JP2017203848A - 表示装置用基板、表示装置及び表示装置用基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】混色及び輝度低下を防ぐことができる表示装置用基板、表示装置及び表示装置用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】表示装置用基板は、第１基板と、複数の色領域を含み且つ第１基板に重なる透光性着色層と、複数の色領域の間の位置で第１基板に重なる第１透光性樹脂層と、第１透光性樹脂層に対して第１基板とは反対側に重なる遮光層と、を備える。第１基板に対する垂直断面において、第１基板に平行な方向の遮光層の幅は、第１透光性樹脂層の幅以下である。
【選択図】図３
【解決手段】表示装置用基板は、第１基板と、複数の色領域を含み且つ第１基板に重なる透光性着色層と、複数の色領域の間の位置で第１基板に重なる第１透光性樹脂層と、第１透光性樹脂層に対して第１基板とは反対側に重なる遮光層と、を備える。第１基板に対する垂直断面において、第１基板に平行な方向の遮光層の幅は、第１透光性樹脂層の幅以下である。
【選択図】図３
Description
本発明は、表示装置用基板、表示装置及び表示装置用基板の製造方法に関する。
表示装置においては、高画素密度化（高精細化）が求められている。画素密度が高くなると画素ピッチが小さくなるので、混色が生じやすくなる。遮光層（ブラックマトリックス）の幅を大きくすることで混色は抑制されるものの、開口率が小さくなるので輝度が低下する。例えば特許文献１には、逆テーパー形状の遮光層によって混色が抑制されることが記載されている。
しかしながら、特許文献１に記載されるような遮光層が用いられる場合、遮光層の形状によって混色は抑制されるものの、輝度低下は改善されにくい。このため、混色及び輝度低下を防ぐことができる表示装置が求められている。
本発明は、上記の課題に鑑みてなされたもので、混色及び輝度低下を防ぐことができる表示装置用基板、表示装置及び表示装置用基板の製造方法を提供することを目的とする。
本発明の一態様の表示装置用基板は、第１基板と、複数の色領域を含み、且つ前記第１基板に重なる透光性着色層と、前記複数の色領域の間の位置で第１基板に重なる第１透光性樹脂層と、前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、を備え、前記第１基板に対する垂直断面において、前記第１基板に平行な方向の前記遮光層の幅は、前記第１透光性樹脂層の幅以下である。
本発明の一態様の表示装置は、第１基板を備える表示装置用基板と、前記第１基板に重なる第２基板と、前記表示装置用基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、を備え、前記表示装置用基板は、複数の色領域を含み、且つ前記第１基板に重なる透光性着色層と、前記複数の色領域の間の位置で第１基板に重なる第１透光性樹脂層と、前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、を備え、前記第１基板に対する垂直断面において、前記第１基板に平行な方向の前記遮光層の幅は、前記第１透光性樹脂層の幅以下である。
本発明の一態様の表示装置用基板の製造方法は、第１基板に第１透光性樹脂層を形成する第１ステップと、前記第１ステップの後、前記第１透光性樹脂層に重なる遮光層を形成する第２ステップと、を含む。
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
図１は、本実施形態に係る表示装置を示す模式図である。図２は、本実施形態に係る表示装置を示す平面図である。図３は、図２におけるＡ−Ａ断面図である。より具体的には、図３は、矩形の画素Ｐｉｘの平行な２辺の中点を含む平面で表示装置１を切った断面である。
表示装置１は、例えばカラー表示が可能な液晶表示装置である。例えば、表示装置１はいわゆる透過型の液晶表示装置である。図１に示すように、表示装置１は、ゲートドライバ１２と、ソースドライバ１３と、複数の走査線ＧＣＬと、複数の信号線ＳＧＬと、複数の画素Ｐｉｘと、を備える。また、図３に示すように、表示装置１は、第１基板２１を含む表示装置用基板１０と、第２基板２２と、液晶層５と、を備える。表示装置用基板１０は、透光性着色層３２と、第１透光性樹脂層４１と、遮光層３３と、第２透光性樹脂層４２と、スペーサ５３と、配向膜５１と、を備える。
図１に示すように、複数の走査線ＧＣＬは、第１基板２１に平行な平面上に配置されている。走査線ＧＣＬは、ゲートドライバ１２に接続されている。複数の信号線ＳＧＬは、第１基板２１に平行な平面上に配置されている。信号線ＳＧＬは、ソースドライバ１３に接続されている。信号線ＳＧＬは、例えば走査線ＧＣＬに対して直交している。以下の説明において、走査線ＧＣＬに平行なＸ軸、信号線ＳＧＬに平行なＹ軸、及びＸ軸及びＹ軸に対して直交するＺ軸からなるＸＹＺ直交座標系が用いられる。
表示装置１は、図２に示すように表示領域Ａ１と、額縁領域Ａ２とを備える。表示領域Ａ１は、光が透光性着色層３２を透過する領域であって、例えば矩形状である。表示領域Ａ１は、画素Ｐｉｘにより画像が表示される領域であるとも言える。額縁領域Ａ２は、表示領域Ａ１を囲む帯状の領域である。
複数の画素Ｐｉｘは、図２に示す表示領域Ａ１にマトリクス状に配列されている。画素Ｐｉｘは、それぞれ複数の副画素ＳＰｉｘを備える。画素Ｐｉｘが備える副画素ＳＰｉｘの数は、例えば３つである。副画素ＳＰｉｘは、スイッチング素子Ｔｒと、液晶容量７６と、保持容量７７とを有する。スイッチング素子Ｔｒは、例えば薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）である。スイッチング素子Ｔｒのソースは信号線ＳＧＬに接続されている。スイッチング素子Ｔｒのゲートは走査線ＧＣＬに接続されている。スイッチング素子Ｔｒのドレインは液晶容量７６の一端及び保持容量７７の一端に接続されている。
液晶容量７６は、対向電極６１と画素電極６２との間で発生する容量成分を示す。液晶容量７６の一端がスイッチング素子Ｔｒのドレインに接続され、液晶容量７６の他端にコモン電位Ｖｃｏｍが供給される。保持容量７７の一端がスイッチング素子Ｔｒのドレインに接続され、保持容量７７の他端にコモン電位Ｖｃｏｍが供給される。保持容量７７は、対向電極６１と画素電極６２との間に印加された映像表示用の電圧を保持するための容量成分である。
副画素ＳＰｉｘは、同じ行に属する他の副画素ＳＰｉｘと走査線ＧＣＬで接続されている。ゲートドライバ１２は、走査線ＧＣＬを介して走査信号Ｖｓｃａｎ（図１参照）をスイッチング素子Ｔｒに供給する。また、副画素ＳＰｉｘは、同じ列に属する他の副画素ＳＰｉｘと信号線ＳＧＬで接続されている。ソースドライバ１３は、信号線ＳＧＬを介して画素信号Ｖｐｉｘ（図１参照）を画素電極６２に供給する。
ゲートドライバ１２は、走査線ＧＣＬを順次走査するように駆動する。ゲートドライバ１２は、走査信号Ｖｓｃａｎを副画素ＳＰｉｘのスイッチング素子Ｔｒのゲートに走査線ＧＣＬを介して印加することにより、副画素ＳＰｉｘのうちの１行（１水平ライン）を表示駆動の対象として順次選択する。また、ソースドライバ１３は、画素信号Ｖｐｉｘを、選択された１水平ラインを構成する副画素ＳＰｉｘに信号線ＳＧＬを介して供給する。そして、副画素ＳＰｉｘでは、供給される画素信号Ｖｐｉｘに応じて１水平ラインずつ表示が行われる。
図４は、図３における遮光層周辺の拡大図である。図５は、本実施形態に係る表示装置の表示領域を拡大して示す平面図である。
第１基板２１は、例えばガラスで形成された基板である。透光性着色層３２は、複数の色領域（色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ及び色領域３２Ｂ）を有する着色層である。透光性着色層３２は、第１基板２１の一方の表面に重なっている。色領域３２Ｒは赤色の領域であり、色領域３２Ｇの緑色の領域であり、色領域３２Ｂは青色の領域である。図５に示すように、複数の色領域はマトリクス状に配列されている。例えば、Ｘ方向に色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ、色領域３２Ｂの順に並んでおり、且つＹ方向に同じ色の色領域が並んでいる。すなわち、Ｙ方向に並んだ色領域３２Ｒの列、Ｙ方向に並んだ色領域３２Ｇの列、及びＹ方向に並んだ色領域３２Ｂの列が、Ｘ方向に順番に並んでいる。以下の説明において、第１基板２１から見て透光性着色層３２の方向は、＋Ｚ方向と記載される。
隣接する色領域の間（隣接する色領域３２Ｒと色領域３２Ｇとの間、隣接する色領域３２Ｇと色領域３２Ｂとの間、隣接する色領域３２Ｂと色領域３２Ｒとの間、隣接する２つの色領域３２Ｒの間、隣接する２つの色領域３２Ｇの間、及び隣接する２つの色領域３２Ｂの間）には、隙間が設けられている。すなわち、隣接する色領域は接していない。
透光性着色層３２は、例えばフォトリソグラフィ法で製造される。まず、例えば赤色のカラーレジストが第１基板２１に塗布され、第１基板２１がスピンさせられる。そして、カラーレジストが減圧乾燥された後、カラーレジストにマスクを介して紫外線が照射される。その後、カラーレジストのうち不要な部分がリンスされ、第１基板２１に残ったカラーレジストがベークにより硬化する。上述したカラーレジストの塗布からカラーレジストのベークまでの工程が、緑色のカラーレジスト及び青色のカラーレジストを用いて繰り返される。これにより、色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ及び色領域３２Ｂを備える透光性着色層３２が第１基板２１に形成される。
第１透光性樹脂層４１は、樹脂で形成された透明な層である。より具体的には、第１透光性樹脂層４１は、絶縁性の樹脂で形成されている。すなわち、第１透光性樹脂層４１は、透明な絶縁性部材である。第１透光性樹脂層４１は、複数の色領域の間の位置で第１基板２１に対して＋Ｚ方向側に重なっている。第１透光性樹脂層４１は、マトリクス状に並べられた複数の色領域の間に位置するので、Ｚ方向から見て格子状に配置されている。第１透光性樹脂層４１は、例えば光硬化性樹脂であって、第１基板２１に塗布された後に紫外線を照射されることで硬化する。
遮光層３３は、いわゆるブラックマトリックスである。遮光層３３は、第１透光性樹脂層４１に対して＋Ｚ方向側に重なっている。すなわち、遮光層３３は、第１透光性樹脂層４１と同様に図５に示すように格子状に配置されている。これにより、遮光層３３が第１基板２１の表面に形成される場合と比較して、透光性着色層３２を斜め方向（Ｚ軸に対して角度をなす方向）に通過する光の経路（光路）が広くなるので、表示装置１を斜め方向から見た時の輝度が向上する。また、例えば、遮光層３３は１層である。すなわち、表示領域Ａ１及び額縁領域Ａ２の両方のいずれにおいても、Ｚ方向から見て第１基板２１に重なる遮光層３３の数は１つである。
図４に示すように、Ｘ方向における遮光層３３の幅Ｗ２は、Ｘ方向における第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１よりも小さい。同様に、Ｙ方向における遮光層３３の幅は、Ｙ方向における第１透光性樹脂層４１の幅よりも小さい。ただし、Ｙ方向における遮光層３３の幅は、必ずしも幅Ｗ２と同じでなくてもよい。例えば、幅Ｗ２は３μｍ以上４μｍ以下程度である。このため、混色を防止するために遮光層３３の幅Ｗ２が第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１より大きくされる場合と比較して、開口率が向上するので輝度が向上する。混色とは、人間が斜め方向（Ｚ軸に対して角度をなす方向）から表示領域Ａ１を見た時に、異なる色の隣接する色領域を透過した光が人間の眼に入射する現象を意味する。また、遮光層３３が第１透光性樹脂層４１の平坦な表面に形成されるので、遮光層３３の形状のバラツキが抑制される。
遮光層３３と第１基板２１との間に配置される第１透光性樹脂層４１は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ：Indium Tin Oxide）等の金属酸化物の透過率よりも高い透過率を有する樹脂で形成されることが好ましい。例えば、透光性樹脂層４１のかわりに酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の金属酸化物が配置されると、表示装置１の観測者側（−Ｚ方向側）から見た時の表示領域Ａ１の透過率が低下する場合がある。
幅Ｗ２が幅Ｗ１よりも小さいため、図４に示すように遮光層３３と第１透光性樹脂層４１との間には段差が生じる。仮にこの段差が埋められない場合、遮光層３３と透光性着色層３２との間に隙間が生じるので、透光性着色層３３を通過しない光が人間に視認される可能性がある。これに対して、本実施形態においては、図４に示すように透光性着色層３２の一部が第１透光性樹脂層４１の＋Ｚ方向側に重なっている。より具体的には、透光性着色層３２が遮光層３３に接している。これにより、透光性着色層３３を通過しない光の発生が防がれている。
図４に示すように、Ｚ方向における第１透光性樹脂層４１の厚さｄ４と遮光層３３の厚さｄ３の和である厚さｄ２は、Ｚ方向における透光性着色層３２の厚さｄ１よりも大きい。これにより、透光性着色層３２に対して遮光層３３が＋Ｚ方向に突出する。このため、異なる色の色領域の間（色領域３２Ｒと色領域３２Ｇとの間、色領域３２Ｇと色領域３２Ｂとの間、及び色領域３２Ｂと色領域３２Ｒとの間）に配置された第１透光性樹脂層４１によって、混色が抑制される。また、遮光層３３の厚さｄ３は、透光性着色層３２の厚さｄ１よりも大きいことが望ましい。
なお、厚さｄ１は、言い換えると第１基板２１の＋Ｚ方向側（液晶層５側）の表面から透光性着色層３２の＋Ｚ方向側（第１基板２１とは反対側）の表面までの距離である。また、厚さｄ２は、言い換えると第１基板２１の＋Ｚ方向側（液晶層５側）の表面から遮光層３３の＋Ｚ方向側（第１基板２１とは反対側）の表面までの距離である。
第２透光性樹脂層４２は、樹脂で形成された透明な層である。より具体的には、第２透光性樹脂層４２は、絶縁性の樹脂で形成されている。すなわち、第２透光性樹脂層４２は、透明な絶縁性部材である。第２透光性樹脂層４２は、透光性着色層３２及び遮光層３３に対して＋Ｚ方向側に重なっている。例えば、Ｚ方向から見て、第２透光性樹脂層４２の面積は第１基板２１の面積と同じである。第２透光性樹脂層４２は、例えば光硬化性樹脂であって、透光性着色層３２及び遮光層３３に塗布された後に紫外線を照射されることで硬化する。第２透光性樹脂層４２は、遮光層３３と液晶層５との間に配置されることで、遮光層３３及び透光性着色層３２による液晶層５の汚染を防ぐ。
スペーサ５３は、液晶層５の厚さ（セルギャップ）を保つための部材である。スペーサ５３は、第１透光性樹脂層４１に対して＋Ｚ方向側に重なっている。また、スペーサ５３は、遮光層３３に重なっている。スペーサ５３は、格子状である遮光層３３の交差部分に配置されることが好ましい。図３に示すように、Ｘ方向におけるスペーサ５３の幅は、遮光層３３の幅より小さい。同様に、Ｙ方向におけるスペーサ５３の幅は、Ｙ方向における遮光層３３の幅よりも小さい。
配向膜５１は、液晶層５の液晶分子を一定方向に配列させるための膜である。配向膜５１は、第２透光性樹脂層４２に対して＋Ｚ方向側に重なっている。
第２基板２２は、例えばガラスで形成された基板であって、第１基板２１に平行である。第２基板２２には対向電極６１と、絶縁膜６３と、複数の画素電極６２が形成されている。対向電極６１は、例えば透明電極である。具体的には、対向電極６１は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）である。対向電極６１は、第２基板２２の−Ｚ方向側に重なっている。例えば、対向電極６１は、スパッタリング法によって第２基板２２の表面に形成される。絶縁膜６３は、対向電極６１−Ｚ方向側に重なっている。画素電極６２は、例えば酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）である。例えば、画素電極６２は、スパッタリング法によって絶縁膜６３の表面に形成される。画素電極６２は、絶縁膜６３によって対向電極６１と絶縁されている。複数の画素電極６２は、マトリクス状に配置されている。１つの画素電極６２が１つの副画素ＳＰｉｘに対応している。１つの画素電極６２は、複数のスリット６２１を有する。対向電極６１と画素電極６２との間に生じる電界がスリット６２１を介して液晶層５に作用する。画素電極６２の−Ｚ方向側には、配向膜５２が配置されている。第２基板２２の＋Ｚ方向側には、例えばバックライトが配置される。バックライトの光は、第２基板２２、液晶層５、表示装置用基板１０の順に通過し、第１基板２１の−Ｚ方向側に放たれる。
液晶層５は、電界の状態に応じて光の透過率を変化させることができる。例えば、表示装置１は、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）方式の表示装置である。対向電極６１及び画素電極６２によって、液晶層５の電界が変化させられる。
なお、表示装置１は、必ずしもＦＦＳ方式の表示装置でなくてもよい。例えば、表示装置１は、ＴＮ（Twisted Nematic）方式、ＶＡ（Virtical Alignment）方式又はＩＰＳ（In Plane Switching）方式の表示装置であってもよい。また、表示装置１は、反射型の液晶表示装置であってもよい。表示装置１が反射型の液晶表示装置である場合、画素電極６２が透明電極ではなく光を反射する反射電極とされるか、又は第２基板２２の＋Ｚ方向側に反射板等が配置される。
なお、透光性着色層３２が有する色領域は、必ずしも３色でなくてもよく、複数色であればよい。例えば、透光性着色層３２は、色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ及び色領域３２Ｂに加えて、白色の色領域を備えていてもよい。
なお、第１透光性樹脂層４１及び第２透光性樹脂層４２は、必ずしも完全な透明でなくてもよく、透光性を有していればよい。ただし、第１透光性樹脂層４１及び第２透光性樹脂層４２は、透光性着色層３２を透過した光の色をできる限り変化させないことが望ましい。このため、第１透光性樹脂層４１及び第２透光性樹脂層４２は、できる限り透明に近いことが好ましい。
なお、遮光層３３の幅Ｗ２は、必ずしも第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１よりも小さくなくてもよく、後述する変形例に示すように第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１と同じであってもよい。すなわち、遮光層３３の幅Ｗ２は、第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１以下であればよい。同様に、Ｙ方向における遮光層３３の幅は、Ｙ方向における第１透光性樹脂層４１の幅以下であればよい。
図６は、本実施形態に係る表示装置用基板の製造方法を示すフローチャートである。表示装置用基板１０の製造方法において、まず第１基板２１の表面に第１透光性樹脂層４１が形成される（ステップＳＴ１）。具体的には、第１基板２１の表面に第１透光性樹脂層４１が塗布された後、第１透光性樹脂層４１に紫外線が照射されることで光硬化性樹脂である第１透光性樹脂層４１が硬化する。
ステップＳＴ１の次に、第１透光性樹脂層４１の表面に遮光層３３が形成される（ステップＳＴ２）。そして、ステップＳＴ２の後に、第１基板２１の表面に透光性着色層３２が形成される（ステップＳＴ３）。仮に透光性着色層３２、第１透光性樹脂層４１、遮光層３３の順に形成される場合、第１透光性樹脂層４１及び遮光層３３の寸法精度が透光性着色層３２の寸法精度の影響を受ける。これに対して、第１透光性樹脂層４１、遮光層３３、透光性着色層３２の順に形成されることで、第１透光性樹脂層４１及び遮光層３３が第１基板２１の平坦な表面に形成される。このため、第１透光性樹脂層４１及び遮光層３３の形状のバラツキが抑制される。
以上で説明したように、表示装置用基板１０は、第１基板２１と、複数の色領域（色領域３２Ｒ、色領域３２Ｇ及び色領域３２Ｂ）を含み且つ第１基板２１に重なる透光性着色層３２と、複数の色領域の間の位置で第１基板２１に重なる第１透光性樹脂層４１と、第１透光性樹脂層４１に対して第１基板２１とは反対側に重なる遮光層３３と、を備える。第１基板２１に対する垂直断面において、遮光層３３の幅Ｗ２は、第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１以下である。これにより、遮光層３３が透光性着色層３２よりも液晶層５側に突出することで、混色が抑制される。
さらに、遮光層３３と第１基板２１との間に第１透光性樹脂層４１があることで、透光性着色層３２を斜め方向（Ｚ軸に対して角度をなす方向）に通過する光の経路（光路）が広くなるので、表示装置１を斜め方向から見た時の輝度が向上する。また、遮光層の幅Ｗ２が第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１以下であることにより、開口率が向上するので輝度が向上しやすい。したがって、表示装置用基板１０及び表示装置１は、混色及び輝度低下を防ぐことができる。
表示装置用基板１０においては、遮光層３３が透光性着色層３２の表面ではなく、第１透光性樹脂層４１の表面に形成される。このため、遮光層３３の形状のバラツキが抑制されるので、遮光層３３を細くすることが容易である。したがって、表示装置用基板１０の開口率が向上するので、表示装置１における透過率（入射光量に対する出射光量の比）が向上する。
（変形例）
図７は、変形例に係る表示装置において遮光層周辺を拡大して示す断面図である。図７に示すように、変形例においては、Ｘ方向における遮光層３３Ａの幅Ｗ２Ａは、Ｘ方向における第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１と同じである。なお、Ｙ方向における遮光層３３Ａの幅は、Ｙ方向における第１透光性樹脂層４１の幅と同じであってもよいし、Ｙ方向における第１透光性樹脂層４１の幅より小さくてもよい。
図７は、変形例に係る表示装置において遮光層周辺を拡大して示す断面図である。図７に示すように、変形例においては、Ｘ方向における遮光層３３Ａの幅Ｗ２Ａは、Ｘ方向における第１透光性樹脂層４１の幅Ｗ１と同じである。なお、Ｙ方向における遮光層３３Ａの幅は、Ｙ方向における第１透光性樹脂層４１の幅と同じであってもよいし、Ｙ方向における第１透光性樹脂層４１の幅より小さくてもよい。
また、上述した実施形態及び変形例において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
１ 表示装置
１０ 表示装置用基板
１２ ゲートドライバ
１３ ソースドライバ
２１ 第１基板
２２ 第２基板
３２ 透光性着色層
３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂ 色領域
３３ 遮光層
４１ 第１透光性樹脂層
４２ 第２透光性樹脂層
５ 液晶層
５１、５２ 配向膜
５３ スペーサ
６１ 対向電極
６２ 画素電極
６３ 絶縁膜
７６ 液晶容量
７７ 保持容量
Ａ１ 表示領域
Ａ２ 額縁領域
ＧＣＬ 走査線
Ｐｉｘ 画素
ＳＰｉｘ 副画素
ＳＧＬ 信号線
Ｔｒ スイッチング素子
Ｖｃｏｍ コモン電位
Ｖｐｉｘ 画素信号
Ｖｓｃａｎ 走査信号
１０ 表示装置用基板
１２ ゲートドライバ
１３ ソースドライバ
２１ 第１基板
２２ 第２基板
３２ 透光性着色層
３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂ 色領域
３３ 遮光層
４１ 第１透光性樹脂層
４２ 第２透光性樹脂層
５ 液晶層
５１、５２ 配向膜
５３ スペーサ
６１ 対向電極
６２ 画素電極
６３ 絶縁膜
７６ 液晶容量
７７ 保持容量
Ａ１ 表示領域
Ａ２ 額縁領域
ＧＣＬ 走査線
Ｐｉｘ 画素
ＳＰｉｘ 副画素
ＳＧＬ 信号線
Ｔｒ スイッチング素子
Ｖｃｏｍ コモン電位
Ｖｐｉｘ 画素信号
Ｖｓｃａｎ 走査信号
Claims (9)
- 第１基板と、
複数の色領域を含み、且つ前記第１基板に重なる透光性着色層と、
前記複数の色領域の間の位置で第１基板に重なる第１透光性樹脂層と、
前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、
を備え、
前記第１基板に対する垂直断面において、前記第１基板に平行な方向の前記遮光層の幅は、前記第１透光性樹脂層の幅以下である表示装置用基板。 - 前記第１基板に対する垂直断面において、前記第１基板に平行な方向の前記遮光層の幅は、前記第１透光性樹脂層の幅より小さく、
前記透光性着色層の一部が前記第１透光性樹脂層に重なる
請求項１に記載の表示装置用基板。 - 前記第１基板に対する垂直方向における前記第１透光性樹脂層の厚さと前記遮光層の厚さとの和は、前記透光性着色層の厚さよりも大きい
請求項１に記載の表示装置用基板。 - 前記第１基板に対する垂直方向における前記遮光層の厚さは、前記透光性着色層の厚さよりも大きい
請求項１に記載の表示装置用基板。 - 前記第１透光性樹脂層及び前記遮光層に重なるスペーサを備える
請求項３又は４に記載の表示装置用基板。 - 前記透光性着色層及び前記遮光層に対して、前記第１基板とは反対側に重なる第２透光性樹脂層を備える
請求項１に記載の表示装置用基板。 - 第１基板を備える表示装置用基板と、
前記第１基板に重なる第２基板と、
前記表示装置用基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、
を備え、
前記表示装置用基板は、
複数の色領域を含み、且つ前記第１基板に重なる透光性着色層と、
前記複数の色領域の間の位置で第１基板に重なる第１透光性樹脂層と、
前記第１透光性樹脂層に対して前記第１基板とは反対側に重なる遮光層と、
を備え、
前記第１基板に対する垂直断面において、前記第１基板に平行な方向の前記遮光層の幅は、前記第１透光性樹脂層の幅以下である
表示装置。 - 第１基板に第１透光性樹脂層を形成する第１ステップと、
前記第１ステップの後、前記第１透光性樹脂層に重なる遮光層を形成する第２ステップと、
を含む表示装置用基板の製造方法。 - 前記第２ステップの後、前記第１基板に透光性着色層を形成する第３ステップ
を含む請求項８に記載の表示装置用基板の製造方法。
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