JP2017168812A - 撮像装置 - Google Patents
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Abstract
Description
第1電極と、第1電極に対向する第2電極と、第1電極と第2電極との間の第1光電変換層と、を含む第1光電変換部と、
ゲートが第1電極に接続された第1電界効果トランジスタと
を含む、第1画素セルと、
第3電極と、第3電極に対向する第4電極と、第3電極と第4電極との間の第2光電変換層と、を含む第2光電変換部と、
ゲートが第3電極に接続された第2電界効果トランジスタと
を含む、第2画素セルと、
を備え、
第1電界効果トランジスタは、第1光電変換層への光の入射によって生じる、第1電極および第2電極の間の誘電率の変化に対応した電気信号を出力し、
第2電界効果トランジスタは、第2光電変換層への光の入射によって生じる、第3電極および第4電極の間の誘電率の変化に対応した電気信号を出力し、
第1光電変換部に光が入射していない状態における第1光電変換部の容量をCpd1、第1光電変換部および第1電界効果トランジスタの間のノードと第1電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量をCn1、第2光電変換部に光が入射していない状態における第2光電変換部の容量をCpd2、第2光電変換部および第2電界効果トランジスタの間のノードと第2電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量をCn2としたとき、Cn1に対するCpd1の比は、Cn2に対するCpd2の比よりも小さい、撮像装置。
第1光電変換層および第2光電変換層は、連続した単一の層である、項目1に記載の撮像装置。
第2電極および第4電極は、連続した単一の電極である、項目1または2に記載の撮像装置。
第1画素セルは、複数の第1画素セルのうちの1つであり、
第2画素セルは、複数の第2画素セルのうちの1つであり、
複数の第1画素セルおよび複数の第2画素セルは、1次元または2次元に配列されている、項目1から3のいずれか1項に記載の撮像装置。
第1画素セルは、第2画素セルに直接隣接している、項目1から4のいずれか1項に記載の撮像装置。
第1光電変換部および第1電界効果トランジスタの間のノードと第1電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量は、第1電界効果トランジスタのゲート絶縁層の容量を含み、
第2光電変換部および第2電界効果トランジスタの間のノードと第2電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量は、第2電界効果トランジスタのゲート絶縁層の容量を含む、項目1から5のいずれか1項に記載の撮像装置。
第1光電変換層および第2光電変換層は、逆方向のバイアス電圧が増大するのに従って出力電流密度の絶対値が増大する第1電圧範囲と、順方向のバイアス電圧の増大するのに従って出力電流密度が増大する第2電圧範囲と、第1電圧範囲と第2電圧範囲との間であって、バイアス電圧に対する出力電流密度の変化率の絶対値が第1電圧範囲および第2電圧範囲よりも小さい第3電圧範囲と、を有する光電流特性を有する、項目1から6のいずれか1項に記載の撮像装置。
第3電圧範囲のバイアス電圧が第1光電変換層および第2光電変換層に印加される、項目7に記載の撮像装置。
第1電極の面積は、第3電極の面積よりも小さい、項目1から8のいずれか1項に記載の撮像装置。
第1電界効果トランジスタのゲート絶縁層の面積は、第2電界効果トランジスタのゲート絶縁層の面積よりも大きい、項目1から9のいずれか1項に記載の撮像装置。
第1電界効果トランジスタのゲート絶縁層の厚みは、第2電界効果トランジスタのゲート絶縁層の厚みよりも小さい、項目1から10のいずれか1項に記載の撮像装置。
第1画素セルは、第2電極の上方に位置する第1マイクロレンズを備える、項目1から11のいずれか1項に記載の撮像装置。
複数の画素セルを有する撮像装置であって、
複数の画素セルの各々は、
第1電極、透光性の第2電極および第1電極と第2電極との間に配置された第1光電変換層を含む第1光電変換部と、
第1電極に電気的に接続されたゲート電極を有する第1電界効果トランジスタと、
を有し、
第1電界効果トランジスタは、第2電極を介した第1光電変換層への光の入射によって生じる、第1電極および第2電極の間の誘電率の変化に対応した電気信号を出力し、
複数の画素セルは、第1光電変換部に光が入射していない状態における第1光電変換部の容量をCpd1とし、第1光電変換部および第1電界効果トランジスタの間のノードと第1電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量をCn1としたとき、Cn1に対するCpd1の比が他の画素セルとは異なる少なくとも1つの画素セルを含む、撮像装置。
それぞれが、第1光電変換部および第1電界効果トランジスタを含む、1以上の第1画素セルと、
それぞれが、第2光電変換部および第2電界効果トランジスタを含む、1以上の第2画素セルと、
を備え、
第1光電変換部は、第1電極、透光性の第2電極および第1電極と第2電極との間に配置された第1光電変換層を含み、
第1電界効果トランジスタのゲート電極は、第1電極に電気的に接続されており、
第2光電変換部は、第3電極、透光性の第4電極および第3電極と第4電極との間に配置された第2光電変換層を含み、
第2電界効果トランジスタのゲート電極は、第3電極に電気的に接続されており、
第1電界効果トランジスタは、第2電極を介した第1光電変換層への光の入射によって生じる、第1電極および第2電極の間の誘電率の変化に対応した電気信号を出力し、
第2電界効果トランジスタは、第4電極を介した第2光電変換層への光の入射によって生じる、第3電極および第4電極の間の誘電率の変化に対応した電気信号を出力し、
第1光電変換部に光が入射していない状態における第1光電変換部の容量をCpd1、第1光電変換部および第1電界効果トランジスタの間のノードと第1電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量をCn1、第2光電変換部に光が入射していない状態における第2光電変換部の容量をCpd2、第2光電変換部および第2電界効果トランジスタの間のノードと第2電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量をCn2としたとき、Cn1に対するCpd1の比と、Cn2に対するCpd2の比とは、互いに異なる、撮像装置。
第1光電変換層および第2光電変換層は、連続した単一の層である、項目14に記載の撮像装置。
第2電極および第4電極は、連続した単一の電極である、項目14または15に記載の撮像装置。
1以上の第1画素セルは、複数の第1画素セルであり、
1以上の第2画素セルは、複数の第2画素セルであり、
複数の第1画素セルおよび複数の第2画素セルは、1次元または2次元に配列されている、項目14から16のいずれかに記載の撮像装置。
1以上の第1画素セルのうちの少なくとも1つは、1以上の第2画素セルのうちの少なくとも1つに隣接している、項目14から17のいずれかに記載の撮像装置。
第2光電変換部および第2電界効果トランジスタの間のノードと第2電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量は、第2電界効果トランジスタのゲート絶縁層の容量を含む、項目14から18のいずれかに記載の撮像装置。
第2光電変換層は、逆方向バイアス電圧の増大に従って出力電流密度の絶対値が増大する第1電圧範囲、順方向バイアス電圧の増大に従って出力電流密度が増大する第2電圧範囲、および、第1電圧範囲と第2電圧範囲との間の第3電圧範囲において、バイアス電圧に対する出力電流密度の変化率が互いに異なる光電流特性を有し、
第2光電変換層の第3電圧範囲における変化率は、第2光電変換層の第1電圧範囲における変化率および第2電圧範囲における変化率よりも小さい、項目14から19のいずれかに記載の撮像装置。
第1光電変換部および第1電界効果トランジスタの間のノードと第1電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量は、第1電界効果トランジスタのゲート絶縁層の容量を含む、項目13から20のいずれかに記載の撮像装置。
第1光電変換層は、逆方向バイアス電圧の増大に従って出力電流密度の絶対値が増大する第1電圧範囲、順方向バイアス電圧の増大に従って出力電流密度が増大する第2電圧範囲、および、第1電圧範囲と第2電圧範囲との間の第3電圧範囲において、バイアス電圧に対する出力電流密度の変化率が互いに異なる光電流特性を有し、
第1光電変換層の第3電圧範囲における変化率は、第1光電変換層の第1電圧範囲における変化率および第2電圧範囲における変化率よりも小さい、項目13から21のいずれかに記載の撮像装置。
図1は、本開示の実施形態による撮像装置の例示的な回路構成を示す。図1に示す撮像装置100は、複数の画素セルを含む画素アレイPAを有する。複数の画素セルは、1次元または2次元に配列されることにより、撮像領域(感光領域)を形成する。例えば画素セルの配列が1次元であれば、撮像装置100をラインセンサとして利用することができる。ここでは、画素アレイPAにおける複数の画素セルの配列として2次元の配列を例示する。図1では、図が複雑となることを避けるために、2次元に配列された画素セルのうちの4つを取り出して示している。
次に、図2を参照しながら、撮像装置100における各画素セルのデバイス構造を説明する。上述したように、典型的には、画素セル10Bの各素子における基本的な構造は、画素セル10Aの各素子における基本的な構造とほぼ同様である。したがって、以下では、画素セル10Aにおけるデバイス構造を主に説明し、画素セル10Bにおけるデバイス構造の詳細な説明を省略する。
図3は、光検出時の画素セル10Aの等価回路を示す。光の検出動作においては、光電変換層12Abに所定のバイアスが印加される。図3は、第1電圧線51に電圧V1が供給され、第2電圧線52に電圧V2が供給されることにより、光電変換部12Aの光電変換層12Abに所定のバイアスが印加されている状態を示している。電圧V1の値は、例えば2.4V(例えば電源電圧VDD)であり、電圧V2の値は、例えば2.5Vである。つまり、ここで説明する例では、光電変換層12Abの2つの主面間に、およそ0.1Vの電位差が与えられている。
次に、図4および図5を参照しながら、上述した特性容量比と、画素セルの感度との間の関係を説明する。
以下、光電変換層12Ab、12Bbの構成の典型例を詳細に説明する。
図12は、光電変換層12Abにおける光電流特性の典型例を示す。図12中、太い実線のグラフは、光が照射された状態における、光電変換層12Abの例示的な電流−電圧特性(I−V特性)を示している。なお、図12には、光が照射されていない状態におけるI−V特性の一例も、太い破線によってあわせて示されている。
上述の第3電圧範囲を利用する場合、光の検出時に光電変換層12Abの2つの主面間および光電変換層12Bbの2つの主面間に印加される電圧は、例えば0.1V程度と比較的小さい。そのため、光電変換層12Ab、12Bbの材料として、狭バンドギャップの材料を用いやすいという利点が得られる。また、第3電圧範囲を利用する場合、不純物領域22adと透明電極12Acとの間に与えられる電位差、および、不純物領域22bdと透明電極12Bcとの間に与えられる電位差は、比較的小さい。そのため、ゲート絶縁層14Agおよび14Bgとして比較的薄い絶縁膜を用いることができ、照度に関する情報をソース電圧の変化の形で取得しやすい。ただし、以下に説明するように、光電変換層12Abおよび12Bbに第1電圧範囲のバイアス電圧を印加して光の検出を実行することも可能である。
図14は、カメラシステムの例示的な構成を模式的に示す。図14に示すカメラシステム300は、レンズ光学系310と、上述の撮像装置100と、システムコントローラ330と、カメラ信号処理回路320とを有する。カメラシステム300は、ユーザからの入力を受け付けるための、各種のボタン、タッチスクリーンなどを含む入力インターフェースを有し得る。
カメラ信号処理回路320が1以上のメモリを含んでいてもよい。
10P 画素セルペア
12A、12B、12C 光電変換部
12Aa、12Ba、12a 画素電極
12Ab、12Bb、12b 光電変換層
12Ac、12Bc、12c 透明電極
14、14A、14B 信号検出トランジスタ
14Ae、14Be、14e ゲート電極
14Ag、14Bg、14g ゲート絶縁層
16A、16B アドレストランジスタ
18 マイクロレンズ
22 半導体基板
22ad、22bd、22d 不純物領域
23a、23b 絶縁層
42、42A、42B 接続部
50 電圧供給回路
51 第1電圧線
52 第2電圧線
54 出力線
56 定電流源
58 アドレス信号線
60 垂直走査回路
100 撮像装置
120e 電子ブロッキング層
120h 正孔ブロッキング層
120s 光電変換構造
122m 混合層
122n n型半導体層
122p p型半導体層
Na、Nb ノード
PA 画素アレイ
Claims (12)
- 第1電極と、前記第1電極に対向する第2電極と、前記第1電極と前記第2電極との間の第1光電変換層と、を含む第1光電変換部と、
ゲートが前記第1電極に接続された第1電界効果トランジスタと
を含む、第1画素セルと、
第3電極と、前記第3電極に対向する第4電極と、前記第3電極と前記第4電極との間の第2光電変換層と、を含む第2光電変換部と、
ゲートが前記第3電極に接続された第2電界効果トランジスタと
を含む、第2画素セルと、
を備え、
前記第1電界効果トランジスタは、前記第1光電変換層への光の入射によって生じる、前記第1電極および前記第2電極の間の誘電率の変化に対応した電気信号を出力し、
前記第2電界効果トランジスタは、前記第2光電変換層への光の入射によって生じる、前記第3電極および前記第4電極の間の誘電率の変化に対応した電気信号を出力し、
前記第1光電変換部に光が入射していない状態における前記第1光電変換部の容量をCpd1、前記第1光電変換部および前記第1電界効果トランジスタの間のノードと前記第1電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量をCn1、前記第2光電変換部に光が入射していない状態における前記第2光電変換部の容量をCpd2、前記第2光電変換部および前記第2電界効果トランジスタの間のノードと前記第2電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量をCn2としたとき、Cn1に対するCpd1の比は、Cn2に対するCpd2の比よりも小さい、撮像装置。 - 前記第1光電変換層および前記第2光電変換層は、連続した単一の層である、請求項1に記載の撮像装置。
- 前記第2電極および前記第4電極は、連続した単一の電極である、請求項1または2に記載の撮像装置。
- 前記第1画素セルは、複数の第1画素セルのうちの1つであり、
前記第2画素セルは、複数の第2画素セルのうちの1つであり、
前記複数の第1画素セルおよび前記複数の第2画素セルは、1次元または2次元に配列されている、請求項1から3のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記第1画素セルは、前記第2画素セルに直接隣接している、請求項1から4のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記第1光電変換部および前記第1電界効果トランジスタの間のノードと前記第1電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量は、前記第1電界効果トランジスタのゲート絶縁層の容量を含み、
前記第2光電変換部および前記第2電界効果トランジスタの間のノードと前記第2電界効果トランジスタのチャネル領域との間の容量は、前記第2電界効果トランジスタのゲート絶縁層の容量を含む、請求項1から5のいずれか1項に記載の撮像装置。 - 前記第1光電変換層および前記第2光電変換層は、逆方向のバイアス電圧が増大するのに従って出力電流密度の絶対値が増大する第1電圧範囲と、順方向のバイアス電圧の増大するのに従って出力電流密度が増大する第2電圧範囲と、前記第1電圧範囲と前記第2電圧範囲との間であって、バイアス電圧に対する出力電流密度の変化率の絶対値が前記第1電圧範囲および前記第2電圧範囲よりも小さい第3電圧範囲と、を有する光電流特性を有する、請求項1から6のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記第3電圧範囲のバイアス電圧が前記第1光電変換層および前記第2光電変換層に印加される、請求項7に記載の撮像装置。
- 前記第1電極の面積は、前記第3電極の面積よりも小さい、請求項1から8のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記第1電界効果トランジスタのゲート絶縁層の面積は、前記第2電界効果トランジスタのゲート絶縁層の面積よりも大きい、請求項1から9のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記第1電界効果トランジスタのゲート絶縁層の厚みは、前記第2電界効果トランジスタのゲート絶縁層の厚みよりも小さい、請求項1から10のいずれか1項に記載の撮像装置。
- 前記第1画素セルは、前記第2電極の上方に位置する第1マイクロレンズを備える、請求項1から11のいずれか1項に記載の撮像装置。
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