JP2017175118A - ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法 - Google Patents

ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2017175118A
JP2017175118A JP2017017728A JP2017017728A JP2017175118A JP 2017175118 A JP2017175118 A JP 2017175118A JP 2017017728 A JP2017017728 A JP 2017017728A JP 2017017728 A JP2017017728 A JP 2017017728A JP 2017175118 A JP2017175118 A JP 2017175118A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
led semiconductor
light emitting
resin material
emitting device
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2017017728A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6622735B2 (ja
Inventor
チェン チェ−
Chieh Chen
チェン チェ−
ワン ツォン−シ
Tsung-Hsi Wang
ワン ツォン−シ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Maven Optronics Co Ltd
Original Assignee
Maven Optronics Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Maven Optronics Co Ltd filed Critical Maven Optronics Co Ltd
Publication of JP2017175118A publication Critical patent/JP2017175118A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6622735B2 publication Critical patent/JP6622735B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/58Optical field-shaping elements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/005Processes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/02Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies
    • H01L33/12Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor bodies with a stress relaxation structure, e.g. buffer layer
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/36Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the electrodes
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/44Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the coatings, e.g. passivation layer or anti-reflective coating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L33/00Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof
    • H01L33/48Semiconductor devices having potential barriers specially adapted for light emission; Processes or apparatus specially adapted for the manufacture or treatment thereof or of parts thereof; Details thereof characterised by the semiconductor body packages
    • H01L33/52Encapsulations
    • H01L33/56Materials, e.g. epoxy or silicone resin
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/93Batch processes
    • H01L2224/95Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips
    • H01L2224/96Batch processes at chip-level, i.e. with connecting carried out on a plurality of singulated devices, i.e. on diced chips the devices being encapsulated in a common layer, e.g. neo-wafer or pseudo-wafer, said common layer being separable into individual assemblies after connecting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/12Passive devices, e.g. 2 terminal devices
    • H01L2924/1204Optical Diode
    • H01L2924/12041LED
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2933/00Details relating to devices covered by the group H01L33/00 but not provided for in its subgroups
    • H01L2933/0008Processes
    • H01L2933/0033Processes relating to semiconductor body packages
    • H01L2933/0058Processes relating to semiconductor body packages relating to optical field-shaping elements

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Led Device Packages (AREA)
  • Structures Or Materials For Encapsulating Or Coating Semiconductor Devices Or Solid State Devices (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

【課題】非効率的な反射器を使用することなく、視野角または空間放射パターンを調整して様々な用途に適合させることができる発光素子を提供する。【解決手段】フリップチップ型LED半導体ダイ10およびビーム成形構造体(BSS)30を含み、LED半導体ダイ上にフォトルミネセンス構造体20を配設して、蛍光体で被覆された白色光CSP型LED素子を形成する。BSSは、光散乱粒子を30重量%以下の濃度でポリマー樹脂材料中に分散させることにより製造し、フォトルミネセンス構造体もしくはLED半導体ダイの縁部位に隣接して配置するか、またはフォトルミネセンス構造体もしくはLED半導体ダイの上方の離れた位置に配置する。素子の縁部位に配置されたBSSにより素子の縁部からの発光を低減でき、また、素子の上部位に配置されたBSSにより素子の上面からの発光を低減できるため、素子の放射パターンおよび視野角の成形が可能である。【選択図】図3A

Description

関連出願の引用参照
本出願は、2016年2月5日に出願された台湾特許出願第105104034号、ならびに当該台湾特許出願の優先権を主張する2016年2月5日に出願された中国特許出願第201610082142.6号に対する利益および優先権を主張するものであり、両出願の開示全体を参照により本願に取り込む。
背景
技術分野
本開示は、発光素子およびその製造方法に関するものであり、特に、動作時に電磁放射を発生する発光ダイオード(LED)半導体ダイを含むチップスケール型パッケージ発光素子に関する。
関連技術の説明
最近のチップスケールパッケージ(CSP)型LED素子は、有望な利点を有することから、その開発にますます多くの注目が集まっている。一般的な例として、図1Aに示すような白色光CSP型LED素子は、通常、小型チップスケールサイズのフリップチップ型LED半導体ダイ71と、LED半導体ダイを覆うフォトルミネセンス構造体72とによって構成されている。フォトルミネセンス構造体72がLED半導体ダイ71の上面および縁面の4つの側縁部を覆って、CSP型LED素子はその上面ならびに縁面の4つの側縁部から光を出射するようにしている。したがって、光はCSP型LED素子の異なる方向における5つの面から発光し、5面発光型光源を形成している。
リード付きプラスチック製チップキャリア(PLCC)LED素子と比較すると、CSP型LED素子は以下の利点を示す。(1)ボンディングワイヤおよびリードフレームが不要なため、材料コストが大幅に安くなる。(2)LED半導体ダイと搭載基板、一般的には印刷回路基板(PCB)との間にリードフレームを使用せず、その間の熱抵抗がさらに低くなる。よって、駆動電流が同じであっても、LED動作温度が低くなる。換言すれば、少ない電気エネルギーで多くのCSP型LED素子の光出力が得られる。(3)動作温度が低いため、CSP型LED素子のLED半導体量子効率が高くなる。(4)光源のフォームファクタが非常に小さいため、モジュールレベルでのLED装置の設計自由度が増す。(5)CSP型LED素子の発光領域が小さく点光源に近いため、光学レンズ設計が容易になる。CSP型LED素子がコンパクトなため、例えば自動車のヘッドライトなど、一部の投影型照明においてエテンデュの小さい光を高い光強度で発生するように設計できる。
CSP型LED素子には多くの利点があるものの、比較用の5面発光型CSP型LED素子はより大きな視野角を有する。この視野角は一般的には、特定のCSP型LED素子では様々な幾何学的寸法に応じて140度〜160度の範囲である。5面発光型CSP型LED素子の視野角は、現状でも、PLCC型LED素子の一般的な約120度の視野角よりもはるかに大きい。大きな視野角を有するCSP型LED素子は用途によっては有利であるが、視野角の小さい投影光源用の特定用途には適さない。例えば、エッジ照明バックライト装置または映写用電球などの用途の場合、視野角の小さい光源を規定して高い光エネルギー透過効率を達成する。よって、このような用途の仕様に合う、より小さな視野角を有するCSP型LED素子を提供する必要がある。
光学レンズをLED素子と共に用いてその空間放射パターンを成形して、例えば視野角を拡大または縮小できる。しかし、このような光学レンズを用いたアプローチでは、空間的制約のある特定の用途には適さない。CSP型LED素子にさらに光学レンズを追加すると、製造コストが増加するだけでなく、大きな全体スペースを占めてしまうため、フォームファクタが小さいというCSP型LED素子の大きな利点の1つが打ち消されてしまう。
図1Bは、視野角を小さくできる別の型の比較用の「上面発光型」CSP型LED素子を示す。このCSP型LED素子は、フリップチップ型LED半導体ダイ71、フォトルミネセンス構造体72および反射性構造体73によって構成されている。フォトルミネセンス構造体72は、LED半導体ダイ71の上面に配設され、反射性構造体73は、LED半導体ダイ71の縁面の4つの側縁部を覆っている。このような構造では、光は、CSP型LED素子の上面から導出する、つまり上面発光であるため、それに応じた小さな視野角が得られる。比較用の上面発光型CSP型LED素子の視野角は、典型的には、120度〜130度である。図1Bに示すCSP型LED素子を製造する際に用いられる組成材料に関しては、反射性構造体73は光散乱粒子をポリマー樹脂材料と混合させて形成され、光散乱粒子の濃度は、一般的には30wt%より高くして光反射器として機能させる。しかし、この組成材料から形成された反射性構造体73の場合、LED半導体ダイ71またはフォトルミネセンス構造体72から出射した光をはね返す反射器としては未だ十分でない。反射率の高さが十分でない場合、必然的に、いくつかの光子が反射性構造体73内で消失してしまうことは避けられない。例えば、図1Cに示すように、光子は、光路Pに沿って反射性構造体73を貫通し、反射性構造体73内の終点P’において最終的に吸収される。そのため、反射性構造体73内における光子の消失によって、CSP型LED素子の光学的効率が低下する。さらに、図1Cに示すCSP型LED素子を製造する製造方法では、LED半導体ダイ71の縁面の4つの側縁部を反射性材料で覆って反射性構造体73を形成する付加的な製造工程が含まれる。高精度の金型を用いて反射性構造体73を製造すれば、配置の精度が高くなって製造コストが大幅に増加してしまう。
概要
上記の欠陥を鑑み、本開示によるビーム成形構造体を備えた改良されたCSP型LED素子を開示する。CSP型LED素子構造内で光がトラップされることで光エネルギー損失が過剰になる非効率的な反射器を使用することなく、視野角または空間放射パターンを調整して様々な用途に適合させることができる。CSP型LED素子の別の利点は、能率化した製造工程を用いて、製造コストを増加させずに、小さいフォームファクタを維持できることである。
本開示のいくつかの実施形態では、CSP型LED素子およびその製造方法を提供することを目的とする。ビーム成形構造体(BSS)を適切に設計することによって、本CSP型LED素子の視野角は、140度〜160度の視野角を有する比較用の5面発光型CSP型LED素子に比べて、約120度〜約140度に減少するとともに、フォームファクタは実質的に同じに維持される。CSP型LED素子は、比較的能率的で安価な製造工程を用いることで製造できる。本開示によるBSSの別の実施形態によれば、CSP型LED素子の視野角は、比較用の5面発光型CSP型LEDと比較して約160度超に拡大し、特定の用途の仕様を満たすことができる。
上記の目的を達成するために、本開示のいくつかの実施形態による視野角がより小さいCSP型LED素子は、LED半導体ダイ、フォトルミネセンス構造体およびビーム成形構造体を備えている。LED半導体ダイは、上面、実質的に平行で対向する下面、縁面および1組の電極を有するフリップチップ型LED半導体ダイである。フォトルミネセンス構造体は、LED半導体ダイの上面および縁面を覆って形成され、BSSは、意図的にフォトルミネセンス構造体の縁部位を覆うように配設されている。BSSは、ポリマー樹脂材料中に分散した比較的濃度が低い(例えば、約30wt%以下、約20wt%以下、または約10wt%以下の)光散乱粒子によって構成された組成材料から製造される。そのため、LED半導体ダイの4つの側縁部およびフォトルミネセンス構造体の4つの側縁部から出射してBSS内をほぼ水平方向に進行する光の一部を散乱させ、ほぼ垂直方向に転向できる。これにより、ほぼ垂直方向における光強度が増し、CSP型LED素子全体の視野角が小さくなる。
上記の目的を達成するために、本開示のいくつかの実施形態による視野角がより大きいCSP型LED素子は、LED半導体ダイ、フォトルミネセンス構造体、上澄み光透過層およびBSSを備えている。LED半導体ダイは、上面、実質的に平行で対向する下面、縁面および1組の電極を有するフリップチップ型LED半導体ダイである。フォトルミネセンス構造体は、上面およびLED半導体ダイの縁面を覆って形成されている。上澄み光透過層は、意図的にBSSが上澄み光透過層の上面を覆うようにフォトルミネセンス構造体上に配設されている。BSSは、ポリマー樹脂材料中に分散する比較的濃度が低い(例えば、約30wt%以下、約20wt%以下、または約10wt%以下の)光散乱粒子によって構成された組成材料から製造される。そのため、LED半導体ダイおよびフォトルミネセンス構造体からほぼ垂直方向において出射した部分光を散乱させ、ほぼ水平方向に転向させることで、CSP型LED素子全体の視野角を大きくできる。
上記の目的を達成するために、本開示のいくつかの実施形態による視野角が小さい別の単色CSP型LED素子は、LED半導体ダイおよびBSSを備えている。LED半導体ダイは、上面、実質的に平行で対向する下面、縁面および1組の電極を有するフリップチップ型LED半導体ダイである。BSSは、少なくともLED半導体ダイの縁面を覆っている。BSSは、ポリマー樹脂材料中に分散した比較的濃度の低い(例えば、約30wt%以下、約20wt%以下、または約10wt%以下の)光散乱粒子によって構成された組成材料から製造される。そのため、LED半導体ダイからほぼ水平方向に出射した部分光を散乱させ、ほぼ垂直方向に転向させることで、CSP型LED素子全体の視野角を小さくできる。
上記の目的を達成するために、本開示のいくつかの実施形態によるCSP型LED素子の製造方法は、以下を含む。すなわち、1)複数のLED半導体ダイを離型層上に配置して、LED半導体ダイのアレイを形成し、2)LED半導体ダイのアレイ上に複数の接続されたパッケージ構造体を形成し、その場合、ビーム成形構造体がパッケージ構造体の一部として形成され、3)複数のパッケージ構造体を個別分離し、その場合、離型層は複数のパッケージ構造体を個別分離する前または後に除去可能である。
よって、本開示は、少なくとも以下の利点を提供する。すなわち、CSP型LED素子のBSSは比較的低濃度(例えば、約30wt%以下)の光散乱粒子を有するため、LED半導体ダイおよび/またはフォトルミネセンス構造体から出射した部分光は、BSS中を進む際に別の方向に散乱される。そのため、元の進行方向における光強度が低下し、これに応じてCSP型LED素子の視野角も変化する。BSSを適切に設計することにより、比較用の上面発光型CSP型LED素子で発生するような反射性構造体内における過剰光子の消失が軽減する。その結果、全体的な発光効率を向上させることができる。
一例として、意図的にBSSがCSP型LED素子の側縁部を取り囲むように配設すると、本来LED半導体ダイのほぼ水平方向に進む部分光は、BSS中を進みながらほぼ垂直方向に散乱するが、本来ほぼ垂直方向に進む光には、BSSによる散乱効果が及ばないことがある。そのため、CSP型LED素子のほぼ水平方向に進む光の強度が低下するのに対し、CSP型LED素子のほぼ垂直方向に進む光の強度は増加するため、視野角が全体的に小さくなる。換言すれば、本開示のいくつかの実施形態によるCSP型LED素子では、約120度〜約140度のより小さな視野角を得ることができる。
別の例として、BSSをLED半導体ダイの上方にスペーサを挟んで離れて配設すると、本来CSP型LED素子のほぼ水平方向に進む光の強度が増し、本来CSP型LED素子のほぼ垂直方向に進む光の強度は低下する。換言すれば、全体的な視野角を例えば約160度または約170度に拡大できる。
加えて、本開示のいくつかの実施形態のBSSは、十分に制御されながらも廉価な製造工程を用いて製造することができる。また、BSSは、素子全体の幾何学的外形の増加を招くことなく、CSP型LED素子内に組み込まれる。そのため、CSP型LED素子の視野角を調整することで、様々な用途に十分適したものになる。
本開示のその他の態様および実施形態も企図される。上記した概要および以下の詳細な説明は、本開示をいずれかの特定の実施形態に制限するものではなく、本開示のいくつかの実施形態について述べているにすぎない。
および 比較用のCSP型LED素子を示す模式断面図である。 比較用のCSP型LED素子の光消失機構を示す模式断面図である。 本開示の一実施形態によるCSP型LED素子を示す3D模式斜視図である。 本開示の一実施形態によるCSP型LED素子を示す模式断面図である。 図2Bに示すCSP型LED素子のBSS内の光ビーム転向機構を示す模式断面図である。 および 図2Bに示すCSP型LED素子の変形例の実施形態を示す模式断面図である。 本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子を示す模式断面図である。 本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子を示す模式断面図である。 本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子を示す模式断面図である。 本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子を示す3D模式斜視図である。 本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子を示す断面模式図である。 および および および および および および および 本開示の様々な実施形態によるCSP型LED素子を製造する製造工程を示す模式図である。
詳細な説明
定義
以下の定義は、本発明のいくつかの実施形態に関して述べるいくつかの技術態様に適用されるものである。これらの定義は、本明細書において同じように拡大してもよい。
本明細書で使用する単数扱いの用語は、非特定と特定とを問わず、文脈上特に指示しない限り、複数の対象を含むものとする。よって、例えば、1つの層に関する説明は、特に明示しない限り複数の層を含み得る。
本明細書で使用する用語「1組」は、1つ以上の構成要素の集りを意味する。したがって、例えば、1組の層は単一の層または複数の層を含む場合がある。1組の構成要素とは、1組のうちの複数の部材を意味する場合もある。1組のうちの複数の構成要素は、同じものである場合もあれば、異なる場合もある。いくつかの場合において、1組の各構成要素は、1つ以上の共通する特性を含んでもよい。
本明細書で使用する用語「隣接する」は、近くにあるか、または隣り合うことを意味する。隣接する構成要素は、互いに離れていてもよいし、または互いに実際に、すなわち直接に接触していてもよい。いくつかの例では、隣接する構成要素は、互いに接続している場合があり、または互いに一体形成されている場合もある。いくつかの実施形態の記載において、別の構成要素の「上」に、または「上方」に設けられた構成要素とは、前者の要素が後者の要素に直接設けられている場合(例えば、直接物理的に接触している場合)と、1つ以上の介在要素が前者の要素と後者の要素との間に設けられている場合も含んでもよい。いくつかの実施形態の記載において、別の構成要素の「下」に設けられた構成要素とは、前者の構成要素が後者の構成要素の下に設けられている場合(例えば、直接物理的に接触している場合)と、1つ以上の介在要素が前者の構成要素と後者の構成要素との間に設けられている場合を含んでもよい。
本明細書で使用する用語「接続する」、「接続された」および「接続」は、動作上の連結または関連を意味する。接続された構成要素は、互いに直接連結させてもよく、あるいは例えば別の1組の構成要素を介して互いに間接的に連結させてもよい。
本明細書で使用する用語「約」、「実質的に」および「実質的な」は、考慮すべき度合いまたは程度を意味する。事象または状況に関連付けて用いられる場合、本用語は、その事象または状況が間違いなく発生する場合の他に、その事象または状況がほぼ発生する、例えば本明細書中に記載の製造作業の典型的な許容レベルを占めるような近接の場合を含んでもよい。例えば、数値に関連して用いられる場合、これらの用語は、±10%以内の数値の変動範囲を含んでいてもよく、例えば、±5%以内、±4%以内、±3%以内、±2%以内、±1%以内、±0.5%以内、±0.1%以内、または±0.05%以内の変動範囲を含む。例えば、2つの面間のなんらかのずれが50μm以下、例えば、40μm以下、30μm以下、20μm以下、10μm以下、5μm以下、1μm以下、または0.5μm以下である場合、これら2つの面は実質的に同じ高さであるか、または整列しているとみなされる。
本明細書でフォトルミネセンスに関して使用される用語「効率」または「量子効率」とは、入力光子数に対する出力光子数の比を表す。
本明細書で使用する用語「大きさ」は、特徴的寸法を意味する。対象物が球形(例えば粒子)の場合、対象物の大きさとは対象物の直径を意味するものでよい。対象物が非球形の場合、対象物の大きさとは対象物の様々な直交寸法の平均値を意味するものでよい。よって、例えば、楕円体の対象物の大きさは、その対象物の長軸と短軸の平均値を指すものでよい。特定の大きさを有する1組の対象物について言及する場合、対象物はその特定の大きさの周囲にいくつかの大きさが分布するものと考えられる。よって、本明細書において用いられるように、1組の対象物の大きさは、例えば大きさの平均値、中間値またはピーク値などの大きさ分布の一般的な大きさを意味するものでよい。
図2Aは本開示の一実施形態によるCSP型LED素子1Aの3D模式斜視図であり、図2Bはその模式断面図である。CSP型LED素子1Aは、LED半導体ダイ10、フォトルミネセンス構造体20、ビーム成形構造体(BSS)30、および上澄み光透過層40を備えている。パッケージ構造体200は、フォトルミネセンス構造体20、BSS30、および上澄み光透過層40を備えている。詳細な技術内容について、以下に述べる。
LED半導体ダイ10は望ましくはフリップチップ型LED半導体ダイであり、上面11、下面12、縁面13および1組の電極14を有する。上面11および下面12は実質的に平行に形成され、互いに対向している。縁面13は、上面11と下面12との間に形成され、上面11の外縁を下面12の外縁と接続している。
1組の電極14または複数の電極は、下面12上に配設されている。電気エネルギーを1組の電極14を通ってLED半導体ダイ10に印加すると、エレクトロルミネセンスが発生する。この特定の構造に関しては、エレクトロルミネセンスを発生させる活性領域は通常、フリップチップ型LED半導体ダイ10の下側位置(下面12に近い位置)の近くに位置している。そのため、活性領域によって生成された光は、上面11および縁面13を通って、外方に出射する。したがって、フリップチップ型LED半導体ダイ10は、光を上面11および縁面13(4つの周辺側縁部)から出射する、すなわち、5面発光型LED半導体ダイを構成する。
フォトルミネセンス構造体20の主要な機能は、LED半導体ダイ10の上面11および縁面13から出射した光の波長を変換することである。詳細には、LED半導体ダイ10から出射した青色光がフォトルミネセンス構造体20を透過すると、フォトルミネセンス構造体20中に含まれるフォトルミネセンス材料によって青色光の一部を波長が長くエネルギーの低い光へダウンコンバートすることができる。そのため、フォトルミネセンス材料およびLED半導体ダイ10の発光した異なる波長の光を所定の比で混合して、所望の色の光、例えば様々な色温度の白色光を生成できる。
素子1Aの構造に関して、フォトルミネセンス構造体20はさらに、上部位21、縁部位22、および延長部位23を備えている。上部位21は、LED半導体ダイ10の上面11を覆って、上面11から出射した光を長い波長へダウンコンバートするように形成され、縁部位22は、LED半導体ダイ10の縁面13を覆い、縁面13から出射した光を長い波長へダウンコンバートするように形成されている。延長部位23は、縁部位22から外方に延びている。縁部位22および延長部位23はどちらも、LED半導体ダイ10を包囲するように形成され、延長部位23の厚さは望ましくは、LED半導体ダイ10の厚さよりも薄い。図2Bに示すように、上部位21は上面211を有し、縁部位22は縁面221を有する。延長部位23は上面231を有する。
BSS30はフォトルミネセンス構造体20を囲繞するように配設され、CSP型LED素子1Aの視野角をBSS30によって小さくできるようにしている。従来は、LED素子の視野角は、一般的に空間放射パターンの半値全幅(FWHM)と規定され、FWHMは、光強度がそのピーク値の半分(半値)に等しいときの空間放射パターンの「幅」(または角度)を表す。
詳細には、CSP型LED素子がBSS30を備えていない場合、フォトルミネセンス構造体20を透過する光は、一般的に、視野角が140度〜160度の放射パターンを形成する。これと対照的に、CSP型LED素子にBSS30が組み込まれている場合、視野角は約140度未満、例えば約120度〜約140度の間にある。
より詳細には、BSS30は、フォトルミネセンス構造体20の縁部位22の縁面221および延長部位23の上面231の両方を覆っている。異なるプロセス条件を用いてBSS30の変形例を達成することができる。例えば、図2Aおよび図2Bに示すように、BSS30の上面31は、フォトルミネセンス構造体20の上部位21の上面211と実質的に同じ高さであるか、またはこれと整列し、フォトルミネセンス構造体20の上部位21は、BSS30によって覆われず露出している。
他の変形例に関しては、図3Aに示すように、BSS30は、フォトルミネセンス構造体20の上部位21の上面211上に若干延びて上面を覆っていてもよい。図3Bに示すように、BSS30の上面31は、フォトルミネセンス構造体20の上部位21の上面211よりも若干低くして上部位21を覆わないで、縁部位22がBSS30から部分的に露出するようにしてもよい。換言すれば、フォトルミネセンス構造体20の縁部位22を囲繞して形成されたBSS30は、上部位21を選択的に覆うか、または縁部位22の縁面221を選択的かつ部分的に覆ってもよい。
図2Aおよび図2Bを参照すると、BSS30は、ポリマー樹脂材料301およびポリマー樹脂材料301中に分散させた光散乱粒子302を用いて製造され、光の進行方向を変える。光散乱粒子302は、例えば、TiO、BN、SiO、Al、その他の金属、非金属酸化物、またはこれらの任意の組み合わせによる材料のうちの1つから選択してもよい。光散乱粒子302の結合に用いられるポリマー樹脂材料301は、望ましくは光透過性である。ポリマー樹脂材料301は、例えば、シリコーン、エポキシもしくはゴム、またはこれらの任意の組み合わせからなる熱硬化材料のうちの1つから選択してもよい。
光散乱粒子302を高濃度でBSS30中に過剰に分散させると、光がBSS30を通過するのが困難になる。そのため、BSS30中の光散乱粒子302は重量百分率wt%で、約30wt%以下、約25wt%以下、約20wt%以下、約15wt%以下、または約10wt%以下である。すなわち、BSS30が含む光散乱粒子302は比較的低濃度である。
製造を容易にするためには、光散乱粒子302を熱硬化ポリマー樹脂材料301中に均一に分散させることが望ましい。しかし、製造工程時に、光散乱粒子302が重力効果または他の要因によりポリマー樹脂材料301中に均一に分散しない場合があることは理解されよう。別の実施例において、光散乱粒子302を意図的に導入して、ポリマー樹脂材料301中の特定位置の濃度を高くしてもよい。例えば、フォトルミネセンス構造体20の上部位21および縁部位22を両方ともポリマー樹脂材料301で覆うように配置する場合、光散乱粒子302は、フォトルミネセンス構造体20の縁部位22を囲繞する位置において濃度を高くし、フォトルミネセンス構造体20の上部位21を覆うる位置において濃度を低くすることが望ましい。そのため、上部位21から出射した光は、フォトルミネセンス構造体20の縁部位22から出射した光と比較するほど強い光散乱効果は得られない。
図2Aおよび図2Bに示すように、上澄み光透過層40は、BSS30上に配置されてBSS30の上面31を覆い、フォトルミネセンス構造体20およびBSS30の環境保護層および平坦化層の役割を果たす。BSS30がフォトルミネセンス構造体20の上部位21を覆うことを意図していない場合、図2Bおよび図3Bに示すように、上澄み光透過層40は、フォトルミネセンス構造体20の上面211およびBSS30の上面31を同時に覆い、フォトルミネセンス構造体20の上面211およびBSS30の上面31を隣接させることができる。
図2Cは、CSP型LED素子1Aの模式断面図であり、ビーム成形機構によってCSP型LED素子1Aの視野角が変わる様子を示す。
フォトルミネセンス構造体20の縁部位22を覆うように形成されたBSS30は、比較的低濃度(例えば、約30wt%を超えない濃度)の光散乱粒子302を有するため、LED半導体ダイ10から出射してフォトルミネセンス構造体20中をほぼ水平方向D2に通過する光ビームLは、BSS30を貫通する。BSS30内では、光ビームLの一部(L1)がその元の方向(例えば、ほぼ水平方向D2)に進み続け、最終的にBSS30の縁面32から漏れ出る。光ビームLの別の一部(L2)は、その進行方向が大きく変わり、光散乱粒子302によりほぼ垂直方向D1に転向して、最終的にBSS30の上面31から外方に出射する。
換言すれば、本来のほぼ水平方向D2に進行する光ビームLがBSS30を通過した後、光ビームの一部L1はほぼ水平方向D2において外方に進み続け、別の一部の光ビームL2はほぼ垂直方向D1に散乱する。その結果、CSP型LED素子1Aのほぼ水平方向D2に出射した光ビームは強度が低下し、CSP型LED素子1Aのほぼ垂直方向D1に出射した光ビームは強度が増加する。このように、CSP型LED素子1Aから出射した光ビームは、ほぼ垂直方向D1に出射する強度が高くなるため、BSSを用いない比較用のCSP型LED素子に比べ、視野角が小さくなる。また、BSS30は、比較的低濃度の光散乱粒子302を有するため、BSS30内で光子が消失する確率が低くなり、CSP型LED素子1A全体の発光効率が向上する。
さらに、視野角に影響するBSS30の2つの設計パラメータ、例えば、光散乱粒子302の重量百分率およびBSS30の幾何学的寸法を以下の段落に詳細に例示する。
BSSの第1の設計パラメータは、散乱粒子濃度である。BSS30が高濃度の(wt%によって定量化された)光散乱粒子302を有するほど、CSP型LED素子1Aの視野角は小さくなりやすい。以下の表1にまとめた測定結果に示すように、光散乱粒子302の濃度が約1.5wt%(実施形態の素子T1)から約2.5wt%(実施形態の素子T2)へ増加した場合、視野角は約128度(実施形態の素子T1)から約126度(実施形態の素子T2)に減少し、その他の素子パラメータは同じままである。BSS30が高濃度の光散乱粒子302を有するほど、光ビームLはBSS30を透過する時に高い光散乱効果を得る確率が高くなるため、光ビームLが散乱して異なる進行方向に転向する確率が高くなることが理解されよう。よって、ほぼ水平方向D2における光強度が低下し、ほぼ垂直方向D1における光強度が高くなり、CSP型LED素子1A全体の視野角が小さくなる。
いくつかの実施形態において、光散乱粒子302の重量百分率は、約10%より低く、かつ約0.1%より高いことが望ましく、これによりCSP型LED素子1Aは、約120度〜約140度の視野角を有する光ビームを得ることができる。
他の設計要素に関して、2つのパラメータを規定して、BSS30の幾何学的寸法を特徴付ける。図2Cに示すように、第1の特性寸法Wは、フォトルミネセンス構造体20の縁面221からBSS30の縁面32までの水平距離として規定され、第2の特性寸法Tは、下面33からBSS30の上面31までの垂直距離として規定される。次にさらに、アスペクト比を、第1の特性寸法Wを第2の特性寸法Tによって除した値、すなわちW/Tとして規定することができる。アスペクト比W/Tが大きくなるほど、視野角は小さくなることが理解されよう。表1にまとめた実施形態の素子T1と実施形態の素子T3の測定結果を比較すると、視野角は約128度から約124度に減少し、アスペクト比W/Tは約180μm/150μmから約250μm/150μmに増加し、BSSの他のパラメータは同じままである。BSS30のアスペクト比W/Tが大きくなると、ほぼ水平方向D2に沿って進む光ビームLは、BSS30中における光散乱効果が増す。光ビームLがほぼ垂直方向D1へ散乱すると、光ビームLがほぼ垂直方向に進んでBSS30から漏れ出るまでの距離が短くなる。そのため、ほぼ垂直方向D1において光ビームLが受ける光散乱効果はほとんどない。よって、ほぼ水平方向D2における光強度が低下するのに対し、ほぼ垂直方向D1における光強度が増すため、CSP型LED素子1A全体の視野角は小さくなる。いくつかの実施形態において、アスペクト比W/Tは約1よりも大きくなり得、例えば、約1.1以上、約1.2以上、約1.3以上、約1.4以上、または約1.5以上、さらには約1.8以上または約2以上まで大きくなる場合がある。
さらに、BSS30に加えて、上澄み光透過層40もCSP型LED素子1Aの視野角を成形する役割を果たす。CSP型LED素子1Aは、上澄み光透過層40を任意で有していてもよく、これにより、ほぼ垂直方向D1に進む光が上澄み光透過層40を通る際に屈折して、全体的な視野角が大きくなる。測定結果の1つによると、上澄み光透過層40を有するCSP型LED素子1Aは約125度の視野角を示し、上澄み光透過層40(図示せず)を含まないCSP型LED素子1Aは約120度の視野角を示している。
上澄み光透過層40は、視野角の成形の他に、CSP型LED素子1Aの光抽出効率または発光効率を向上させることもできる。測定結果の1つによると、上澄み光透過層40を有するCSP型LED素子1Aは、上澄み光透過層40を含まないCSP型LED素子1Aよりも発光効率が約5%高い。さらに、上澄み光透過層40は、フォトルミネセンス構造体20およびBSS30に比べて屈折率(RI)が低いポリマー樹脂材料を用いて製造してもよい。これにより、適切なRI整合を行って、例えば、フォトルミネセンス構造体20、BSS30、上澄み光透過層40および周囲環境(空気)といった様々な媒体間の界面で生じる内部全反射に起因する光エネルギー損失を低減させることができる。よって、CSP型LED素子1Aの光抽出効率および発光効率をさらに改善できる。
したがって、所望の視野角および全体発光効率に応じて、上澄み光透過層40をCSP型LED素子1Aに組み込むことができる。
また、図2B、図3Aおよび図3Bに示す変形例の実施形態によると、BSS30は、フォトルミネセンス構造体20を様々な範囲で覆って、CSP型LED素子1Aの視野角を成形することができる。
上記の各段落は、CSP型LED素子1Aに関連する実施形態の詳細な説明である。本開示によるCSP型LED素子の他の実施形態の詳細な説明を以下に記載する。以下の発光素子の実施形態で見られる特徴および利点に関する詳細な説明の一部は、CSP型LED素子1Aに関する説明と類似するため、省略して説明を簡略にすることが理解されよう。
図4は、本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子1Bの模式断面図である。CSP型LED素子1BとCSP型LED素子1Aとの違いは、少なくとも、CSP型LED素子1Bのフォトルミネセンス構造体20がCSP型LED素子1Aの有する延長部位23を含まない点である。そのため、BSS30の下面33は縁部位22の下面222と実質的に同じ高さであるか、またはこれと整列し、また、LED半導体ダイ10の下面12と実質的に同じ高さであるか、またはこれと整列するものでよい。加えて、成形工程を行ってフォトルミネセンス構造体20を製造する場合、CSP型LED素子1Bのフォトルミネセンス構造体20の厚さは、CSP型LED素子1Aのフォトルミネセンス構造体20の厚さよりも大きくできる。
図5は、本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子1Cの模式断面図である。CSP型LED素子1Cと上述のCSP型LED素子1Aおよび1Bとの違いは、CSP型LED素子1Cがさらに、フォトルミネセンス構造体20とLED半導体ダイ10との間に挟まれた軟質緩衝層50を含む点である。詳細には、軟質緩衝層50は、LED半導体ダイ10の上面11および縁面13を覆っている。その後、BSS30を平坦化層として形成し、フォトルミネセンス構造体20の縁部位22を覆い、さらに任意でフォトルミネセンス構造体20の上部位21を覆う。
軟質緩衝層50は、以下の技術的利点を有する。すなわち、1)フォトルミネセンス構造体20とLED半導体ダイ10との間の密着強度が向上し、2)CSP型LED素子1C内の構成要素間の熱膨張係数の不一致に起因する内部応力が軽減し、3)その後のフォトルミネセンス構造体20の製造が容易になり、ほぼ形状適応性の被覆層が形成される。軟質緩衝層50の詳細な技術的記載については、米国特許出願第15/389,417号(台湾特許出願第104144441号としても公開)に開示されている。本明細書に同公報の開示内容全体を参照により取り込む。
図6は、本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子1Dの模式断面図である。CSP型LED素子1Dと上述したCSP型LED素子1A、1Bおよび1Cとの違いは、CSP型LED素子1Dがフォトルミネセンス構造体20を含まないでBSS30がLED半導体ダイ10の縁面13を直接覆って接合するようにし、さらに任意でLED半導体ダイ10の上面11を覆う点である。フォトルミネセンス構造体20が含まれないため、CSP型LED素子1Dは、単色の光ビーム、例えば赤色、緑色、青色、赤外線、紫外線などを出力することができる。この特定の構造により、CSP型LED素子1Dは、視野角がより小さい光ビームを得ることができる。
上記のCSP型LED素子1A〜1Dに共通する技術的特徴として、BSS30を主に素子構造内の側部位上に配置することで、光ビームの一部をほぼ水平方向からほぼ垂直方向へ転向させて視野角が小さくなることである。本開示の別の実施形態によるCSP型LED素子1Eは、BSS30’をLED半導体ダイ10およびフォトルミネセンス構造体20の両方の上方の離れた位置に配置して、光ビームの一部をほぼ垂直方向からほぼ水平方向へ転向させて、視野角を大きくする。
図7AはCSP型LED素子1Eの3D模式斜視図であり、図7Bは素子1Eの模式断面図である。CSP型LED素子1Aと同様に、CSP型LED素子1Eも、LED半導体ダイ10、フォトルミネセンス構造体20、ビーム成形構造体(BSS)30’および上澄み光透過層40’を含む。CSP型LED素子1Eの各構成要素の詳細な技術内容については、CSP型LED素子1Aの対応する構成要素に関する説明を参照することとするが、BSS30’および上澄み光透過層40’の配置構成は、CSP型LED素子1Aの構成とは異なることが理解されよう。
詳細には、上澄み光透過層40’は、フォトルミネセンス構造体20上に積層された平坦化層として形成され、フォトルミネセンス構造体20の上部位21、縁部位22および延長部位23を覆っている。図7Bに示すように、上澄み光透過層40’は、BSS30’とフォトルミネセンス構造体20との間に挟まれた平坦化層ならびにスペーサ層として機能する。BSS30’の厚さは望ましくは実質的に均一であり、上澄み光透過層40’の上面41の一部の領域を実質的に完全に覆うか、または選択的に覆う。
BSS30’は、比較的低濃度の光散乱粒子302を含み、その濃度は、約30wt%を超えず、約25wt%を超えず、約20wt%を超えず、約15wt%を超えず、または約10wt%を超えず、望ましくは約0.1wt%〜約10wt%である。この特定の実施形態により、LED半導体ダイ10が直接発光したか、またはフォトルミネセンス構造体20によりダウンコンバートされほぼ垂直方向D1に進んだ光ビームLは、一部がBSS30’に進入できる。BSS30’内に進入すると、光ビームLの一部は、図7B中の光ビームL1として示すように、光散乱効果によって進行方向があまり変化しない。図7Bに光ビームL2として示す光ビームLの別の一部は、ほぼ水平方向D2に散乱し、最終的にBSS30’の縁面から外方に出射する。
その結果、CSP型LED素子1Eのほぼ水平方向D2に進行する光ビームの強度が増加し、CSP型LED素子1Eのほぼ垂直方向D1に進行する光ビームの強度が低下する。よって、CSP型LED素子1Eの発光した光ビームLは、BSS30’を含まない比較用のCSP型LED素子よりも大きな視野角を示すことになる。例えば、視野角は、約160度よりも大きくでき、例えば、約160度〜約180度を上回る範囲に拡大できる。測定結果の一例によると、上澄み光透過層40’上にBSS30’を形成したCSP型LED素子1Eの視野角は約170度であり、BSS30’を含まない比較用のCSP型LED素子(図示せず)の視野角は140度である。したがって、BSS30’は、CSP型LED素子1Eの視野角を拡大させてより大きな視野角を指定する特定の用途条件を満たすという目的を果たす。
次に、本開示によるCSP型LED素子のいくつかの実施形態を製造する製造方法について説明する。CSP型LED素子1A〜1Eを製造する製造方法は、順序が異なるものの類似している。製造方法の変形例の実施形態の詳細な説明は一部が類似しているため、省略して説明を簡略にすることが理解されよう。
図8A〜図8Fは、本開示のいくつかの実施形態によるCSP型LED素子を製造する製造方法を示す。本製造方法は、以下の3つの主製造段階を含む。すなわち、1)複数のLED半導体ダイ10を配置してアレイを離型層900上に形成し、2)複数のパッケージ構造体200を含むパッケージシート層をLED半導体ダイ10のアレイ上に形成し、3)パッケージシート層を個別分離して複数のCSP型LED素子を形成する。本製造方法の技術について、以下にさらに詳細に述べる。
第1の主製造段階では、LED半導体ダイのアレイを形成する。図8Aに示すように、先ず離型層900を製造し、離型層900を例えばシリコン基板、ガラス基板、金属基板などのキャリア基板(図示せず)上に配置してもよい。次に、複数のLED半導体ダイ10を離型層900上に配置して、LED半導体ダイのアレイ10を実質的に一定のピッチ長で形成する。離型層900の実施例として、紫外線(UV)光剥離テープ、熱剥離テープなどがある。LED半導体ダイ10のアレイの各1組の電極14を配置して強く押圧し、軟質の離型層900内に埋め込むことが望ましい。これにより、後続の製造工程において1組の電極14を汚染から保護できよう。
第2の主製造段階では、パッケージシート層を形成する。次いで、図8B〜図8Dに示すように、複数のパッケージ構造体200を備えたパッケージシート層を形成してLED半導体ダイ10のアレイを覆う。パッケージシート層をLED半導体ダイ10上に形成する製造工程について、以下に詳細に述べる。
図8Bに示すように、複数のフォトルミネセンス構造体20をLED半導体ダイ10のアレイ上に形成し、各フォトルミネセンス構造体20の縁部位22がLED半導体ダイ10の縁面13を覆い、フォトルミネセンス構造体20の上部位21がLED半導体ダイ10の上面11を覆う。また、フォトルミネセンス構造体20は、縁部位22から外方に延伸しかつ離型層900の表面に被さる延長部位23を備えていてもよい。望ましくは、フォトルミネセンス構造体20は、米国特許出願公開公報第US2010/0119839号に開示の方法によって形成し、フォトルミネセンス材料およびポリマー樹脂材料の1つ以上の層を順に積層させて、フォトルミネセンス構造体20を形成することも可能である。このように、本方法によって形成されたフォトルミネセンス構造体20は、多層構造をとることができる。米国特許出願公開公報の技術的内容全体を引用によりここに取り込む。
次に、図8Cに示すように、ビーム成形構造体(BSS)30を備えた平坦化層を形成して、フォトルミネセンス構造体20の縁部位22および上部位21を覆う。あるいは、BSS30の製造工程時に、BSS30がフォトルミネセンス構造体20の上部位21を覆わないように設定して、図2Aおよび図2Bに示すCSP型LED素子1Aの実施形態を形成してもよい。任意で、BSS30をその上面が上部位21の上面211よりも低くなるように製造して、フォトルミネセンス構造体20の縁面221を部分的に露出させ、図3Bに示すCSP型LED素子1Aの別の実施形態を形成してもよい。
BSS30を製造する製造法に関し、BSS30の製造用組成材料は、光散乱粒子302をポリマー樹脂材料301中に分散させて形成することが望ましい。例えばオクタン、キシレン、酢酸塩、エーテル、トルエンなどの有機溶媒を用いて組成材料をさらに希釈して、粘度を低減させてもよい。希釈された比較的低粘度の組成材料は、例えばスプレーコーティングなどの製造法を用いてフォトルミネセンス構造体20上にコーティングしてもよい。粘度が低いため、図8Cに示すように、組成材料が流動して、実質的に同じ高さの上面を有するフォトルミネセンス構造体20上に平坦化層が形成される。また、BSS30の組成材料は、他の製造法、例えば分注法、印刷法、成形法などで形成してもよい。最後に、熱またはUV硬化法を用いて、BSS30を固化させる。
BSS30は直接LED半導体ダイ10に直接隣接していないが、LED半導体ダイ10の外側は、間にフォトルミネセンス構造体20を挟んで、BSS30によって離れた位置にてなおも被覆されているか、または保護されている。換言すれば、BSS30は、LED半導体ダイ10の光路に沿って配置される。よって、フォトルミネセンス構造体20から出射した光ビームだけでなく、LED半導体ダイ10の発光した光ビームも、BSS30によって成形されることになる。
次に、図8Dに示すように、上澄み光透過層40を形成して、フォトルミネセンス構造体20および/またはBSS30を覆う。上澄み光透過層40は実質的に透明なポリマー樹脂材料を用いて形成するのが望ましく、適切な製造法、例えばスプレーコーティング、スピンコーティング、成形、分注などによって、フォトルミネセンス構造体20および/またはBSS30上にコーティングできる。その後、ポリマー樹脂材料を熱またはUV硬化法を用いて固化させる。
上記製造工程を用いることで、CSP型LED素子1Aの実施形態を製造する複数のパッケージ構造体200を含むパッケージシート層が形成され、上記製造工程が完了した後も、パッケージ構造体200同士が接続されたままとなる。本開示によるCSP型LED素子の他の実施形態に対応する様々なパッケージ構造体200を形成するいくつかの製造法の変形例について、以下に述べる。
上澄み光透過層40をパッケージ構造体200内に設けることが望ましくない場合、図8Dに示す上澄み光透過層40を形成する製造工程を省いてもよい。これにより、上澄み光透過層40を含まないCSP型LED素子を得ることができる。
図4に示すCSP型LED素子1Bの実施形態に対応するパッケージ構造体200を指定する場合、図8Bに示すフォトルミネセンス構造体20を形成する製造工程は、例えば成形法または印刷法などの代替的な製造法を用いて実現することができる。これにより、延長部位23を含まないフォトルミネセンス構造体20を製造でき、したがってBSS30は、図8Cに示すような次の製造工程において離型層900を覆うように形成されることになる。
図5に示すCSP型LED素子1Cの実施形態に対応するパッケージ構造体200を指定する場合は、図8Aに示すように、LED半導体ダイ10を配置する製造工程が完了したら、先ず、軟質緩衝層50をスプレーコーティングによって形成することが望ましい。その後、図8Bに示す製造工程後に、フォトルミネセンス構造体20を形成して軟質緩衝層50を覆う。
図6に示す単色CSP型LED素子1Dの実施形態に対応するパッケージ構造体200を指定する場合、図8Bに示すフォトルミネセンス構造体20を形成する製造工程は省いてもよい。図8Cに示すその後の製造工程において、BSS30は、LED半導体ダイ10の縁面13を直接覆うように形成することができ、また任意で、さらにLED半導体ダイ10の上面11を覆うように形成することができる。
図7Bに示すように、より大きな視野角を有するCSP型LED素子1Eの実施形態に対応するパッケージ構造体200を指定する場合、図8Bに示す製造工程(フォトルミネセンス構造体層20の形成)、図9Aに示す製造工程(上澄み光透過層40’の形成)、および図9Bに示す製造工程(遠隔BSS層30’の形成)を順次、行うことができる。
第3の主製造段階では、パッケージシート層を個別分離する。第2の主製造段階において所望のパッケージ構造体200をシート層として形成した後、離型層900を図8Eに示すように除去してもよい。次に、複数のパッケージ構造体200を含むパッケージシート層を図8Fに示すように個別分離する。これにより、複数のCSP型LED素子1A〜1Eが得られる。個別分離工程を行った後、離型層900を除去できることは理解されよう。
上記を鑑みると、様々な実施形態のビーム成形構造体を取り入れた様々なCSP型LED素子を製造する製造方法の実施形態のいくつかの変形例を開示することにより、CSP型LED素子の視野角を適切に成形して多様な用途の仕様を満たすことができる。また、開示した各方法は、バッチ型の大量生産工程にも十分に適応できる。
本開示について特定の実施形態に関し述べてきたが、添付の特許請求の範囲に規定する本開示の真の趣旨および範囲から逸脱することなく、様々な変更が可能であり、均等物に置き換え可能であることは、当業者であれば理解の及ぶことであろう。加えて、様々な変更を行って、本開示の目的、趣旨および範囲に対して特定の状況、材料、物の構成、方法または工程を適用することも可能であろう。このような変更はすべて、添付の特許請求の範囲に含まれるものである。詳細には、本明細書に開示した方法は、特定の順序で行われる特定の動作に関して述べられているが、これらの動作を組み合わせたり、さらに分割したり、または順序を組み替えたりして、本開示の教示内容から逸脱することなく均等な方法を構成することも可能である。よって、本明細書中に特に指定しない限り、各動作の順序およびグループ化は本開示を限定するものではない。

Claims (24)

  1. 上面、該上面に対向する下面、縁面および1組の電極を含み、前記縁面は前記上面と前記下面との間に延び、前記1組の電極が該下面上に配設されたフリップチップ型発光ダイオード(LED)半導体ダイと、
    該LED半導体ダイの前記上面上に配置された上部位、および該LED半導体ダイの前記縁面を覆う縁部位を含むフォトルミネセンス構造体と、
    該フォトルミネセンス構造体の前記縁部位の縁面を囲繞して配設されたビーム成形構造体とを含み、該ビーム成形構造体はポリマー樹脂材料、および該ポリマー樹脂材料中に分散された光散乱粒子を含み、該光散乱粒子の前記ビーム成形構造体における重量百分率は、30%を上回らないことを特徴とする発光素子。
  2. 前記ビーム成形構造体中の前記光散乱粒子は重量百分率で10%を上回らず、また0.1%を下回らないことを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
  3. 前記光散乱粒子は、TiO、BN、SiOまたはAlのうち少なくとも1つを含み、前記ポリマー樹脂材料は、シリコーン、エポキシまたはゴムのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項1に記載の発光素子。
  4. 前記ビーム成形構造体はさらに、前記フォトルミネセンス構造体の前記上部位の上面を覆うことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光素子。
  5. 前記ビーム成形構造体の上面は、前記フォトルミネセンス構造体の前記上部位の上面と実質的に同じ高さであるか、または、前記ビーム成形構造体の前記上面は、前記フォトルミネセンス構造体の前記上部位の前記上面よりも低いことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光素子。
  6. 前記フォトルミネセンス構造体はさらに、該フォトルミネセンス構造体の前記縁部位から外方に延びる延長部位を含み、前記ビーム成形構造体はさらに、前記フォトルミネセンス構造体の前記延長部位の上面を覆うことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光素子。
  7. 前記ビーム成形構造体の下面は、前記フォトルミネセンス構造体の前記縁部位の下面と実質的に同じ高さであることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光素子。
  8. 前記発光素子はさらに、前記ビーム成形構造体上に配設された、または前記フォトルミネセンス構造体および該ビーム成形構造体の両方の上に配設された光透過層を含むことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光素子。
  9. 前記発光素子はさらに、前記LED半導体ダイの前記上面および前記縁面を覆う軟質緩衝層を含み、前記フォトルミネセンス構造体は該軟質緩衝層上に配設されていることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の発光素子。
  10. 上面、該上面に対向する下面、縁面および1組の電極を含み、前記縁面は前記上面と前記下面との間に延び、前記1組の電極が該下面上に配設されたフリップチップ型発光ダイオード(LED)半導体ダイと、
    該LED半導体ダイの前記上面に配置された上部位、および該LED半導体ダイの縁面を覆う縁部位を含むフォトルミネセンス構造体と、
    該フォトルミネセンス層上に配設された光透過層と、
    該光透過層の上面を覆うビーム成形構造体とを含み、該ビーム成形構造体は、ポリマー樹脂材料および該ポリマー樹脂材料中に分散された光散乱粒子を含み、該光散乱粒子の前記ビーム成形構造体における重量百分率は30%を上回らないことを特徴とする発光素子。
  11. 前記ビーム成形構造体中の前記光散乱粒子は重量百分率で10%を上回らず、また0.1%を下回らないことを特徴とする請求項10に記載の発光素子。
  12. 前記光散乱粒子は、TiO、BN、SiOまたはAlのうち少なくとも1つを含み、前記ポリマー樹脂材料は、シリコーン、エポキシまたはゴムのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項10に記載の発光素子。
  13. 上面、該上面に対向する下面、縁面および1組の電極を含み、前記縁面は前記上面と前記下面との間に延び、前記1組の電極が該下面上に配設されたフリップチップ型発光ダイオード(LED)半導体ダイと、
    少なくとも該LED半導体ダイの前記縁面を囲繞して配設され、または該LED半導体ダイの前記上面の上方に配設されたビーム成形構造体とを含み、該ビーム成形構造体はポリマー樹脂材料、および該ポリマー樹脂材料中に分散された光散乱粒子を含み、該光散乱粒子の前記ビーム成形構造体における重量百分率は30%を上回らないことを特徴とする発光素子。
  14. 複数のLED半導体ダイを離型層上に配置してLED半導体ダイのアレイを形成し、
    複数のパッケージ構造体を含むパッケージシート層を前記LED半導体ダイのアレイ上に形成することを含む発光素子の製造方法において、
    前記LED半導体ダイのアレイ上への前記パッケージシート層の形成は、少なくとも前記LED半導体ダイのアレイの対応する縁面をそれぞれ覆う複数のビーム成形構造体を形成することを含み、該ビーム成形構造体は、ポリマー樹脂材料と、該ポリマー樹脂材料において30%を上回らない重量百分率で該ポリマー樹脂材料中に分散された光散乱粒子とを含み、該製造方法はさらに、
    前記パッケージシート層を個別分離し、
    前記離型層を除去することを含み、該離型層の除去は前記パッケージシート層の個別分離の前または後に行うことを特徴とする発光素子の製造方法。
  15. 前記ビーム成形構造体中の前記光散乱粒子は、重量百分率で10%を上回らず、また0.1%を下回らないことを特徴とする請求項14に記載の発光素子の製造方法。
  16. 前記光散乱粒子は、TiO、BN、SiOまたはAlのうち少なくとも1つを含み、前記ポリマー樹脂材料は、シリコーン、エポキシまたはゴムのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項14に記載の発光素子の製造方法。
  17. 複数のLED半導体ダイを離型層上に配置してLED半導体ダイのアレイを形成し、
    複数のパッケージ構造体を含むパッケージシート層を前記LED半導体ダイのアレイ上に形成することを含む発光素子の製造方法において、
    前記LED半導体ダイのアレイ上への前記パッケージシート層の形成は、該LED半導体ダイのアレイ上に複数のフォトルミネセンス構造体を形成することを含み、その場合、前記フォトルミネセンス構造体のそれぞれは上部位が前記LED半導体ダイのアレイの対応する1つの上面上に配置され、該フォトルミネセンス構造体のそれぞれは縁部位が該LED半導体ダイのアレイの対応する1つの縁面を覆い、
    前記LED半導体ダイのアレイ上への前記パッケージシート層の形成はさらに、それぞれが前記フォトルミネセンス構造体の対応する1つの縁部位の縁面を覆う複数のビーム成形構造体を形成することを含み、該ビーム成形構造体は、ポリマー樹脂材料と、該ポリマー樹脂材料において30%を上回らない重量百分率で該ポリマー樹脂材料中に分散された光散乱粒子とを含み、該製造方法はさらに、
    前記パッケージシート層を個別分離し、
    前記離型層を除去することを含み、該離型層の除去は前記パッケージシート層の個別分離の前または後に行うことを特徴とする発光素子の製造方法。
  18. 前記複数のビーム成形構造体の形成はさらに、
    前記ポリマー樹脂材料中に前記光散乱粒子を分散させて組成材料を形成し、
    前記フォトルミネセンス構造体のそれぞれの前記縁部位または前記LED半導体ダイのアレイのそれぞれの前記縁面を前記組成材料で覆うことを含むことを特徴とする請求項14ないし17のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
  19. 前記パッケージシート層の形成はさらに、前記複数のビーム成形構造体上に複数の光透過層を形成し、または前記複数のフォトルミネセンス構造体および前記複数のビーム成形構造体上に複数の上澄み光透過層を形成することを含むことを特徴とする請求項17に記載の発光素子の製造方法。
  20. 前記パッケージシート層の形成はさらに、
    前記LED半導体ダイのアレイ上に複数の軟質緩衝層を形成し、
    該複数の軟質緩衝層上に前記複数のフォトルミネセンス構造体を形成することを含むことを特徴とする請求項17に記載の発光素子の製造方法。
  21. 複数のLED半導体ダイを離型層上に配置してLED半導体ダイのアレイを形成し、
    複数のパッケージ構造体を含むパッケージシート層を前記LED半導体ダイのアレイ上に形成することを含む発光素子の製造方法において、
    前記LED半導体ダイのアレイ上への前記パッケージシート層の形成は、該LED半導体ダイのアレイ上に複数のフォトルミネセンス構造体を形成することを含み、その場合、前記フォトルミネセンス構造体のそれぞれは上部位が前記LED半導体ダイのアレイの対応する1つの上面上に配置され、該フォトルミネセンス構造体のそれぞれは縁部位が前記LED半導体ダイのアレイの対応する1つの縁面を覆い、
    前記LED半導体ダイのアレイ上への前記パッケージシート層の形成はさらに、
    前記複数のフォトルミネセンス構造体上に複数の光透過層を形成し、
    それぞれが該光透過層の対応する1つの上面を覆う複数のビーム成形構造体を形成することを含み、該ビーム成形構造体は、ポリマー樹脂材料と、該ポリマー樹脂材料において30%を上回らない重量百分率で該ポリマー樹脂材料中に分散された光散乱粒子を含み、該製造方法はさらに、
    前記パッケージシート層を個別分離し
    前記離型層を除去することを含み、該離型層の除去は前記パッケージシート層の個別分離の前または後に行うことを含むことを特徴とする発光素子の製造方法。
  22. 前記ビーム成形構造中の前記光散乱粒子は前記重量百分率で10%を上回らず、また0.1%を下回らないことを特徴とする請求項21に記載の発光素子の製造方法。
  23. 前記光散乱粒子は、TiO、BN、SiOまたはAlのうち少なくとも1つを含み、前記ポリマー樹脂材料は、シリコーン、エポキシまたはゴムのうち少なくとも1つを含むことを特徴とする請求項21に記載の発光素子の製造方法。
  24. 前記複数のビーム成形構造体の形成はさらに、
    前記ポリマー樹脂材料中に前記光散乱粒子を分散させて組成材料を形成し、
    前記光透過層のそれぞれの前記上面に前記組成材料をコーティングすることを含むことを特徴とする請求項21ないし23のいずれか1項に記載の発光素子の製造方法。
JP2017017728A 2016-02-05 2017-02-02 ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法 Active JP6622735B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW105104034 2016-02-05
TW105104034A TWI583028B (zh) 2016-02-05 2016-02-05 具有光形調整結構之發光裝置及其製造方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019211691A Division JP7016467B2 (ja) 2016-02-05 2019-11-22 ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017175118A true JP2017175118A (ja) 2017-09-28
JP6622735B2 JP6622735B2 (ja) 2019-12-18

Family

ID=59367327

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2017017728A Active JP6622735B2 (ja) 2016-02-05 2017-02-02 ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法
JP2019211691A Active JP7016467B2 (ja) 2016-02-05 2019-11-22 ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2019211691A Active JP7016467B2 (ja) 2016-02-05 2019-11-22 ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法

Country Status (3)

Country Link
JP (2) JP6622735B2 (ja)
KR (2) KR102210462B1 (ja)
TW (1) TWI583028B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020137760A1 (ja) * 2018-12-27 2020-07-02 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置
KR20200129898A (ko) * 2019-05-10 2020-11-18 덕산하이메탈(주) 복합 굴절율 도막 조성물 및 이를 이용한 도막
JPWO2020137761A1 (ja) * 2018-12-27 2021-11-11 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置
JP7491849B2 (ja) 2018-12-27 2024-05-28 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI658610B (zh) * 2017-09-08 2019-05-01 Maven Optronics Co., Ltd. 應用量子點色彩轉換之發光裝置及其製造方法
US10879434B2 (en) 2017-09-08 2020-12-29 Maven Optronics Co., Ltd. Quantum dot-based color-converted light emitting device and method for manufacturing the same

Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009069671A1 (ja) * 2007-11-29 2009-06-04 Nichia Corporation 発光装置及びその製造方法
WO2011099384A1 (ja) * 2010-02-09 2011-08-18 日亜化学工業株式会社 発光装置および発光装置の製造方法
JP2012504860A (ja) * 2008-10-01 2012-02-23 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 光抽出の増加及び非黄色のオフ状態色のための封止材における粒子を含むled
JP2012094578A (ja) * 2010-10-25 2012-05-17 Citizen Holdings Co Ltd 半導体発光装置の製造方法
WO2012099145A1 (ja) * 2011-01-20 2012-07-26 シャープ株式会社 発光装置、照明装置、表示装置及び発光装置の製造方法
WO2013137356A1 (ja) * 2012-03-13 2013-09-19 シチズンホールディングス株式会社 半導体発光装置及びその製造方法
JP2013258175A (ja) * 2012-06-11 2013-12-26 Citizen Holdings Co Ltd 半導体発光装置
JP2014057061A (ja) * 2012-09-13 2014-03-27 Lg Innotek Co Ltd 発光素子及びこれを備えた照明システム
US20140264422A1 (en) * 2011-10-24 2014-09-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic Semiconductor Component and Conversion Element
JP2014175543A (ja) * 2013-03-11 2014-09-22 Toshiba Corp 半導体発光装置
US20150091035A1 (en) * 2012-04-06 2015-04-02 Ctlab Co. Ltd. Semiconductor device structure
WO2015198220A1 (en) * 2014-06-25 2015-12-30 Koninklijke Philips N.V. Packaged wavelength converted light emitting device

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7005679B2 (en) * 2003-05-01 2006-02-28 Cree, Inc. Multiple component solid state white light
JP2006310568A (ja) 2005-04-28 2006-11-09 Toyoda Gosei Co Ltd 発光装置
US7791093B2 (en) * 2007-09-04 2010-09-07 Koninklijke Philips Electronics N.V. LED with particles in encapsulant for increased light extraction and non-yellow off-state color
JP5566785B2 (ja) 2010-06-22 2014-08-06 日東電工株式会社 複合シート
KR20120061376A (ko) * 2010-12-03 2012-06-13 삼성엘이디 주식회사 반도체 발광 소자에 형광체를 도포하는 방법
JP2012174941A (ja) 2011-02-22 2012-09-10 Panasonic Corp 発光装置
JP5730680B2 (ja) * 2011-06-17 2015-06-10 シチズン電子株式会社 Led発光装置とその製造方法
CN103650179A (zh) * 2011-07-19 2014-03-19 松下电器产业株式会社 发光装置及该发光装置的制造方法
JP2013118235A (ja) * 2011-12-02 2013-06-13 Hitachi Appliances Inc 照明装置
DE102012200973A1 (de) 2012-01-24 2013-07-25 Osram Opto Semiconductors Gmbh Leuchte und verfahren zur herstellung einer leuchte
US20140191263A1 (en) * 2013-01-07 2014-07-10 Sabic Innovative Plastics Ip B.V. Compositions for an led reflector and articles thereof
TW201431124A (zh) * 2013-01-22 2014-08-01 矽品精密工業股份有限公司 發光二極體封裝件及其製法
JP2015038960A (ja) * 2013-05-16 2015-02-26 株式会社日本セラテック 発光装置
TWI707484B (zh) 2013-11-14 2020-10-11 晶元光電股份有限公司 發光裝置
CN105161609B (zh) * 2015-09-24 2018-06-12 广东晶科电子股份有限公司 一种芯片级led光源模组及其制作方法

Patent Citations (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009069671A1 (ja) * 2007-11-29 2009-06-04 Nichia Corporation 発光装置及びその製造方法
JP2012504860A (ja) * 2008-10-01 2012-02-23 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 光抽出の増加及び非黄色のオフ状態色のための封止材における粒子を含むled
WO2011099384A1 (ja) * 2010-02-09 2011-08-18 日亜化学工業株式会社 発光装置および発光装置の製造方法
JP2012094578A (ja) * 2010-10-25 2012-05-17 Citizen Holdings Co Ltd 半導体発光装置の製造方法
WO2012099145A1 (ja) * 2011-01-20 2012-07-26 シャープ株式会社 発光装置、照明装置、表示装置及び発光装置の製造方法
US20140264422A1 (en) * 2011-10-24 2014-09-18 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelectronic Semiconductor Component and Conversion Element
WO2013137356A1 (ja) * 2012-03-13 2013-09-19 シチズンホールディングス株式会社 半導体発光装置及びその製造方法
US20150091035A1 (en) * 2012-04-06 2015-04-02 Ctlab Co. Ltd. Semiconductor device structure
JP2013258175A (ja) * 2012-06-11 2013-12-26 Citizen Holdings Co Ltd 半導体発光装置
JP2014057061A (ja) * 2012-09-13 2014-03-27 Lg Innotek Co Ltd 発光素子及びこれを備えた照明システム
JP2014175543A (ja) * 2013-03-11 2014-09-22 Toshiba Corp 半導体発光装置
WO2015198220A1 (en) * 2014-06-25 2015-12-30 Koninklijke Philips N.V. Packaged wavelength converted light emitting device

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2020137760A1 (ja) * 2018-12-27 2020-07-02 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置
JPWO2020137760A1 (ja) * 2018-12-27 2021-11-11 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置
JPWO2020137761A1 (ja) * 2018-12-27 2021-11-11 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置
JP7425750B2 (ja) 2018-12-27 2024-01-31 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置
JP7491849B2 (ja) 2018-12-27 2024-05-28 デンカ株式会社 蛍光体基板、発光基板及び照明装置
KR20200129898A (ko) * 2019-05-10 2020-11-18 덕산하이메탈(주) 복합 굴절율 도막 조성물 및 이를 이용한 도막
KR102363199B1 (ko) 2019-05-10 2022-02-15 덕산하이메탈(주) 복합 굴절율 도막 조성물 및 이를 이용한 도막

Also Published As

Publication number Publication date
JP7016467B2 (ja) 2022-02-07
JP6622735B2 (ja) 2019-12-18
TWI583028B (zh) 2017-05-11
TW201729436A (zh) 2017-08-16
KR20170093735A (ko) 2017-08-16
KR102210462B1 (ko) 2021-02-02
KR20180132018A (ko) 2018-12-11
JP2020053690A (ja) 2020-04-02

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6386110B2 (ja) 非対称放射パターンを有する発光素子およびその製造方法
JP6622735B2 (ja) ビーム成形構造体を備えた発光素子およびその製造方法
US10522728B2 (en) Beveled chip reflector for chip-scale packaging light-emitting device and manufacturing method of the same
JP6599295B2 (ja) 斜角反射体を備えた発光素子およびその製造方法
US10763404B2 (en) Light emitting device with beveled reflector and manufacturing method of the same
US10707391B2 (en) Light emitting device with asymmetrical radiation pattern and manufacturing method of the same
JP6646593B2 (ja) Led照明ユニット
JP6041885B2 (ja) 遠隔蛍光式led装置のためのレンズ組立体
US10274667B2 (en) Light-emitting device with two green light-emitting elements with different peak wavelengths and backlight including light-emitting device
US11081631B2 (en) Asymmetrically shaped light-emitting device, backlight module using the same, and method for manufacturing the same
CN109814189B (zh) 光学器件以及包括光学器件的光源模块
US10797209B2 (en) Light emitting device with beam shaping structure and manufacturing method of the same
JP6596410B2 (ja) チップスケールパッケージ発光素子およびその製造方法
KR102045794B1 (ko) 칩-스케일 패키징 발광 소자를 위한 베벨형 칩 리플렉터 및 그 제조 방법
JP2019201089A (ja) チップスケールパッケージング発光素子の斜角チップ反射器およびその製造方法
JP2017175113A (ja) 凹面を有するチップスケールパッケージ型発光素子およびその製造方法
KR101752405B1 (ko) 렌즈 및 이를 포함하는 발광 소자 패키지
JP2013026558A (ja) 発光装置及びその製造方法
US20190252587A1 (en) Chip-scale packaging light-emitting device with electrode polarity identifier and method of manufacturing the same
TW201327920A (zh) 不需使用脫模劑或脫模片即可順利進行脫模的發光二極體封裝結構的製作方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170602

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170913

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180214

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180306

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180604

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181120

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190219

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20190418

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190517

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20191023

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20191122

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6622735

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250