JP2017162987A - 真空吸着部材および真空吸着方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ウエハWが基体1の上面側に載置された状態で、基体1の上面、ウエハWの下面および内側環状リブ21の内側面により囲まれている内側空間S1が、第1通気路101を通じて減圧される。続いて、基体1の上面、ウエハWの下面、内側環状リブ21の外側面および外側環状リブ22の内側面により囲まれている外側空間S2が、第2通気路102を通じて減圧される。
【選択図】図4A
Description
図1および図2に示されている本発明の一実施形態としての真空吸着部材は、ウエハW(基板)を上面側に吸着保持するための基体1を備えている。基体1は、略円板状のセラミックス焼結体により形成されている。基体1の形状は、略円板状のほか、多角形板状または楕円板状などのさまざまな形状であってもよい。
前記構成の真空吸着部材は、たとえば次のような手順で作製される。すなわち、原料粉末から略円板状の成形体が作製され、この成形体が焼成されることで略円板状の焼結体が作製される。原料粉末としては、たとえば純度97%以上の炭化ケイ素、必要に応じてこれに適量の焼結助剤が添加された混合原料粉末が用いられる。そのほか、アルミナ粉末等、他のセラミックス粉末が原料粉末として用いられてもよい。そのうえで、当該焼結体に複数の凸部10、内側環状溝部11、外側環状溝部12、第1通気路101および第2通気路102がブラスト加工またはミリング加工などの適当な加工法にしたがって形成される。そして、内側環状溝部11および外側環状溝部12のそれぞれに対して、内側環状リブ21および外側環状リブ22のそれぞれが嵌装される。前記工程によって前記構成の真空吸着部材1が作製される。
前記構成の真空吸着部材によれば、ウエハWが基体1の上面側に載置されることにより、内側環状リブ21(補助環状リブ)および外側環状リブ22がウエハWの重みによって弾性変形し、周方向の少なくとも一部においてウエハWの下面に当接する(図2参照)。
Claims (3)
- 上面から環状に窪んでいる環状溝部が形成され、かつ、前記環状溝部の内側において上面を通じて外部に連通する通気路が内部に形成されている基体と、
前記基体の上面から上部が環状に突出した状態で前記環状溝部に下部が収容されている、弾性素材からなる環状リブと、を備えている真空吸着部材であって、
前記真空吸着部材の上面側に基板が載置されている状態から、前記通気路を通じて前記基体、前記環状リブおよび前記基板により画定される空間が減圧されることにより、前記基板が吸着保持されるものにおいて、
前記環状溝部の内側において前記基板の中央部に対応して上面から環状に窪んでいる補助環状溝部が前記基体に形成され、
前記通気路の一部が前記補助環状溝部の内側において前記基体の上面の上方空間に連通するように前記基体の内部に形成され、
前記基体の上面から上部が環状に突出した状態で前記補助環状溝部に下部が収容されている、弾性素材からなる補助環状リブをさらに備えていることを特徴とする真空吸着部材。 - 上面から環状に窪んでいる環状溝部が形成され、かつ、前記環状溝部の内側において上面の上方空間に連通する通気路が内部に形成されている基体と、前記環状溝部に下部が収容されている一方、前記基体の上面から上部が環状に突出した状態で前記基体に対して固定されている、弾性素材からなる環状リブと、を備えている真空吸着部材を用いて、基板を吸着保持する方法であって、
前記環状リブの環状の上端のうち周方向に沿って少なくとも部分的に前記基板の下面が当接するように前記基板を前記真空吸着部材に載置する工程と、
前記基板の中央部に対して下方に外力を作用させる工程と、
前記通気路を通じて前記基体および前記基板の間の空間を減圧する工程と、を含んでいることを特徴とする真空吸着方法。 - 請求項2記載の真空吸着方法において、請求項1記載の真空吸着部材を前記真空吸着部材として用い、前記通気路の一部を通じて前記補助環状リブの内側における前記基体および前記基板の間の空間を減圧する工程を、前記基板の中央部に対して下方に外力を作用させる工程として含んでいることを特徴とする真空吸着方法。
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