JP2017147186A - 固体蓄電素子 - Google Patents
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Abstract
【課題】良好な放電電圧特性を有する固体蓄電素子を提供する。【解決手段】本開示の固体蓄電素子は、第1の電気的活性層(2b)を備える負極(2)と、第2の電気的活性層(4b)を備える正極(4)と、第1の電気的活性層(2b)と第2の電気的活性層(4b)との間に配置された固体電解質層3とを備えている。固体電解質層(3)の主成分が水素を含有する窒化物である。第1の電気的活性層(2b)及び/又は第2の電気的活性層(4b)は、例えば多孔質構造を有する。【選択図】図1
Description
本開示は、固体蓄電素子に関する。
近年、携帯電話・携帯用パーソナルコンピューターなどの携帯通信端末、心拍数・脳波などを計測するウェアラブル電子機器、RFインターフェース機器、IoT機器などの需要が大幅に拡大している。
これらの電子機器で用いられる電池としては、リチウムイオン二次電池が広く普及している。リチウムイオン二次電池では、リチウムイオンの伝導を媒介する電解質として、液系の有機電解質が用いられている。しかし、リチウムイオン二次電池の従来構成においては、液系の有機電解質は可燃性であり、熱膨張により液系の有機電解質が液漏れした際には、発火・爆発の危険を有している。液系の有機電解質を用いるリチウムイオン二次電池については、安全性の更なる向上が求められている。
リチウムイオン二次電池のほかに、発火・爆発に関しては比較的安全であるニッケル金属水素化物二次電池が実用化されている。ニッケル金属水素化物二次電池では、電解液として濃水酸化カリウム水溶液が用いられている。しかし、ニッケル金属水素化物二次電池の従来構成においては、電解液は強アルカリ性であり、物理的な破損などにより電解液が液漏れした際には、化学熱傷などを引き起こす危険を有している。強アルカリ性電解液を用いるニッケル金属水素化物についても、安全性の更なる向上が求められている。
液系の有機電解質を用いるリチウムイオン二次電池及びニッケル金属水素化物二次電池に対して、安全性向上のために、負極にリチウム金属を用い、リチウムイオンを伝導イオン種とするリチウムを含有する固体電解質を用いた固体二次電池が提案されている。しかし、リチウムは水との反応性が高く、大気中の水分から完全に隔離する必要があるため、使用する材料そのものの耐環境性の向上が求められている。
このため、活物質として酸化物を用い、水を含有する酸化物タイプの固体電解質を用いた固体二次電池が提案されている(特許文献1、2)。
特許文献1に記載の電気化学装置においては、水和した酸化物の固体電解質が提案されている。また、特許文献2に記載の固体二次電池においては、水を含有する多孔質構造のシリコン酸化物の固体電解質が提案されている。しかし、これらの固体電解質を用いた蓄電素子の放電電圧特性は必ずしも良好ではない。
本開示は、良好な放電電圧特性を有する固体蓄電素子を提供することを目的とする。
すなわち、本開示は、
第1の電気的活性層を備える負極と、
第2の電気的活性層を備える正極と、
前記第1の電気的活性層と前記第2の電気的活性層との間に配置された固体電解質層と、
を備え、
前記固体電解質層の主成分が水素を含有する窒化物である固体蓄電素子を提供する。
第1の電気的活性層を備える負極と、
第2の電気的活性層を備える正極と、
前記第1の電気的活性層と前記第2の電気的活性層との間に配置された固体電解質層と、
を備え、
前記固体電解質層の主成分が水素を含有する窒化物である固体蓄電素子を提供する。
本開示によれば、良好な放電電圧特性を有する固体蓄電素子を提供できる。
(本開示の基礎となった知見)
本発明者らの検討によれば、水を含有する酸化物の固体電解質を用いた固体蓄電素子には、放電初期電圧の低下、放電期間中に電位が0Vまで時間的にほぼ線形に減少する、といった課題がある。
本発明者らの検討によれば、水を含有する酸化物の固体電解質を用いた固体蓄電素子には、放電初期電圧の低下、放電期間中に電位が0Vまで時間的にほぼ線形に減少する、といった課題がある。
本開示の第1態様は、
第1の電気的活性層を備える負極と、
第2の電気的活性層を備える正極と、
前記第1の電気的活性層と前記第2の電気的活性層との間に配置された固体電解質層と、
を備え、
前記固体電解質層の主成分が水素を含有する窒化物である固体蓄電素子を提供する。
第1の電気的活性層を備える負極と、
第2の電気的活性層を備える正極と、
前記第1の電気的活性層と前記第2の電気的活性層との間に配置された固体電解質層と、
を備え、
前記固体電解質層の主成分が水素を含有する窒化物である固体蓄電素子を提供する。
第1態様によれば、良好な放電電圧特性を有する固体蓄電素子を提供できる。また、固体蓄電素子における放電初期電圧の低下も改善される。
本開示の第2態様において、第1態様の固体蓄電素子の前記第1の電気的活性層と前記第2の電気的活性層の少なくとも一方が水を含有していてもよい。電気的活性層が水を含有することで、安全性及び耐環境性に優れ、更なる高速充電及びエネルギー密度の向上が期待できる。
本開示の第3態様において、第1又は第2態様の固体蓄電素子の前記第1の電気的活性層及び/又は前記第2の電気的活性層が多孔質構造を有していてもよい。電気的活性層が、多孔質構造を有することで、活物質である水を表面水として空孔内により多く含有することができ、更なる高速充電及びエネルギー密度の向上が期待できる。
本開示の第4態様において、第1〜第3態様のいずれか1つの固体蓄電素子の前記窒化物は、窒化シリコンであってもよい。窒化シリコンは、Si−Hの結合も含めて、十分な量の水素原子を固体電解質中に取り込むことが可能である。また、窒化シリコンは、高い電子絶縁性を発揮しうる。
本開示の第5態様において、第1〜第4態様のいずれか1つの固体蓄電素子の前記第1の電気的活性層は、チタン酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、モリブデン酸化物、タングステン酸化物及びセリウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種の金属酸化物と、絶縁材料との混合物を含んでいてもよい。このような混合物で第1の電気的活性層が形成されていると、上述した第1〜第4態様による効果をより十分に得ることができる。
本開示の第6態様において、第1〜第5態様のいずれか1つの固体蓄電素子の前記第2の電気的活性層は、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、酸化スズ、酸化銅及び酸化アルミからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含んでいてもよい。これらの化合物で第2の電気的活性層が形成されていると、上述した第1〜第5態様による効果をより十分に得ることができる。
[全体構成]
図1は、本開示の実施形態に係る固体蓄電素子の断面図の一例を示す図である。図1に示すように、実施形態に係る固体蓄電素子1は、負極2、固体電解質層3及び正極4を備えている。負極2は、第1の導電性電極2a及び第1の電気的活性層2bを有する。第1の電気的活性層2bは、水を含有していてもよい。正極4は、第2の導電性電極4a及び第2の電気的活性層4bを有する。第2の電気的活性層4bも、水を含有していてもよい。固体電解質層3は、水素を含有する窒化物で形成されている。固体電解質層3は、負極2と正極4との間に設けられている。詳細には、固体電解質層3は、第1の電気的活性層2bと第2の電気的活性層4bとの間に設けられている。つまり、第1の導電性電極2a、第1の電気的活性層2b、固体電解質層3、第2の電気的活性層4b及び第2の導電性電極4aがこの順番で積層されている。本実施形態において、固体電解質層3は、負極2及び正極4の両方に接触している。ただし、負極2と固体電解質層3との間に他の層が設けられることもある。同様に、正極4と固体電解質層3との間に他の層が設けられることもある。
図1は、本開示の実施形態に係る固体蓄電素子の断面図の一例を示す図である。図1に示すように、実施形態に係る固体蓄電素子1は、負極2、固体電解質層3及び正極4を備えている。負極2は、第1の導電性電極2a及び第1の電気的活性層2bを有する。第1の電気的活性層2bは、水を含有していてもよい。正極4は、第2の導電性電極4a及び第2の電気的活性層4bを有する。第2の電気的活性層4bも、水を含有していてもよい。固体電解質層3は、水素を含有する窒化物で形成されている。固体電解質層3は、負極2と正極4との間に設けられている。詳細には、固体電解質層3は、第1の電気的活性層2bと第2の電気的活性層4bとの間に設けられている。つまり、第1の導電性電極2a、第1の電気的活性層2b、固体電解質層3、第2の電気的活性層4b及び第2の導電性電極4aがこの順番で積層されている。本実施形態において、固体電解質層3は、負極2及び正極4の両方に接触している。ただし、負極2と固体電解質層3との間に他の層が設けられることもある。同様に、正極4と固体電解質層3との間に他の層が設けられることもある。
本実施形態の固体蓄電素子1の充放電原理は必ずしも明確にはなっていないが、水が活物質として充放電に深く関与していると考えられる。負極、固体電解質層、正極は、以下のように構成される。
[負極]
負極2は、第1の導電性電極2aと第1の電気的活性層2bとから構成される。第1の導電性電極2aと第1の電気的活性層2bとの間の電気的な接続が低抵抗であれば、第1の導電性電極2aの材料は特に限定されない。例えば、第1の導電性電極2aの材料として金属チタンを用いてもよい。
負極2は、第1の導電性電極2aと第1の電気的活性層2bとから構成される。第1の導電性電極2aと第1の電気的活性層2bとの間の電気的な接続が低抵抗であれば、第1の導電性電極2aの材料は特に限定されない。例えば、第1の導電性電極2aの材料として金属チタンを用いてもよい。
図1に示す実施形態において、第1の電気的活性層2bは、第1の導電性電極2aに隣接しており、電気的に接触している。ただし、第1の導電性電極2aと第1の電気的活性層2bとの間に他の層が設けられていてもよい。例えば、第1の導電性電極2aと第1の電気的活性層2bとの間に、第1の電気的活性層2bで集めきれなかったプロトンを集めるための第1の集電体層(図示せず)が設けられていてもよい。第1の集電体層は、水素ガスの発生電位がより高い材料で形成されうる。第1の集電体層の材料として、例えば、窒化チタンを用いてもよい。
固体蓄電素子1に充電電圧が印加された際に、第1の導電性電極2aまたは第1の集電体層から第1の電気的活性層2bに電子が供給される。第1の電気的活性層2bに含まれる活物質である水がプロトンとヒドロキシイオン(OH-)とに分離し、第1の電気的活性層2bに含まれる活物質がプロトンと還元反応を起こし、電荷が蓄積される。放電時には、還元状態にある第1の電気的活性層2bがヒドロキシイオンと酸化反応を起こし、充電前の状態に戻ると推察される。第1の電気的活性層2bは、水が活物質として関与する酸化還元反応により電荷を蓄積あるいは放出する材料で形成されうる。
具体的に、第1の電気的活性層2bは、金属酸化物と絶縁材料との混合物で形成されうる。金属酸化物として、例えば、チタン酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、モリブデン酸化物、タングステン酸化物及びセリウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種が混合物に含まれる。絶縁材料として、例えば、酸化ケイ素が混合物に含まれる。混合物において、金属酸化物の含有量M1に対する絶縁材料の含有量M2は、モル比(M2/M1)にて、例えば1以下であってもよい。
第1の電気的活性層2bは、例えば、金属酸化物と絶縁材料との混合物を主成分として含む。また、水及び不可避的に混入する不純物を除き、第1の電気的活性層2bは、金属酸化物と絶縁材料との混合物のみで形成されていてもよい。ただし、充放電に大きな悪影響が及ばないのであれば、第1の電気的活性層2bには、他の成分が含まれていてもよい。なお、本開示において、「主成分」とは、モル比にて最も多く含まれた成分を意味する。
第1の電気的活性層2bが水和水、表面水などの形で水を包含していることにより、充電時のプロトン供給は、第1の電気的活性層2bの内部で直接行われると推察される。第1の電気的活性層2bは、第2の電気的活性層4b及び固体電解質層3からのプロトン供給を受けることなく、電荷蓄積が可能であるため、従来のリチウムイオン系の全固体二次電池よりも高速充電が可能と推察される。第1の電気的活性層2bには、例えば、第1の電気的活性層2bの主成分に対するモル比で、主成分が8に対して水が1程度含まれていてもよい。
充電時の第1の電気的活性層2bへのプロトン供給については、第2の電気的活性層4bに含まれる水がプロトンとヒドロキシイオンに分解し、電界に応じて固体電解質層3を経由してプロトンが供給されれば、更なるエネルギー密度の向上が期待できる。
第1の電気的活性層2bが、多孔質構造を有している場合には、活物質である水を表面水として空孔内により多く含有することができ、更なる高速充電及びエネルギー密度の向上が期待できる。
多孔質構造を有する第1の電気的活性層2bに水蒸気焼成工程を実施すると、水が表面水として第1の電気的活性層2b内部に取り込まれ、多孔質構造の多孔表面の親水性を向上させる効果が得られる可能性がある。水蒸気焼成工程は、例えば、H2とO2の混合雰囲気で第1の電気的活性層2bを焼成することにより実施することができる。第1の電気的活性層2bが多孔質構造を有していることを確認する方法としては、窒素充填分光エリプソ法を例示できる。窒素充填分光エリプソ法では、窒素を充填したときの充填前後の屈折率の違いから、膜の空隙量を定量することができる。
第1の電気的活性層2bは、例えば、次の方法によって形成することができる。まず、有機酸チタン塩とシリコーンオイルと有機溶剤とを混合することによって得られた溶液を基板(詳細には、第1の導電性電極2aまたは固体電解質層3)の上に塗布する。得られた塗膜を大気中で焼成すると、チタン酸化物、シリコン酸化物及びチタンとシリコンとを含む複合酸化物の混合物で形成された薄膜が得られる。この薄膜は、多孔質構造を有し、水を含有するものであり、第1の電気的活性層2bとして機能する。
[固体電解質層]
本実施形態において、固体電解質層の主成分は、水素を含有する窒化物である。固体電解質層3を窒化物で構成すると、窒化物内の窒素原子は水素原子との結合サイトを有するので、水素原子をN−Hの形で比較的容易に固体電解質層3の内部に取り込むことが可能である。N−Hの結合エネルギーがある程度の分布を有していれば、比較的弱い結合の水素が存在し、固体電解質層3を介して、充放電時に第1の電気的活性層2bと第2の電気的活性層4bの間のプロトン輸送が期待できる。水素を含有する窒化物としては、例えば水素化された窒化シリコンを用いることができる。
本実施形態において、固体電解質層の主成分は、水素を含有する窒化物である。固体電解質層3を窒化物で構成すると、窒化物内の窒素原子は水素原子との結合サイトを有するので、水素原子をN−Hの形で比較的容易に固体電解質層3の内部に取り込むことが可能である。N−Hの結合エネルギーがある程度の分布を有していれば、比較的弱い結合の水素が存在し、固体電解質層3を介して、充放電時に第1の電気的活性層2bと第2の電気的活性層4bの間のプロトン輸送が期待できる。水素を含有する窒化物としては、例えば水素化された窒化シリコンを用いることができる。
固体電解質層3を介したプロトン輸送がより効率的に行われるためには、固体電解質層3のN−H結合の原子数密度は高いほうが望ましい。例えば、NH3、SiH4及びN2から構成される反応ガスを用いたプラズマCVD法で成膜された窒化シリコンは、Si−Hの結合も含めて、1E+22atom/cm3超で1E+22atom/cm3台の水素原子を固体電解質中に取り込むことが可能である。
水素を含有する窒化物を主成分とする固体電解質層3は、プロトン伝導性を有するとともに、高い電子絶縁性を有することも特長である。例えば、NH3、SiH4及びN2から構成される反応ガスを用いたプラズマCVD法で成膜された窒化シリコン膜は、水銀プローブを用いた膜厚方向の絶縁破壊試験(〜10μA/cm2)において、5MV/cm超の高い電子絶縁性を有する。
充電時の第1の電気的活性層2bへのプロトン供給については、水素を含有する窒化物を主成分とする固体電解質層3からプロトンが供給されれば、更なるエネルギー密度の向上が期待できる。
[正極]
正極4は、第2の導電性電極4aと第2の電気的活性層4bとから構成される。第2の導電性電極4aと第2の電気的活性層4bとの間の電気的な接続が低抵抗であれば、第2の導電性電極4aの材料は特に限定されない。例えば、第2の導電性電極4aの材料として、金属ニッケル、金属タングステンなどを用いてもよい。
正極4は、第2の導電性電極4aと第2の電気的活性層4bとから構成される。第2の導電性電極4aと第2の電気的活性層4bとの間の電気的な接続が低抵抗であれば、第2の導電性電極4aの材料は特に限定されない。例えば、第2の導電性電極4aの材料として、金属ニッケル、金属タングステンなどを用いてもよい。
図1に示す実施形態において、第2の電気的活性層4bは、第2の導電性電極4aに隣接しており、電気的に接触している。ただし、第2の導電性電極4aと第2の電気的活性層4bとの間に他の層が設けられていてもよい。例えば、第2の導電性電極4aと第2の電気的活性層4bとの間に、第2の電気的活性層4bで集めきれなかったプロトンと対となる陰イオン(例えば、ヒドロキシイオン、酸素イオンなど)を集めるための第2の集電体層(図示せず)が設けられていてもよい。第2の集電体層の材料として、例えば、ストロンチウムチタン酸化物、金属パラジウム、金属白金などを用いてもよい。
第2の電気的活性層4bは、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、酸化スズ、酸化銅及び酸化アルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物で形成されうる。第2の電気的活性層4bは、典型的には、上記の群から選ばれる一種の化合物を主成分として含む。また、水及び不可避的に混入する不純物を除き、第2の電気的活性層4bは、上記の群から選ばれる少なくとも一種の化合物のみで形成されていてもよい。ただし、充放電に大きな悪影響が及ばないのであれば、第2の電気的活性層4bには、他の成分が含まれていてもよい。
固体蓄電素子1に充電電圧が印加された際に、第2の電気的活性層4bに含まれる活物質である水が、プロトンとヒドロキシイオンとに分離し、ヒドロキシイオンが第2の電気的活性層4bに含まれる活物質と酸化反応を起こし、第2の導電性電極4aまたは第2の集電体層へ電子が放出されると推察される。放電時には、第2の電気的活性層4bは第2の導電性電極4aまたは第2の集電体層から電子を受け取り、酸化状態にある第2の電気的活性層4bが還元反応を起こし、充電前の状態に戻ると推察される。
充電時の第2の電気的活性層4bへのヒドロキシイオンの供給については、第1の電気的活性層2bに含まれる水がプロトンとヒドロキシイオンとに分解し、電界に応じて固体電解質層3を経由してヒドロキシイオンが供給されれば、更なるエネルギー密度の向上が期待できる。第2の電気的活性層4bには、例えば、第2の電気的活性層4bの主成分に対するモル比で、主成分が8に対して水が1程度含まれていてもよい。
第2の電気的活性層4bが、多孔質構造を有している場合には、活物質である水を表面水として空孔内により多く含有でき、エネルギー密度の向上が期待できる。第2の電気的活性層4bが多孔質構造を有していることを確認する方法としては、SEM像からc軸配向のグレイン成長を確認する方法を例示できる。
第2の電気的活性層4bは、例えば、次の方法によって形成することができる。まず、金属ニッケルをターゲットとして、N2とO2の混合雰囲気にて反応性スパッタリング法により、基板(詳細には、固体電解質層3または第2の導電性電極4a)上に酸化ニッケルの薄膜を形成する。この方法によれば、基板に対して縦方向(c軸方向)の粒界成長が起こり、膜中に空隙を有する酸化ニッケル薄膜が得られる。この酸化ニッケル薄膜は、多孔質構造を有し、水を含有するものであり、第2の電気的活性層4bとして機能する。
<実施例1>
本開示の実施例1として、シリコン基板上に2cm角の有効エリアを有する固体蓄電素子を作製した(試料番号N1)。固体蓄電素子の断面模式図を図2に示す。以下、固体蓄電素子1Aの作製方法について図2を用いて説明する。
本開示の実施例1として、シリコン基板上に2cm角の有効エリアを有する固体蓄電素子を作製した(試料番号N1)。固体蓄電素子の断面模式図を図2に示す。以下、固体蓄電素子1Aの作製方法について図2を用いて説明する。
自然酸化膜の除去及びパーティクル洗浄を行ったシリコン基板11上に、第1の導電性電極2aとして厚さ15nmのTi膜を成膜し、続けて第2の集電体層2cとして150nmのTiN膜を成膜した。
次に、第1の電気的活性層2bの形成工程として、有機酸チタン塩とシリコーンオイルとを有機溶剤に混合し、混合液をスピンコートにより第2の集電体層2cの全面に塗布した。その後、塗膜を大気中80℃で10分間乾燥させ、350℃で10分間仮焼成することにより、第1の電気的活性層2bの乾燥・前焼成工程を行った。これらの工程を計3回繰り返した後、ドライ大気雰囲気(N2:79体積%、O2:21体積%の混合ガス1気圧)にて500℃で2時間処理し、第1の電気的活性層2bの後焼成工程を行った。さらに、250〜600nmの範囲にスペクトルを有するUV光源(〜180μW/cm2)を用いて、第1の電気的活性層2bにUVを2時間照射した(UV処理工程)。分光エリプソメトリーにより、ウェハ内の24点に対して膜厚測定を行ったところ、UV処理工程後の第1の電気的活性層2bの平均膜厚は783nmであった。
次に、NH3、SiH4及びN2から構成される反応ガスを用いたプラズマCVD法により、固体電解質層3として厚み10nmの水素化された窒化シリコン膜を成膜した。
次に、金属ニッケルをスパッタターゲットとした、O2とN2の混合ガス中での反応性スパッタ法により、第2の電気的活性層4bとして厚み300nmの酸化ニッケル膜を成膜した。続けて、スパッタ法により、第2の導電性電極4aとして膜厚150nmのニッケル膜を成膜した。以上により、実施例1の固体蓄電素子を得た。
<実施例2>
実施例2として、直径200mmの円形シリコン基板上に、直径190mmの円形有効エリアを有する固体蓄電素子を作製した(試料番号FW−N1)。固体蓄電素子の積層構造は、実施例1の固体蓄電素子と同じであり、断面模式図は図2で示される。以下、実施例2の固体蓄電素子の作製方法について説明する。
実施例2として、直径200mmの円形シリコン基板上に、直径190mmの円形有効エリアを有する固体蓄電素子を作製した(試料番号FW−N1)。固体蓄電素子の積層構造は、実施例1の固体蓄電素子と同じであり、断面模式図は図2で示される。以下、実施例2の固体蓄電素子の作製方法について説明する。
自然酸化膜の除去及びパーティクル洗浄を行った直径200mmのシリコン基板11上に、第1の導電性電極2aとして厚さ15nmのTi膜を成膜し、続けて第2の集電体層2cとして150nmのTiN膜を成膜した。
次に、第1の電気的活性層2bの形成工程として、有機酸チタン塩とシリコーンオイルとを有機溶剤に混合し、混合液をスピンコートにより第2の集電体層2cの全面に塗布した。その後、塗膜を大気中80℃で10分間乾燥させ、350℃で10分間仮焼成することにより、第1の電気的活性層2bの乾燥・前焼成工程を行った。これらの工程を計3回繰り返した後、ドライ大気雰囲気(N2:79体積%、O2:21体積%の混合ガス1気圧)にて500℃で2時間処理し、第1の電気的活性層2bの後焼成工程を行った。さらに、257nmに急峻なスペクトルを有するUV光源(70mW/cm2)を用いて、第1の電気的活性層2bにUVを2時間照射した(UV照射工程)。分光エリプソメトリーにより、ウェハ内の24点に対して膜厚測定を行ったところ、UV処理工程後の第1の電気的活性層2bの平均膜厚は750nmであった。
次に、H2とO2の混合雰囲気にて500℃で追加焼成を1時間行った(水蒸気焼成工程)。雰囲気ガスのH2とO2の流量をそれぞれ、5.00slm(standard liters per minute)、3.75slmに設定した。
次に、NH3、SiH4及びN2から構成される反応ガスを用いたプラズマCVD法により、固体電解質層3として厚み10nmの水素化された窒化シリコン膜を成膜した。
次に、金属ニッケルをスパッタターゲットとして、O2とN2の混合ガス中での反応性スパッタ法により、第2の電気的活性層4bとして厚み300nmの酸化ニッケル膜を成膜した。続けて、スパッタ法により、第2の導電性電極4aとして膜厚150nmのニッケル膜を成膜した。以上により、有効領域が直径190mmの円形固体蓄電素子(試料FW−N1)を作製した。
上記のようにして作製された固体蓄電素子(試料FW−N1)において、第1の電気的活性層2b及び第2の電気的活性層4bの内部に水が含まれているかどうかは、フーリエ変換赤外分光法(FTIR)よって確認することができる。具体的に、フーリエ変換赤外分光法によれば、O−Hベンディングの振動モードの絶対強度から、およその水分量を見積もることが可能である。また、ラザフォード後方散乱分光法(RBS)による組成の分析により、水素原子の含有量及び酸素原子の含有量を定量して、水分量を見積もることも可能である。
<比較例1〜4>
実施例1の比較として、固体電解質層3を設けない固体蓄電素子(試料W1:比較例1)、固体電解質層3の材料として、酸化シリコン(試料S1:比較例2)、酸化アルミ(試料A1:比較例3)、酸化ハフニウム(試料H1:比較例4)を用いた3cm角の固体蓄電素子を作製した。酸化シリコン層は、SiH4、N2O及びHeから構成される反応ガスを用いたプラズマCVD法により成膜した。酸化アルミニウム層は、トリメチルアルミニウム(TMA)と水蒸気から構成される反応ガスを用いた原子層堆積法により成膜した。酸化ハフニウム層は、HfCl4と水蒸気から構成される反応ガスを用いた原子堆積法により成膜した。実施例1および比較例1〜4の各試料と各々の成膜条件を表1に示す。
実施例1の比較として、固体電解質層3を設けない固体蓄電素子(試料W1:比較例1)、固体電解質層3の材料として、酸化シリコン(試料S1:比較例2)、酸化アルミ(試料A1:比較例3)、酸化ハフニウム(試料H1:比較例4)を用いた3cm角の固体蓄電素子を作製した。酸化シリコン層は、SiH4、N2O及びHeから構成される反応ガスを用いたプラズマCVD法により成膜した。酸化アルミニウム層は、トリメチルアルミニウム(TMA)と水蒸気から構成される反応ガスを用いた原子層堆積法により成膜した。酸化ハフニウム層は、HfCl4と水蒸気から構成される反応ガスを用いた原子堆積法により成膜した。実施例1および比較例1〜4の各試料と各々の成膜条件を表1に示す。
<比較例5>
実施例2の比較として、固体電解質層3の材料に、多孔質酸化シリコンを用いた直径190mmの円形固体蓄電素子(試料FW−S1)を作製した。
実施例2の比較として、固体電解質層3の材料に、多孔質酸化シリコンを用いた直径190mmの円形固体蓄電素子(試料FW−S1)を作製した。
以下、比較例5の固体蓄電素子の作製方法について説明する。実施例2と同様に、自然酸化膜の除去及びパーティクル洗浄を行った直径200mmのシリコン基板11上に、第1の導電性電極2aとして厚さ15nmのTi膜を成膜し、続けて第2の集電体層2cとして150nmのTiN膜を成膜した。
次に、第1の電気的活性層2bの形成工程として、有機酸チタン塩とシリコーンオイルとを有機溶剤に混合し、混合液をスピンコートにより第2の集電体層2cの全面に塗布した。その後、塗膜を大気中80℃で10分間乾燥させ、350℃で10分間仮焼成することにより、第1の電気的活性層2bの乾燥・前焼成工程を行った。これらの工程を2回繰り返した。
次に、シリコーンオイルを0.748gとキシレンを2.025g含む混合液をスピンコートにより第1の電気的活性層2bの全面に塗布して固体電解質層3の成膜工程を行った。この後、塗膜を大気中80℃で10分間乾燥させ、350℃で10分間仮焼成して固体電解質層3の乾燥・前焼成工程を行った。
次に、ドライ大気雰囲気(N2:79体積%、O2:21体積%の混合ガス1気圧)にて500℃で2時間、第1の電気的活性層2b及び固体電解質層3の後焼成工程を行った。さらに、254nmに急峻なスペクトルを有するUV光源(70mW/cm2)を用いて、第1の電気的活性層2b及び固体電解質層3にUVを2時間照射した。充放電特性の評価後に、ウェハを劈開して断面SEMにより中央付近の2箇所で膜厚測定を行ったところ、第1の電気的活性層2bと固体電解質層3との合計の膜厚は545nmと542nmであった。3回塗布の実施例2の膜厚から試算すると、2回塗布の第1の電気的活性層2bの厚みは約500nmとなり、多孔質酸化シリコン固体電解質層の中央付近の厚みは42〜45nm程度と試算される。
次に、H2とO2の混合雰囲気にて500℃で追加焼成を1時間行った(水蒸気焼成工程)。雰囲気ガスのH2とO2の流量をそれぞれ、5.00slm、3.75slmに設定した。
次に、第2の電気的活性層4bとして厚み300nmの酸化ニッケル膜を、金属ニッケルをスパッタターゲットとして、O2とN2の混合ガス中での反応性スパッタ法により成膜して第2の電気的活性層4bの成膜工程を行った。続けて、第2の導電性電極4aとして厚み150nmのニッケル膜をスパッタ法で成膜した。以上により、比較例5の固体蓄電素子を得た。
[充放電特性評価]
<実施例1と比較例1〜4の特性比較>
以下の方法で実施例1および比較例1〜4の固体蓄電素子の充放電特性を評価した。計測機としてPlamSens BV社製PlamSens 3を用いて、負極に−2V、正極に0Vの電圧を印加する定電圧充電を5分間行い、その後、12.5μA/cm2の定電流放電を行った。−2Vでの定電圧充電のコンプライアンス電流を7.5mA/cm2、12.5μA/cm2の定電流放電のカットオフ電圧を0Vに設定した。測定環境を25℃、相対湿度を50%に設定した。
<実施例1と比較例1〜4の特性比較>
以下の方法で実施例1および比較例1〜4の固体蓄電素子の充放電特性を評価した。計測機としてPlamSens BV社製PlamSens 3を用いて、負極に−2V、正極に0Vの電圧を印加する定電圧充電を5分間行い、その後、12.5μA/cm2の定電流放電を行った。−2Vでの定電圧充電のコンプライアンス電流を7.5mA/cm2、12.5μA/cm2の定電流放電のカットオフ電圧を0Vに設定した。測定環境を25℃、相対湿度を50%に設定した。
−2Vの定電圧充電を5分間行ったときの充電電流の時間的変化を図3に示す。また、12.5μA/cm2定電流放電の放電電圧の時間的変化を図4に示す。固体電解質層として、水素化された窒化シリコンを用いた試料N1では、他の酸化物系の固体電解質層よりも充電時の過剰電流が大幅に改善され(図3)、放電初期の電圧も1.5V超から始まり(図4)、電荷利用効率が大幅に改善されることがわかった。各試料の特性を表2に示す。
<実施例2と比較例5の特性比較>
以下の方法で実施例2および比較例5の固体蓄電素子の充放電特性を評価した。計測機としてPlamSens BV社製PlamSens 3を用いて、負極に−2V、正極に0Vの電圧を印加する定電圧充電を5分間行い、その後、1.76μA/cm2の定電流放電を行って充放電特性を評価した。−2Vでの定電圧充電のコンプライアンス電流を7.5mA/cm2、1.76μA/cm2の定電流放電のカットオフ電圧を0Vに設定した。測定環境を25℃、相対湿度60%に設定した。
以下の方法で実施例2および比較例5の固体蓄電素子の充放電特性を評価した。計測機としてPlamSens BV社製PlamSens 3を用いて、負極に−2V、正極に0Vの電圧を印加する定電圧充電を5分間行い、その後、1.76μA/cm2の定電流放電を行って充放電特性を評価した。−2Vでの定電圧充電のコンプライアンス電流を7.5mA/cm2、1.76μA/cm2の定電流放電のカットオフ電圧を0Vに設定した。測定環境を25℃、相対湿度60%に設定した。
−2Vの定電圧充電を5分間行ったときの充電電流の時間的変化を図5に示す。1.76μA/cm2の定電流放電の放電電圧の時間的変化を図6に示す。固体電解質層として、多孔質酸化シリコンを用いた試料FW−S1(比較例5)では、電荷利用効率は高いものの、充電電流が小さいため(図5)、高速充電は困難である。一方、水素化された窒化シリコンを用いた試料FW−N1(実施例2)では、電荷利用効率は12.7%程度だが、充電電流が大きく、高速充電が可能である。また、放電初期の電圧及び時間的変化も大幅に改善されることがわかった(図6)。
FW−S1については、投入電荷量がFW−N1よりも1桁以上小さかったので、−2Vの定電圧充電を55分間行い、1.76μA/cm2の定電流放電を行ったときの特性評価も行った(試料FW−S1 long)。図5に示すように、充電電流の時間変化については、試料FW−S1 longは試料FW−S1と同等であった。このため、図5上では、試料FW−S1と試料FW−S1 longはほとんど重なっており、区別がつきにくくなっている。放電電圧の時間的変化は図6に示すように、試料FW−S1 longは、長時間充電を行っても改善されず、早い段階で電圧の絶対値が下がってしまうことがわかった。電荷利用効率は32.5%を保持するものの、高速充電には固体電解質層に水素化された窒化シリコンを用いた試料のほうが適していることがわかった。
以上の実験結果から、固体電解質層として水素化された窒化シリコンを用いた固体蓄電素子は、他の酸化物系の固体電解質層を用いた場合よりも、充電時の過剰電流が大幅に改善され、放電初期の電圧降下を抑制し、良好な放電電圧特性が得られるとともに、高速充電が可能であることを示している。
以上のように、本実施例の固体蓄電素子によれば、充電時の過剰電流及び放電初期の電圧降下を抑制し、良好な放電電圧特性を有する、高速充電可能な固体蓄電素子を提供することができる。
本開示の固体蓄電素子は、例えば、携帯電話・携帯用パーソナルコンピューターなどの携帯通信端末、心拍数・脳波などを計測するウェアラブル電子機器、RFインターフェース機器、IoT機器などのバッテリーとして好適に利用可能である。
1,1A 固体蓄電素子
2a 第1の導電性電極
2b 第1の電気的活性層
2c 第1の集電体層
2 負極
3 固体電解質層
4a 第2の導電性電極
4b 第2の電気的活性層
4 正極
11 200mmシリコン基板
2a 第1の導電性電極
2b 第1の電気的活性層
2c 第1の集電体層
2 負極
3 固体電解質層
4a 第2の導電性電極
4b 第2の電気的活性層
4 正極
11 200mmシリコン基板
Claims (6)
- 第1の電気的活性層を備える負極と、
第2の電気的活性層を備える正極と、
前記第1の電気的活性層と前記第2の電気的活性層との間に配置された固体電解質層と、
を備え、
前記固体電解質層の主成分が水素を含有する窒化物である固体蓄電素子。 - 前記第1の電気的活性層と前記第2の電気的活性層の少なくとも一方が水を含有する、請求項1に記載の固体蓄電素子。
- 前記第1の電気的活性層及び/又は前記第2の電気的活性層が多孔質構造を有する、請求項1または2に記載の固体蓄電素子。
- 前記窒化物が窒化シリコンである、請求項1から3のいずれか1項に記載の固体蓄電素子。
- 前記第1の電気的活性層が、チタン酸化物、ニオブ酸化物、タンタル酸化物、モリブデン酸化物、タングステン酸化物及びセリウム酸化物からなる群より選ばれる少なくとも一種の金属酸化物と、絶縁材料との混合物を含む、請求項1から4のいずれか1項に記載の固体蓄電素子。
- 前記第2の電気的活性層が、酸化ニッケル、水酸化ニッケル、酸化スズ、酸化銅及び酸化アルミニウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の化合物を含む、請求項1から5のいずれか1項に記載の固体蓄電素子。
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---|---|---|---|---|
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WO2019159773A1 (ja) | 2018-02-15 | 2019-08-22 | 株式会社日本マイクロニクス | 二次電池 |
WO2020158448A1 (ja) | 2019-01-31 | 2020-08-06 | 株式会社日本マイクロニクス | 二次電池 |
-
2016
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