JP2017195040A - 導体形成用ペースト - Google Patents
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Abstract
Description
(ニッケル粒子)
ここに開示される導体形成用ペーストは、導体膜(例えば積層セラミック電子部品の内部電極層)の形成に用いられる導体形成用ペーストであって、ニッケル粒子と、チタン酸バリウム粒子と、分散媒体とを含んでいる。この導体形成用ペーストは、チタン酸バリウム粒子の含有量が、ニッケル粒子100質量部に対して10質量部以下である。そして、X線光電子分光(XPS)によるニッケル粒子表面の解析において、酸化ニッケルのモル分率Aに対する水酸化ニッケルのモル分率Bの比(B/A)が、0.2≦(B/A)<1である。このように酸化ニッケルと水酸化ニッケルとを特定のモル分率比で含むニッケル粒子を含有させることにより、少ないチタン酸バリウム(共材)量で、良好な導体膜の連続性が実現され得る。
ここに開示される導体形成用ペーストは、チタン酸バリウム粒子を含有する。チタン酸バリウム粒子は、前述のように焼成時における熱収縮(焼結)を抑制する成分である。チタン酸バリウム粒子は、チタン酸バリウムを主成分とする各種のチタン酸バリウム粒子であり得る。ここで、チタン酸バリウムを主成分とするチタン酸バリウム粒子とは、該粒子の80質量%以上(通常は90質量%以上、典型的には95質量%以上、例えば98質量%以上)がチタン酸バリウムである粒子をいう。
導体形成用ペーストに用いられる分散媒体は、上記ニッケル粒子およびチタン酸バリウム粒子を分散させることができるものであればよく、特に制限されない。分散媒体としては、従来の導体形成用ペーストに用いられているものを特に制限なく使用することができる。例えば、エチルセルロース等のセルロース系高分子、エチレングリコールおよびジエチレングリコール誘導体、トルエン、キシレン、ミネラルスピリット、ブチルカルビトール、ターピネオール等の高沸点有機溶媒またはこれらの二種以上の組み合わせを構成成分として含む有機ビヒクルを用いることができる。特に限定するものではないが、有機ビヒクルの含有率は、ペースト全体の概ね10〜60質量%となる量が適当である。
ここに開示される導体形成用ペーストには、従来の導体形成用ペーストと同様の種々の有機添加剤を必要に応じて含ませることができる。かかる有機添加剤の例としては、各種の有機バインダ(上記ビヒクルと重複してもよく、別途異なるバインダを添加してもよい。)や、セラミック基材との密着性向上を目的としたシリコン系、チタネート系およびアルミニウム系等の各種カップリング剤等が挙げられる。上記有機バインダとしては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、セルロース系高分子、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等をベースとするものが挙げられる。本発明の導体形成用ペーストに良好な粘性および塗膜(基材に対する付着膜)形成能を付与し得るものが好適である。また、導体形成用ペーストに光硬化性(感光性)を付与したい場合には、種々の光重合性化合物および光重合開始剤を適宜添加してもよい。
ここに開示される導体形成用ペーストの製造方法は特に限定されない。例えば、ボールミルや三本ロールミルその他の周知の混合装置を用いて、導体形成用ペーストに含まれる各成分を混合するとよい。これらの成分を混合する態様は特に限定されず、例えば全成分を一度に混合してもよく、適宜設定した順序で混合してもよい。
ここに開示される導体形成用ペーストは、導体膜の連続性を高度に向上させ得ることから、良好な連続性が要求される導体膜、例えば、積層セラミック電子部品における内部電極層の形成に好ましく適用され得る。例えば、積層セラミックコンデンサの内部電極層を形成する用途に特に好適である。上記積層セラミックコンデンサ200は、図1に示すように、ニッケル粒子およびチタン酸バリウム粒子を含む導体膜(導体形成用ペーストの焼成体からなる内部電極層)220とセラミック層(誘電体層)210とを交互に積層して形成されたものであり得る。かかる積層セラミックコンデンサ200の内部電極層形成用のペーストとして好適である。かかる用途では、チタン酸バリウムの使用量を減らすことでチタン酸バリウム粒子が誘電体層に悪影響(例えば組成変動)を与えることを抑制し得るため、ここに開示される技術を適用することが特に有意義である。
ここに開示される導体形成用ペーストは、例えば以下の工程を含む態様で、積層セラミックコンデンサ200の構築に使用することができる。
すなわち、ここに開示される導体形成用ペーストを用意する。その導体形成用ペーストを、スクリーン印刷法やディスペンサー塗布法等によって所望する形状・厚みとなるようにして、誘電体材料(例えばチタン酸バリウムやチタン酸ストロンチウム等のセラミック材料)からなるグリーンシート(焼成後に誘電体膜となる未焼成の誘電体シート)に塗布する。このように未焼成の導体膜が形成されたグリーンシートを複数枚作製し、これらを積層、圧着する。このようにして未焼成の導体膜と誘電体膜とが積層された未焼成の積層チップを得る。
次いで、該積層チップを乾燥し、その後、加熱器中で適当な加熱条件(最高焼成温度が概ね800〜1400℃、好ましくは1000〜1400℃、特に好ましくは1200〜1300℃)で所定時間(最高焼成温度で維持する時間としては、例えば10分〜2時間程度)加熱することにより、上記チップを焼成(焼き付け)・硬化させる。好ましい一態様では、所定の高速焼成条件(すなわち、常温(典型的には室温)から最高焼成温度まで600〜20000℃/時間(例えば1000〜15000℃/時間)の速度で昇温する過程を含む焼成条件)で焼成する。この一連の処理を行うことによって、目的とする導体膜(内部電極層)220と誘電体膜210とが積層されたコンデンサ等の電子部品の本体250が得られる。
最後に、この電子部品本体250の所定箇所に外部電極形成用のペースト(上記導体形成用ペーストと同じものでもよい)を塗布して焼成することにより外部電極230を形成する。このようにして、積層セラミック電子部品を構築することができる。なお、かかる構築方法自体は、特に本発明を特徴付けるものではないため、詳細な説明は省略する。
なお、用途限定を意図するものではないが、前述のとおり、ここに開示される導体形成用ペーストを用いることにより、従来の導体形成用ペーストに比べて、ニッケル粒子が微粒子化した場合でも、焼成時の熱収縮が抑制されて耐熱性が向上し、より一層の薄層化が実現された緻密な導体膜を好ましく形成することができる。このため、本発明の導体形成用ペーストによると、10μm以下(例えば0.3μm〜3μm)の膜厚を有する導体薄膜をも好適に形成することができる。
ここに開示される技術には、上記導体形成用ペーストを用いた内部電極層の形成工程を含む積層セラミックコンデンサの製造方法および該方法により製造された積層セラミックコンデンサの提供が含まれ得る。すなわち、ここに開示される技術によると、上記導体形成用ペーストを用いて内部電極層を形成することを含む、積層セラミックコンデンサの製造方法および該方法により製造された積層セラミックコンデンサが提供される。上記製造方法によると、連続性のよい内部電極層を有する高性能(例えば大容量)の積層セラミックコンデンサが提供され得る。
ニッケル粒子表面における酸化ニッケル(NiO)、水酸化ニッケル(Ni(OH)2)および金属ニッケル(Ni)のモル分率が異なる複数種類のニッケル粉末を用意した。これらのニッケル粉末(平均粒子径約180nm)と、チタン酸バリウム粉末(平均粒子径約30nm)とを秤量し、攪拌・混合することによって導体形成用粉末材料を調製した。次に、この導体形成用粉末材料を用いてNiペーストを調製した。すなわち、最終的なペーストの組成(質量比)が導体形成用粉末材料57.5質量%および残部がビヒクル(溶剤40.5質量%、バインダ成分2質量%)となるように各材料を秤量し、三本ロールミルを用いて混練した。ここでは、Ni粉末100質量部に対するチタン酸バリウム粉末の使用量を表1に示すとおり0〜15質量部の間で異ならせてNiペーストを調製した。このようにして各例に係るNiペーストを調製した。
各例に係るNiペーストを用いて導体膜を作製した。すなわち、BaTiO3を主体とするセラミックグリーンシート上にNiペーストを、Ni粉末の質量を基準とした塗布量が0.5mg/cm2となるように塗布し、乾燥した。このように未焼成の導体膜が形成されたグリーンシートを複数枚作製し、これらを積層、圧着した。その後、1%の水素ガスと99%の窒素を含んだ混合ガス(還元)雰囲気中で焼成処理(昇温速度200℃/時間、降温速度200℃/時間、最高焼成温度1250℃で10分間維持)を実施した。このようにして、導体膜とセラミック基材(焼成後のセラミック基材)とが交互に形成された焼成積層体シートを得た。
210 誘電体膜
230 外部電極
250 電子部品本体
Claims (7)
- 導体膜の形成に用いられる導体形成用ペーストであって、
ニッケル粒子と、チタン酸バリウム粒子と、分散媒体とを含み、
前記チタン酸バリウム粒子の含有量が、前記ニッケル粒子100質量部に対して10質量部以下であり、
X線光電子分光(XPS)による前記ニッケル粒子表面の解析において、酸化ニッケルのモル分率Aに対する水酸化ニッケルのモル分率Bの比(B/A)が、0.2≦(B/A)<1である、導体形成用ペースト。 - 前記比(B/A)が、0.3≦(B/A)≦0.7である、請求項1に記載の導体形成用ペースト。
- 前記酸化ニッケルのモル分率Aが、前記水酸化ニッケルのモル分率Bよりも、12モル%以上大きい、請求項1または2に記載の導体形成用ペースト。
- 前記酸化ニッケルのモル分率Aから前記水酸化ニッケルのモル分率Bを減じた値(A−B)が、30モル%以下である、請求項1〜3の何れか一つに記載の導体形成用ペースト。
- 前記ニッケル粒子の平均粒子径が10nm〜500nmである、請求項1〜4の何れか一つに記載の導体形成用ペースト。
- 積層セラミック電子部品における内部電極層を形成するために用いられる、請求項1〜5の何れか一つに記載の導体形成用ペースト。
- 請求項1〜6の何れか一項に記載の導体形成用ペーストの焼成体からなる内部電極層を備える、積層セラミックコンデンサ。
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