が貯留されており、第１貯留タンク１１内の水は第１送出ポンプ１４によって第１貯留タンク１１から加工装置４の噴射ノズル５に向けて送出されている。

第１送出ポンプ１４の送出圧は第１圧力検出手段１５によって検出され、第１圧力検出手段１５の検出結果に応じて第１送出ポンプ１４の送出圧が調整されている。第１流路１２上の第１送出ポンプ１４の下流では、第１水温調整手段１６によって水温が所定温度に調整される。第１水温調整手段１６は、チラーユニット等の第１冷却手段１８とヒータ等の加熱手段１９とから成り、第１冷却手段１８の冷却と加熱手段１９の加熱を組み合わせて水が所定温度に調整される。所定温度になった水は第１フィルタ１７を通過して、加工水として加工装置４に向けて供給される。

第２系統２０には、第２貯留タンク（貯留タンク）２１から加工装置４のスピンドル６に至る第２流路２２と、加工装置４のスピンドル６から第２貯留タンク２１に至る循環流路２３とが設けられている。第２流路２２上には、上流から下流に向かって定温水供給装置３の第２貯留タンク２１、第２送出ポンプ（送出ポンプ）２４、第２圧力検出手段２５、第２水温調整手段２６、第２フィルタ２７が順に設けられている。第２貯留タンク２１には加工装置４の冷却水が貯留されており、第２貯留タンク２１内の水は第２送出ポンプ２４によって第２貯留タンク２１から加工装置４のスピンドル６に向けて送出されている。

第２送出ポンプ２４の送出圧は第２圧力検出手段２５によって検出され、第２圧力検出手段２５の検出結果に応じて第２送出ポンプ２４の送出圧が調整されている。第２流路２２上の第２送出ポンプ２４の下流では、第２水温調整手段２６におけるチラーユニット等の第２冷却手段２８によって水温が所定温度に冷却される。所定温度以下に冷却された水は第２フィルタ２７を通過して、冷却水として加工装置４内のスピンドル６に供給される。また、スピンドル冷却後の水は、循環流路２３を通じて第２貯留タンク２１内に戻されて、第２貯留タンク２１とスピンドル６との間で循環されている。

また、第１系統１０には、第１水温調整手段１６の下流で第１流路１２から分岐して第２貯留タンク２１に連通する定温水供給流路３１が設けられ、定温水供給流路３１を通じて第１流路１２から第２貯留タンク２１に所定温度に調整された水が供給される。第１流路１２から定温水供給流路３１への分岐箇所には、第２貯留タンク２１への給水を切り替える電磁弁３２が配設されている。なお、第２流路２２に排水路を接続して、第２系統２０を循環する冷却水の一部を排水すると共に第１系統１０の加工水の一部を第２系統２０に供給して、第２系統２０内の水を定期的に入れ換えるようにしてもよい。

このように構成された定温水供給システム１では、定温水供給装置３で温度調整された加工水が加工装置４に供給されて、ブレードカバーの噴射ノズル５から加工箇所に向けて噴射される。また、定温水供給装置３で温度調整された冷却水が、加工装置４のスピンドル６と定温水供給装置３との間で冷却水が循環される。また、定温水供給システム１では、加工水用の第１系統１０と冷却水用の第２系統２０とに分かれているため、第１系統１０と第２系統２０とで加工水の温度と冷却水の温度とを個別に調整することが可能になっている。

ところで、定温水供給システム１では、定温水供給装置３と加工装置４が近くに設置されているとは限らず、クリーン度が異なる離れた場所に設置されることが多い。定温水供給装置３と加工装置４とが離れているため、定温水供給装置３と加工装置４とを繋ぐ配管が長く形成されている。このため、定温水供給装置３から加工装置４に向かう配管内で使用環境等の様々な外部要因の影響を受け易く、加工装置に供給される際には水温が数度以上変化する場合がある。定温水供給装置３において配管内での温度変化を予測して温度調整することも考えられるが、外部要因を考慮した温度変化を適正に予測することが困難になっていた。

そこで、本実施の形態では、加工装置４の噴射ノズル５への供給直前の加工水の水温を第１水温検出手段４１で検出し、加工装置４のスピンドル６への供給直前の冷却水の水温を第２水温検出手段４２で検出している。そして、加工装置４での所望温度に対する検出温度の温度差を定温水供給装置３にフィードバックして、定温水供給装置３において第１、第２水温調整手段１６、２６で温度差を考慮して再び温度調整するようにしている。これにより、外部要因による水温のバラツキを抑えて、定温水供給装置３から所望温度の加工水と冷却水を加工装置４に供給することが可能になっている。

この場合、定温水供給システム１には、第１制御手段４４として第１水温管理部（水温管理部）４５、第１温調制御部（温調制御部）４６が設けられ、第２制御手段４７として第２水温管理部（水温管理部）４８、第２温調制御部（温調制御部）４９が設けられている。第１、第２水温管理部４５、４８は、それぞれ加工装置４内に配設されており、第１、第２温調制御部４６、４９は、それぞれ定温水供給装置３内に配設されている。加工装置４の第１、第２水温管理部４５、４８及び定温水供給装置３の第１、第２温調制御部４６、４９は、無線又は有線の通信手段によって通信可能に接続されている。

また、第１水温管理部４５には、加工水の所望温度Ｔ１ａが予め記憶されている。第１水温管理部４５は、加工装置４内に配設された第１水温検出手段４１で検出した水温Ｔ０ａを受信し、水温Ｔ０ａと予め記憶された所望温度Ｔ１ａとの差Δａ（Δａ＝Ｔ１ａ−Ｔ０ａ）を算出する。第１水温管理部４５から第１温調制御部４６に通信手段によって差Δａ情報が送信される。第１温調制御部４６は、第１水温管理部４５から差Δａ情報を受信して、第１水温調整手段１６の現在の所定温度Ｔａに差Δａを加算して新たな所定温度Ｔａに設定し直している。

同様に、第２水温管理部４８には、冷却水の所望温度Ｔ１ｂが予め記憶されている。第２水温管理部４８は、加工装置４内に配設された第２水温検出手段４２で検出した水温Ｔ０ｂを受信し、水温Ｔ０ｂと予め記憶された所望温度Ｔ１ｂとの差Δｂ（Δｂ＝Ｔ１ｂ−Ｔ０ｂ）を算出する。第２水温管理部４８から第２温調制御部４９に通信手段によって差Δｂ情報が送信される。第２温調制御部４９は、第２水温管理部４８から差Δｂ情報を受信して、第２水温調整手段２６の現在の所定温度Ｔｂに差Δｂを加算して新たな所定温度Ｔｂに設定し直している。

このように、加工装置４での所望温度Ｔ１ａ、Ｔ１ｂに対する水温Ｔ０ａ、Ｔ０ｂの温度差Δａ、Δｂが定温水供給装置３にフィードバックされて、定温水供給装置３では温度差Δａ、Δｂを反映した新たな所定温度Ｔａ、Ｔｂに再設定される。これにより、定温水供給装置３において加工水が新たな所定温度Ｔａに調整され、冷却水が新たな所定温度Ｔｂ以下に調整される。よって、定温水供給装置３から加工装置４に向かう配管内で加工水が所望温度Ｔ１ａに温度変化し、冷却水が所望温度Ｔ１ｂに温度変化して、加工装置４で適切な温度管理が可能になっている。

なお、第１制御手段４４の第１水温管理部４５及び第１温調制御部４６、第２制御手段４７の第２水温管理部４８及び第２温調制御部４９は、それぞれ各種処理を実行するプロセッサ、メモリ、送受信回路等によって構成されている。メモリは、用途に応じてＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等の一つ又は複数の記憶媒体で構成される。メモリには所望温度Ｔ１ａ、Ｔ１ｂ等のパラメータの他、各種制御プログラムが記憶されている。

以下、図２を参照して、定温水供給システムによる温度調整動作について具体的に説明する。図２は、本実施の形態の定温水供給システムによる温度調整動作の説明図である。なお、図２では、第１流路から第２貯留タンクに給水を停止した状態を示しているが、第１流路から第２貯留タンクへ給水していてもよい。

図２に示すように、定温水供給システム１では、定温水供給装置３と加工装置４とが別フロア等に設置され、装置間を結ぶ配管内で水が温度変化し易くなっている。このような定温水供給システム１で加工装置４が稼働されると、第１貯留タンク１１から第１送出ポンプ１４によって加工水が送出される。第１水温調整手段１６では所定温度Ｔａ（例えば、２１℃）が設定されており、第１水温調整手段１６において加工水が所定温度Ｔａに調整される。温度調整後の加工水は、加工装置４の噴射ノズル５から加工点に向けて噴射され、加工装置４のウェータケース等を介して外部に排出される。

このとき、加工装置４の噴射ノズル５の手前の配管内には第１水温検出手段４１が配設されており、第１水温検出手段４１によって噴射ノズル５から噴射直前の加工水の水温Ｔ０ａ（例えば、２２℃）が検出される。加工水の水温Ｔ０ａは外部要因等によって配管内で所定温度Ｔａから変化している。そして、第１水温検出手段４１から第１水温管理部４５に水温Ｔ０ａが出力されて、第１水温管理部４５によって所望温度Ｔ１ａ（例えば、２１℃）と水温Ｔ０ａ（２２℃）の差Δａ（−１℃）が算出される。差Δａが第１温調制御部４６に送信されて、第１温調制御部４６において差Δａに基づいて所定温度Ｔａの変更指令が生成される。

第１温調制御部４６では現在の所定温度Ｔａ（２１℃）に差Δａ（−１℃）を加算させる変更指令が生成され、第１水温調整手段１６では第１温調制御部４６からの変更指令に基づいて新たな所定温度Ｔａ（２０℃）が設定される。温度調整後の加工水は加工装置４に向かうまでの配管内で外部要因等によって温度変化するが、配管内の温度変化によって所望温度Ｔ１ａ（２１℃）に調整される。このように、定温水供給装置３では外部要因による温度変化を考慮して加工水が温度調整され、加工装置４で所望温度になった加工水が噴射ノズル５から噴射される。

また、定温水供給システム１では、定期的に第１流路１２から定温水供給流路３１を介して第２貯留タンク２１に加工水が供給され、第２貯留タンク２１で冷却水として貯留されている。加工装置４の稼働時には、第２貯留タンク２１から第２送出ポンプ２４によって冷却水が送出される。第２水温調整手段２６では所定温度Ｔｂ（例えば、２２℃）が設定されており、第２水温調整手段２６において加工水が所定温度Ｔｂ以下に調整される。温度調整後の加工水は、加工装置４のスピンドル６に供給され、さらに循環流路２３を通じて第２貯留タンク２１に戻される。

このとき、加工装置４のスピンドル６の手前の配管内には第２水温検出手段４２が配設されており、第２水温検出手段４２によってスピンドル６の供給直前の冷却水の水温Ｔ０ｂ（例えば、２４℃）が検出される。冷却水の水温Ｔ０ｂは外部要因等によって配管内で所定温度Ｔｂから変化している。そして、第２水温検出手段４２から第２水温管理部４８に水温Ｔ０ｂが出力されて、第１水温管理部４５によって所望温度Ｔ１ｂ（例えば、２２℃）と水温Ｔ０ｂ（２４℃）の差Δｂ（−２℃）が算出される。差Δｂは第２温調制御部４９に送信され、第２温調制御部４９において差Δｂに基づいて所定温度Ｔｂの変更指令が生成される。

第２温調制御部４９では現在の所定温度Ｔｂ（２２℃）に差Δｂ（−２℃）を加算させる変更指令が生成され、第２水温調整手段２６では第２温調制御部４９からの変更指令に基づいて新たな所定温度Ｔｂ（２０℃）が設定される。温度調整後の冷却水は加工装置４に向かうまでの配管内で外部要因等によって温度変化するが、配管内の温度変化によって所望温度Ｔ１ｂ（２２℃）以下に調整される。このように、定温水供給装置３では外部要因による温度変化を考慮して冷却水が温度調整され、加工装置４で所望温度以下になった水でスピンドルが冷却される。

なお、冷却水はスピンドルシャフトを冷却可能であればよく、加工水のような高度な温度調整が不要であり、少なくとも所望温度Ｔ１ｂ以下に調整されていればよい。このため、加工装置４での冷却水の水温Ｔ０ｂが所望温度Ｔ１ｂよりも高い場合にのみ、定温水供給装置３で所定温度Ｔｂの再設定が必要になる。加工装置４での冷却水の水温Ｔ０ｂが所望温度Ｔ１ｂ以下の場合には、定温水供給装置３で所定温度Ｔｂを再設定する必要はない。よって、第２水温管理部４８、第２温調制御部４９における各種算出処理や制御処理が省略される。

以上のように、本実施の形態の定温水供給システム１では、加工装置４で検出された水温と所望温度との温度差が定温水供給装置３にフィードバックされて、定温水供給装置３において温度差を反映した所定温度が再設定される。すなわち、加工装置４が設置された使用環境で検出された水温と所望温度との温度差によって、定温水供給装置３が設置された使用環境での所定温度の設定誤差が補正される。この再設定後の所定温度に定温水供給装置で水温が調整されることで、定温水供給装置３から加工装置４に水が供給される間に所定温度から加工装置４の所望温度に水温が変化する。よって、定温水供給装置３から加工装置４に水が供給される間に外部要因等によって水温が変化しても、所望温度の水を加工装置４に供給することができる。

なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。

例えば、上記した実施の形態において、第１、第２水温管理部４５、４８が加工装置４内に配設され、第１、第２温調制御部４６、４９が定温水供給装置３内に配設される構成にしたが、この構成に限定されない。例えば、図３に示すように、第１、第２水温管理部４５、４８が定温水供給装置３内に配設されてもよい。以下、図３を参照して、変形例の定温水管理システムについて簡単に説明する。なお、変形例では本実施の形態と同様な構成は極力省略して説明し、本実施の形態と同一名称については同じ符号を付して説明する。

図３に示すように、変形例の定温水供給システム１では、加工装置４内の第１水温検出手段４１で水温Ｔ０ａが検出されると、第１水温検出手段４１から定温水供給装置３内の第１水温管理部４５に水温Ｔ０ａが無線又は有線の通信手段で送信される。第１水温管理部４５では、加工装置４での水温Ｔ０ａと所望温度Ｔ１ａの差Δａが算出されて、第１温調制御部４６によって差Δａに基づいて第１水温調整手段１６の所定温度Ｔａが再設定される。これにより、定温水供給装置３で加工水が温度調整されて、加工装置４で所望温度になった加工水が噴射ノズル５から噴射される。

加工装置４内の第２水温検出手段４２で水温Ｔ０ｂが検出されると、第２水温検出手段４２から定温水供給装置３内の第２水温管理部４８に水温Ｔ０ｂが無線又は有線の通信手段で送信される。第２水温管理部４８では、加工装置４での水温Ｔ０ｂと所望温度Ｔ１ｂの差Δｂが算出されて、第２温調制御部４９によって差Δｂに基づいて第２水温調整手段２６の所定温度Ｔｂが再設定される。これにより、定温水供給装置３で冷却水が温度調整されて、加工装置４で所望温度になった冷却水がスピンドル６に供給される。よって、変形例の定温水供給システム１でも、本実施の形態と同様な効果を得ることができる。

また、第１、第２温調制御部４６、４９が加工装置４に配設される構成にしてもよい。この場合、加工装置４内の第１、第２温調制御部４６、４９によって、無線又は有線の通信手段を介して定温水供給装置３の第１、第２水温調整手段１６、２６の加工水及び冷却水の温度調整が制御される。すなわち、加工装置４から定温水供給装置３に変更指令が送信され、変更指令に基づいて定温水供給装置３の第１、第２水温調整手段１６、２６の所定温度Ｔａ、Ｔｂが再設定される。このような構成であっても、本実施の形態と同様な効果を得ることができる。

さらに、第１、第２水温管理部４５、４８及び第１、第２温調制御部４６、４９は、定温水供給装置３又は加工装置４に配設される構成に限らず、定温水供給装置３又は加工装置４に無線又は有線の通信手段で接続された外部装置に配設されてもよい。

また、上記した実施の形態において、第１系統１０の第１流路１２から第２系統２０の第２貯留タンク２１に加工水が供給される構成にしたが、この構成に限定されない。第１系統１０と第２系統２０が完全に分離されていてもよく、加工水と冷却水の供給元が異なっていてもよい。例えば、第１系統１０には水供給源２からの純水等が加工水として使用され、第２系統２０では水道からの水道水等が冷却水として使用されてもよい。

また、上記した実施の形態において、第１水温検出手段４１によって噴射ノズル５から噴射直前の加工水の水温が検出される構成にしたが、この構成に限定されない。第１水温検出手段４１は加工装置４の配管内で加工水の水温を検出すればよい。また、第２水温検出手段４２によってスピンドル６への供給直前の冷却水の水温が検出される構成にしたが、この構成に限定されない。第２水温検出手段４２は加工装置４の配管内で冷却水の水温を検出すればよい。

また、上記した実施の形態において、冷却水がスピンドル６に供給される構成にしたが、この構成に限定されない。冷却水は加工装置４で冷却が必要な箇所に供給されればよく、例えばチャックテーブル内の冷却流路に供給されてもよい。

以上説明したように、本発明は、外部要因による水温のバラツキを抑えて、所望温度の水を加工装置に供給することができるという効果を有し、特に、切削装置や研削装置等の加工装置に加工水及び冷却水を供給する定温水供給システムに有用である。

１定温水供給システム
２水供給源
３定温水供給装置
４加工装置
１１第１貯留タンク
１４第１送出ポンプ
１６第１水温調整手段
２１第２貯留タンク
２４第２送出ポンプ
２６第２水温調整手段
４１第１水温検出手段
４２第２水温検出手段
４４第１制御手段
４５第１水温管理部
４６第１温調制御部
４７第２制御手段
４８第２水温管理部
４９第２温調制御部
Ｔａ、Ｔｂ所定温度
Ｔ１ａ、Ｔ２ａ所望温度

Claims

水供給源から供給された水を所定温度に調整して供給する定温水供給装置と、該定温水供給装置から供給された水を使用する加工装置と、該加工装置で使用する水が所望温度になるように該定温水供給装置を制御する制御手段とを備える定温水供給システムであって、
該定温水供給装置は、水供給源から供給された該加工装置で使用する水を貯留する貯留タンクと、該貯留タンクから該加工装置に至る流路上に配設され該加工装置へ水を送出する送出ポンプと、該流路上の該送出ポンプよりも下流に配設され水温を所定温度Ｔに調整する水温調整手段とを備え、
該加工装置は、該加工装置内に供給された水の水温を検出する水温検出手段を備え、
該制御手段は、該加工装置内の該水温検出手段が検出した水温Ｔ０を受信して予め記憶されている所望温度Ｔ１との差Ｔ１−Ｔ０＝Δを算出する水温管理部と、該水温管理部で算出された該差Δ情報を受信し該定温水供給装置の該水温調整手段の該所定温度Ｔに該差Δを加算して設定し直す温調制御部と、を含み、
水を該所望温度で該加工装置内に供給することを特徴とする定温水供給システム。
該制御手段の該水温管理部は該加工装置内に配設され、該水温管理部から該定温水供給装置の該温調制御部へ無線又は有線の通信手段により該差Δ情報が送信されることを特徴とする請求項１記載の定温水供給システム。
該制御手段の該水温管理部は該定温水供給装置内に配設され、該加工装置内の該水温検出手段から該定温水供給装置内の該水温管理部へ水温Ｔ０の情報が無線又は有線の通信手段により送信されることを特徴とする請求項１記載の定温水供給システム。