JP2017228519A - Ni(OH)2電極を有する薄膜固体電池を製造する方法、電池セルおよび電池 - Google Patents

Ni(OH)2電極を有する薄膜固体電池を製造する方法、電池セルおよび電池 Download PDF

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Abstract

【課題】既知の水系電池に比べ乾燥の恐れが回避されるかまたは大きく軽減されるNi系正極を有する薄膜固体電池セルおよび薄膜固体電池を製造する方法の提供。【解決手段】第1集電体層12を含む基材上に薄膜固体電池セルを製造する方法が開示され、第1集電体層12の上に第1電極層30を堆積させることを含み、第1電極層30が、孔壁を有する複数の孔を含むナノ多孔質複合層であり、第1電極層30が、誘電材料と電極活物質粒子との混合物を含み、第1電極層30の上に多孔質誘電層40を堆積させることを含み、さらに、第2電極層50を多孔質誘電層40上に直接堆積させることを含み、第2電極層50を堆積することには電気化学堆積プロセスによって多孔質Ni(OH)2層を堆積させることが含まれる薄膜電池セルの製造方法。さらに、薄膜固体電池セルおよび電池が開示される。【選択図】図9

Description

本開示は、Ni(OH)電極を有する薄膜固体電池セルを製造する方法、Ni(OH)電極を含む薄膜固体電池セル、およびそのセルを含む電池に関する。
固体ニッケル−水素化金属(NiMH)型電池は当該技術分野において既知である。そのような電池は例えば、シリカとチタニアとのナノ多孔質複合層を負極(アノード)として含み得、チタニアが電極活物質として機能する。複合電極層は、多孔質シリカ(SiO)構造体の中に埋め込まれているかまたは分散しているTiOナノ粒子を含む。そのような電池の作動原理は、ナノ多孔質シリカ構造体の孔壁または孔表面における吸着水層の存在に依存する。水層は、(a)アノードおよびカソードでの充放電反応における試薬としての水と、(b)イオン伝導の手段(電解質)との両方を提供する。正極(カソード)としては、NiO層が提案されてきた。NiO層は、例えば、物理蒸着によって提供され得る。正極と負極とは、孔壁に吸着水をも含み固体電解質として作用するシリカなどのナノ多孔質誘電材料の薄層によって分離されていることが好ましい。
しかし、そのような装置構造体にNiOを正極として使用することにはいくつかの欠点がある。例えば、NiOを使用する場合、充電反応(つまり電池充電中)において水の正味の消費が存在する。これは、良好な電池作動に必要な表面吸着水層を乾燥させてしまう可能性がある。さらに、水または水酸化物イオンとNiO電極との反応は、NiO電極の比較的薄い表層に限られる、というのも、水および水酸化物イオンはNiO層のバルク中へ容易に浸透することができないからである。電極反応速度(電流)を増加させるために、平面電極よりも高い有効表面積を有する電極が使用され得る。このように、多孔質NiO構造体は、水のより良好な接近を可能にするため、より効率的であり得る。
「乾性」NiOの代替物としては「湿性」Ni(OH)が、従来のアルカリ電解質を有する湿式ニッケル−水素化金属型電池の正極材料として知られている。上述した水系固体ニッケル−水素化金属型電池にNi(OH)を使用することもまた有益であると考えられ得る、というのも、そのような電極を使用する場合には充電/放電中に水の正味の消費が存在せず、それが本質的には水素化材料であり、当該材料のバルクへの水の接近も可能としているからである。従来のアルカリ系NiMHおよびアルカリZn電池では、Ni(OH)は通常、粉体から適用される。しかし、粉体の比較的大きな粒径(例えば10マイクロメートル程度)ゆえにそのようなプロセスは、薄膜電池の電極層であって厚みが通常1マイクロメートル程度である電極層を形成するのに適さない。粒子に基づいたプロセスとは別に、Ni(OH)の電着がナノ多孔質Ni(OH)層の形成のために知られているが、これらの電着プロセスは、ナノ多孔質シリカ構造体の孔壁または孔表面における吸着水層の存在に依存した作動原理を有する上記電池種の電極層としてのNi(OH)層の堆積には適していない。
本開示の目的は、Ni系正極を有する薄膜固体電池セルを製造する方法を提供すること、およびNi系正極を有する薄膜固体電池であって高いエネルギー密度を有する電池を提供することである。
本開示の目的は、既知の水系電池に比べて乾燥の恐れが回避されるかまたは大きく軽減されるNi系正極を有する薄膜固体電池セルおよび薄膜固体電池を製造する方法を提供することである。
上記目的は、本開示による方法および装置によって少なくとも部分的に達成される。
第1の態様によれば、本開示は、薄膜固体電池セルを製造する方法に関する。
第1集電体層を含む基材上に薄膜固体電池セルを製造する方法が提供され、当該方法は:第1集電体層の上に第1電極層を堆積させることを含み、第1電極層が、孔壁を有する複数の孔を含むナノ多孔質複合層であり、第1電極層が、誘電材料と電極活物質との混合物を含み;第1電極層の上に多孔質誘電層を堆積させることを含み;さらに、第2電極層を多孔質誘電層上に直接堆積させることを含み、第2電極層を堆積することには電気化学堆積プロセスによって多孔質Ni(OH)層を堆積させることが含まれることを特徴とする。
本開示の方法の実施形態の利点は、充放電中に、電池セルの乾燥が相殺されるように水の消費が相殺される、薄膜固体電池セルを製造することが可能になるという点である。
本開示の方法の実施形態の利点は、第2電極層とその下にある誘電層との間の良好な接着、したがって第2電極層と固体電解質との間の良好な接着が得られ得るという点であり、それは電池の作動および性能にとって好都合である。
本開示の方法の実施形態の利点は、第2電極層を形成するプロセスで用いる電気化学堆積条件、例えば堆積中に用いる電流または電圧および堆積のために使用する溶液の組成などを選択することによって、第2電極層の気孔率とその厚みを良好に制御できるという点である。
本開示の方法の実施形態の利点は、(水および水酸化物イオンとの相互作用によって起こる)充放電反応をNi(OH)正極層の主要部分全体に亘って起こさせることのできる薄膜固体電池セルを製造することが可能になるという点および、これらの反応が第2電極層の一部(表面部分)に限られないという点である。これは、既知の手法に比べてより高いエネルギー密度およびより高い有効電池容量に達することを可能にする。
第2電極層を多孔質誘電層上に「直接」堆積させることは、本開示との関連において、第2電極層が多孔質誘電層と物理的に接触した状態で、つまり他のいかなる層、構造体または類似物も間に存在していない状態で第2電極層を堆積させることを意味する。
本開示の方法の実施形態の利点は、当該方法によって、Ni(OH)層を非導電性表面上に直接堆積させることが可能になり、それゆえNi(OH)層を多孔質誘電層上に直接堆積させることが可能になる、という点である。本開示の実施形態の利点は、このことによって、第1電極層および多孔質誘電層を提供した後にNi(OH)層(第2電極層)を提供して電池セルを製造することが可能になるという点である。第1電極層および多孔質誘電層の形成には、通常500℃程度の温度での焼成ステップが必要となり得る。そのため、もしも代わりにNi(OH)層(第2電極層)を多孔質誘電層および第1電極層の形成前に提供したならば、そのような焼成ステップは、Ni(OH)層がそのような形成ステップの間に乾燥してしまう恐れを実質的に増大させるであろう。本開示の方法の実施形態の利点は、Ni(OH)層を提供した後にNi(OH)層の乾燥の恐れを増大させる高温においてプロセスステップを実施する必要性を、大いに低減する、薄膜電池セルの製造プロセスが提供されるという点である。
本開示との関連において、用語「ナノ多孔質複合体」は、孔径(例えば孔直径)が0.4〜20nmの範囲内にある孔を有するいかなる類の複合材料であってもよい、ということに留意されたい。
本開示との関連において、用語「電気化学堆積プロセス」は、析出を誘起する局所的なpH変化を起こす電気化学反応によって電極表面で誘起される化学析出反応に基づいた、いかなるプロセスであってもよい、ということに留意されたい。
方法は、第1電極層が負極層を形成し得、かつ第2電極層が正極層を形成し得る、薄膜固体電池を製造するために、整備され得る。
本開示の実施形態において、方法は、第1電極層を堆積させるステップの後に、第1電極層の孔壁を親水化することをさらに含んでもよく、それは、親水性表面を有する孔を作り出してそれによって孔壁表面での水層の吸着を容易にするという点で、有益である。そのような水層は、第1電極層内での良好なイオン伝導を可能にするためおよびそのような第1電極層を含む電池セルの充放電中に第1電極層において電子の良好な交換を可能にするために必要である。
本開示の実施形態において、孔壁を親水化することには、UV硬化ステップを実施すること、すなわち第1電極層をUV光に曝露することが含まれてもよく、それは、例えば加熱を必要としない周囲温度で実施できる単純なステップであるという点で有益である。
本開示の実施形態において、孔壁を親水化することには、湿潤雰囲気中でアニーリングステップを実施することが含まれてもよく、それは、第1電極層内での良好なイオン伝導を可能にするためおよびそのような第1電極層を含む電池セルの充放電中に第1電極層での電子の良好な交換を可能にするために必要な、孔壁表面での水層の吸着がもたらされ得るように、水または水蒸気を含有する雰囲気中でそのようなアニーリングステップが行われるという点で、有益である。アニーリングは、例えば、HとOとを含む環境下で1〜3時間、400〜550℃の範囲内の温度で実施され得るが、本開示はそれに限定されない。本開示との関連において、用語「湿潤雰囲気」は、30%超、好ましくは40%超の相対湿度を有するいかなる雰囲気であってもよいことに留意されたい。
本開示の実施形態において、電気化学堆積プロセスによって多孔質Ni(OH)層を堆積させることは、電気析出プロセスによって堆積させることを含んでもよい。本開示の実施形態において、多孔質Ni(OH)層は例えば、40〜60%の範囲内の気孔率および、100nm〜10マイクロメートル、例えば100nm〜5マイクロメートル、例えば200nm〜2.5マイクロメートルの範囲内の厚みを有し得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、電気化学堆積プロセスは、第1電極層を充電してそれによって第1電極層を導電性にすることを含む第1段階と、多孔質誘電層上でのNi(OH)の析出を含む第2段階とを含み得る。電気化学プロセスの第1段階の間、Ni(OH)材料堆積物はまだ存在していない可能性がある。第1電極層の充電は、電気エネルギーを電極層に供給すること、例えば、電気化学堆積プロセス中に行うような電位または電流の印加をすることによって、行われ得る。
本開示の実施形態において、第1電極層の誘電材料と電極活物質との混合物は、電極活物質粒子を中に分散させた誘電材マトリックスを含み得る。粒子はナノ粒子であり得る。そのような実施形態において、第1電極層は例えば、20〜60%、例えば20〜40%の範囲内の気孔率を有し得、電極活物質粒子は5nm未満の直径を有し得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、第1電極層の誘電材料と電極活物質との混合物は、誘電材料ナノ粒子と電極活物質ナノ粒子との混合物であってもよい。そのような実施形態では、第1電極層は例えば40〜60%の範囲内の気孔率を有し得、誘電材料ナノ粒子は例えば10〜100nmの範囲内の直径を有し得、電極活物質ナノ粒子は例えば5〜20nmの範囲内の直径を有し得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、負極層は例えば、シリカ誘電材料とチタニア電極活物質とを含むシリカ−チタニア層であり得るが、本開示はそれに限定されない。負極層の厚みは例えば、500nm〜10マイクロメートル、例えば1〜10マイクロメートルの範囲内にあり得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態によれば、方法はさらに、第2電極層の上に第2集電体層を堆積させることを含んでもよく、それは、本開示の一実施形態に従って製造した電池セルの作動時に抵抗関連の電位低下が少ない状態で電流が第2電極層の内外へと効率的に運ばれ得るように、第2集電体層が良好な導電性を有し得るという点で、有益である。
本開示は、第2の態様によれば、本開示の実施形態に従って製造した電池セルおよび電池に関するものである。
第2の態様によれば、薄膜固体電池セルが提供され、当該薄膜固体電池セルは:第1集電体層を含み;第1集電体層の上の第1電極層を含み、第1電極層が、孔壁を有する複数の孔を含むナノ多孔質複合層であり、第1電極層が、誘電材料と電極活物質との混合物を含み;第1電極層の上の多孔質誘電層を含み;さらに、多孔質誘電層に直接付着した第2電極層を含み、第2電極層が薄膜多孔質Ni(OH)層であることを特徴とする。
概して、本開示のこの態様の特徴は、本発明の先述の態様に関連して上に述べたのと同様の利点を提供する。
本開示の実施形態において、薄膜多孔質Ni(OH)層の厚みは100nm〜10マイクロメートルの範囲内にあり得、そのことは、薄膜電池セルでのその層の一体化のためにそのような層厚みが適しており、高い容積エネルギー密度および良好な出力能が提供される、という点で有益である。
本開示の実施形態において、薄膜多孔質Ni(OH)層は40〜60%の範囲内の気孔率を有し得、そのことは、電気化学的相互作用のための広い界面がそのような多孔質電極層によって提供されて、その結果、そのような多孔質電極層を含む電池セルの充放電中に電解質と電極材料との相互作用が増大し得、充電容量の向上した電池セルがもたらされ得る、という点で有益である。多孔質電極層のさらなる利点は、そのような多孔質電極層を含む電池セルの充放電中に起こる歪みに対してより良好な耐性を有し得るように、当該多孔質電極層が非多孔質電極層に比べてより広い塑性変形窓を有し得る、という点である。
本開示の実施形態において、多孔質Ni(OH)層は例えば、40〜60%の範囲内の気孔率および、100nm〜10マイクロメートル、例えば100nm〜5マイクロメートル、例えば200nm〜2.5マイクロメートルの範囲内の厚みを有し得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、第1電極層の誘電材料と電極活物質との混合物は、電極活物質(例えば電極活物質粒子)を中に分散させた誘電材マトリックスを含み得る。粒子はナノ粒子であり得る。
本開示の実施形態において、第1電極層は、20〜60%の範囲内の気孔率を有するシリカ−チタニアナノ多孔質層であり得、そのことは、電気化学的相互作用のための広い界面がそのような多孔質電極層によって提供されて、その結果、そのような多孔質電極層を含む電池セルの充放電中に電解質と電極材料との相互作用が増大し得、充電容量の向上した電池セルがもたらされ得る、という点で有益である。多孔質電極層のさらなる利点は、そのような多孔質電極層を含む電池セルの充放電中に起こる歪みに対してより良好な耐性を有し得るように、当該多孔質電極層が非多孔質電極層に比べてより広い塑性変形窓を有し得る、という点である。
そのような実施形態において、第1電極層は例えば、20〜60%、例えば20〜40%の範囲内の気孔率を有し得、電極活物質粒子は5nm未満の直径を有し得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、第1電極層の誘電材料と電極活物質との混合物は、誘電材料ナノ粒子と電極活物質ナノ粒子との混合物であってもよい。そのような実施形態では、第1電極層は例えば40〜60%の範囲内の気孔率を有し得、誘電材料ナノ粒子は例えば10〜100nmの範囲内の直径を有し得、電極活物質ナノ粒子は例えば5〜20nmの範囲内の直径を有し得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、負極層は例えば、シリカ誘電材料とチタニア電極活物質とを含むシリカ−チタニア層であり得るが、本開示はそれに限定されない。負極層の厚みは例えば、500nm〜10マイクロメートル、例えば1〜10マイクロメートルの範囲内にあり得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、多孔質誘電層は、10〜90%の範囲内の気孔率を有する多孔質シリカ層であり得、そのことは、そのような誘電層を含む電池セルの充電時または放電時に、電解質層として作用する水層の吸着のための、したがって第1電極と第2電極との間での多孔質誘電層を介した良好なイオン伝導のための広い内部表面がそのような多孔質誘電層によって提供される、という点で有益である。多孔質層のさらなる利点は、そのような多孔質層を含む電池セルの充放電中に起こる歪みに対してより良好な耐性を有し得るように、当該多孔質層が非多孔質層に比べてより広い塑性変形窓を有し得る、という点である。
本開示の実施形態において、多孔質誘電層は例えば多孔質シリカ層であり得るが、本開示はそれに限定されない。多孔質誘電層は例えば、5〜500nm、例えば10〜100nmの範囲内の厚みを有し得るが、本開示はそれらに限定されない。多孔質誘電層は例えば、1〜20nmの範囲内、例えば10nm程度などの孔径を有し得るが、本開示はそれらに限定されない。気孔率は例えば、10〜90%、好ましくは20〜60%、例えば30〜40%の範囲内にあり得る。
本開示の実施形態において、第1電極層の誘電材料と電極活物質との混合物は、電極活物質ナノ粒子を中に分散させた誘電材マトリックスを含んでいてもよく、それは、ナノ粒子が広い表面積を提供し、結果的に高速の充電特性を有する電池セルをもたらし得る、という点で有益である。
本開示の実施形態による薄膜固体電池は、少なくとも1つの上記薄膜固体電池セルを含む。電池は、複数個、例えば少なくとも2つの、そのような薄膜固体電池セルを含み得、当該複数個の電池セルは、直列もしくは並列または両者の組み合わせによって連結され得る。
本開示による電池セルおよび電池の実施形態の利点は、充放電中に、電池セルまたは電池の乾燥が回避され得るように水の正味の消費が相殺されるという点である。
本開示による電池セルおよび電池の実施形態の利点は、(水および水酸化物イオンとの相互作用によって起こる)充放電反応をNi(OH)正極層の主要部分全体に亘って起こさせることができるという点および、これらの反応が正極層の一部(表面部分)に限られないという点である。これは、既知の手法に比べてより高いエネルギー密度およびより高い有効電池容量に達することを可能にする。
本開示の詳細な好ましい態様は、添付の独立請求項および従属請求項に示されている。従属請求項による特徴は、単に特許請求の範囲において明記されているとおりではなく、独立請求項の特徴およびその他の従属請求項の特徴と適切に組み合わされていてもよい。
本開示の上記およびその他の特性、特徴および利点は、本開示の原理を例によって示す添付の図面と併せて理解される以下の詳細な説明から明らかとなる。この説明は、本開示の範囲を限定することなく、単なる例示のために与えられている。以下で引用している参照図は、添付の図面に言及するものである。
本開示の一実施形態による薄膜固体電池セルの一例の断面を模式的に示す。 「乾性」NiO層の場合のOH拡散を模式的に示す。 「湿性」Ni(OH)層の場合のOH拡散を模式的に示す。 「湿性」Ni(OH)層の場合のOH拡散を模式的に示す。 図1に示す電池構造体と比べて逆の積層物を有する薄膜固体電池の一例の断面を模式的に示す。 TiN/Ni上に定電流で堆積させたNi(OH)層の、陰極堆積電流密度の関数としての測定電流効率の一例を示す。 TiN/Ni上に定電流で堆積させたNi(OH)層の、陰極堆積電流密度の関数としての測定膜厚(黒四角)および測定気孔率(黒三角)の一例を示す。 定電流で堆積させたNi(OH)層の、0.2MのLiOH中で走査速度20mV/sで実施したサイクリックボルタンメトリー測定の結果を示す。 0.01MのNi(NO溶液中での電着によって製造したNi(OH)層の、走査速度20mV/sでのサイクリックボルタンメトリー測定から決定した堆積電流密度の関数としての体積容量を示す。 Ni層上(上部曲線)および、ナノ多孔質複合負極層の上に提供した厚み10nmの多孔質シリカ層上(下部曲線)に、Ni(OH)層を電気化学堆積させる間に測定した、時間の関数としての電位対Ag/AgClを示す。 本開示の一実施形態に従って製造した電池のSEM(走査電子顕微鏡)写真を示す。 本開示の一実施形態に従って製造した電池に対して測定したサイクリックボルタンメトリー曲線を示す。 本開示の一実施形態に従って製造した電池の時間の関数としての測定放電電圧を示す。
異なる図中での同じ参照記号は、同じであるかまたは類似した要素を指す。
本開示は特定の実施形態に関して所定の図面を参照して説明されることになるが、本開示は、それに限定されず、特許請求の範囲によってのみ限定される。描写される図面は、模式的なものに過ぎず、限定的ではない。図面ではいくつかの要素の大きさが、例証を目的として誇張され、縮尺どおりに描かれていない場合がある。寸法および相対寸法は、本開示の実際の具体化には対応していない。
特許請求の範囲において用いられる用語「含む」は、その後に記載されている手段に限定されると解釈されるべきでなく、その他の要素またはステップを排除するものでないことに留意されたい。したがってそれは、述べている特性、整数、ステップまたは構成要素の存在を言及されるとおりに指定するが、1つ以上の他の特徴、整数、ステップもしくは構成要素またはそれらの群の存在または追加を排除しない、と解釈されるべきである。例えば、表現「手段AおよびBを含む装置」の範囲は、構成要素AおよびBのみから構成される装置に限定されるべきでない。本開示に関してそれは、装置に関連する唯一の構成要素がAおよびBであるということを意味する。
この明細書全体を通じて、「1つの実施形態」または「一実施形態」に対する言及は、その実施形態との関連において記載された特定の特徴、構造または特性が本開示の少なくとも1つの実施形態に含まれていることを意味する。したがって、この明細書全体に亘って様々な場所に出現する語句「1つの実施形態において」または「一実施形態において」は、必ずしも全てが同じ実施形態を指しているわけではないが、その可能性はある。さらに、本開示から当業者にとって明らかであろうように、1つ以上の実施形態において特定の特徴、構造または特性がいかなる適切な様式で組み合わさってもよい。
同様に、本開示の例示的実施形態の記載では、本開示を簡素化しかつ発明に関する種々の態様のうちの1つ以上についての理解を助ける目的で、時として単一の実施形態、図またはその説明の中で本開示の様々な特徴を一緒にしていることを理解すべきである。しかしながらこの開示方法は、特許請求の範囲に記載されている本開示が、各請求項で明確に述べているよりも多くの特徴を必要とするという意図を反映していると解釈されるべきでない。むしろ、後に続く特許請求の範囲が反映しているように、発明に関する態様は、先に開示された単一の実施形態の全ての特徴よりも少ない特徴に存する。このように、詳細な説明の後に続く特許請求の範囲は、各請求項が本開示の別個の実施形態として独立している状態で、この詳細な記載の中にこれにより明確に組み込まれる。
本明細書において提供される記載中には、数多くの具体的な詳細が示されている。しかしながら、本開示の実施形態はこれらの具体的な詳細がなくても実施され得るということが理解される。
他の事例では、この記載の理解を不明瞭にしないために、周知の方法、構造体および技術を詳細に示していない。
以下の用語は、単に本開示の理解を助けるために提供される。
充電式電池において、各電極は、放電中(すなわち電池作動中)には第1極性を有し、充電中には第2の反対極性を有する。しかし技術的に言えば、負極は、放電中にはアノードであり、充電中にはカソードである。その逆も同様に、正極は、放電中にはカソードであり、電池の充電時にはアノードである。本開示との関連においては、放電(すなわち電池作動)の専門用語を用いる。本明細書ではさらに、アノードで負極を意味し、カソードで正極を意味する。本開示を通じて、「アノード材料」に言及する場合、それは負極材料の意味であり、「カソード材料」に言及する場合、それは正極材料の意味である。
本開示との関連において、電池半セルは、単一の電極層および電解質層、例えばアノード層および電解質層、またはカソード層および電解質層を含む構造体である。本開示との関連において、電池セルは、電解質層を間に有する2つの電極層を含む構造体、すなわちアノード層/電解質層/カソード層の積層物を含む構造体である。電池は、単一の電池セルを含んでもよく、または複数の、例えば少なくとも2つの電池セルを含んでもよい。電池は、直列もしくは並列で連結された2つ以上の電池セルまたは、直列および並列を組み合わせて連結させた電池セルを含み得る。
本開示との関連において、電極活物質は、電池電極層の構成要素である材料である。電極活物質において実際の電気化学変換(価数の変化)が起こり、それは、電極での化学エネルギーの蓄積を引き起こす。電極層は、典型的には電極活物質と支持材料とからなる。
本開示との関連において、水系電池は、電極活物質の電気化学反応に水が関与する電池である。水系電池は通常、水系電解質を有する。
本開示との関連において、薄膜は、10nm〜10マイクロメートルの範囲内の厚みを有する薄層または薄い被膜である。薄膜電池は、薄膜層からなる電池、すなわちカソード層、電解質層およびアノード層が10nm〜10マイクロメートルの範囲内の厚みを有する薄層である電池である。
本開示との関連において、ナノ多孔質膜またはナノ多孔質層は、孔径(例えば孔直径)が0.4〜20nmの範囲内にある孔を有する材料層である。
本開示との関連において、ナノ粒子は、1〜500nm、典型的には10〜100nmの範囲内の直径を有する粒子である。ナノ粒子は例えば、球体、立方体、八面体もしくは円錐形などの特定形状を有することができ、またはランダムな形状を有することができる。
これより本開示を本開示のいくつかの実施形態の詳細な説明によって記載することにする。添付の特許請求の範囲の用語によってのみ限定されている本開示の真の精神または技術的教示内容から逸脱することなく当業者の知識に従って本開示のその他の実施形態を構成できることは明らかである。
図1は、本開示の一実施形態による薄膜固体電池セル100の断面を模式的に示す。電池セル100は、基材10上のアノード層すなわち負極層(第1電極層)30を含み、かつ場合によっては基材10と負極層30との間に電子注入層20を含む。図1に示す例では、基材10は、担体基材11と、担体基材11の上の負極集電体層(第1集電体層)12とを含む。図1に示すように、基材10は複数の層を含み得る。例えば、基材10は、シリコン担体11と、負極集電体層12、例えばTiN負極集電体層とを含み得る。電池セル100はさらに、負極層30と正極層50との間に固体電解質層40を挟んだ状態で、カソード層すなわち正極層(第2電極層)50を含む。正極層50の上には、正極集電体層(第2集電体層)60、例えば金属接触層が存在する。場合により、電池セル100はさらなる層、例えば、負極層30と固体電解質層40との間の緩衝層(図1に示さず)など、例えばPECVD窒化シリコン緩衝層などを含み得る。
本開示の実施形態において、基材10は(負極)集電体層12を含み、負極層30(および場合によっては電子注入層20)は負極集電体層12上に提供される。例えば基材10は、シリコン担体基材または箔(例えば柔軟な箔)の上に提供された集電体層12を例えば含む、様々な層の積層物から構成されていてもよい。集電体層12は、例えばTi、TiN、炭素、Pt、Ni、Al、ステンレス鋼もしくはカーボンナノチューブまたはそれらの組み合わせを含み得るが、本開示はそれらに限定されない。集電体層12の厚みは、例えば10〜250nmの範囲内にあり得るが、本開示はそれに限定されない。集電体層12は、単一層から構成されていてもよく、または多層積層物、例えば、TiN層とTiN層上を被覆したNi層とを含むかもしくは例えばTi層とTi層の上のTiN層とを含む2層積層物などであってもよい。本開示の実施形態において、担体基材は集電体層の機能をも有し得る。
担体基材11は、平面状であってもよく、または非平面状であってもよい。例えば、非平面状担体基材11は複数の3D機構または3D微細構造体、例えば複数の微細ピラーなどを含んでもよい。例えば、担体基材は、高アスペクト比の一連のピラー、例えばシリコンピラーなどを含んでもよく、シリコンピラーが集電体層12で被覆されていてもよい。ピラーは例えば、0.5〜10マイクロメートルの範囲内の直径、1〜20マイクロメートルの間隔、および10〜200マイクロメートルの範囲内の高さを有し得るが、本開示はそれらに限定されない。複数の3D微細構造体を含む基材を使用することの利点は、電池容量が増加するという点である。
場合によって採用される電子注入層20は、負極層30のための接着層および/または湿潤層としても作用し得る。電子注入層20は、例えば、(例えば1〜10nmの範囲内の厚みを有する)酸化チタン薄層であり得るが、本開示はそれに限定されない。
描写した負極層30は、誘電材料と、電極活物質、例えば電極活物質粒子との混合物を含むナノ多孔質複合層である。本開示の実施形態において、層30は、電極活物質粒子を誘電マトリックス中に分散させた、誘電材マトリックスを含み得る。それは例えば、(多孔質)シリカ(SiO)マトリックス中に埋め込まれたTiO非晶質ナノ粒子を例えば含む、シリカ−チタニアナノ多孔質複合層であってもよい。電極活物質ナノ粒子は例えば、5nmより小さい直径を有し得、複合負極層30内で隣接するナノ粒子間の距離は5nm未満であり得る。多孔質マトリックスの気孔率は例えば、20〜60%の範囲内、例えば20〜40%の範囲内、例えば30%程度などであり得る。本開示のその他の実施形態において、ナノ多孔質複合電極層30は、例えばシリカ、アルミナまたはジルコニアのナノ粒子などの誘電材料ナノ粒子と、例えばTiOナノ粒子などの電極活物質粒子との混合物を含み得る。誘電材料ナノ粒子は例えば、10〜100nm、例えば10〜30nmの範囲内、例えば20nm程度などの直径を有し得るが、本開示はそれらに限定されない。活物質ナノ粒子は、例えば5〜20nmの範囲内の直径を有し得るが、本開示はそれに限定されない。そのような複合電極層の気孔率は、例えば40〜60%の範囲内にあり得る。TiO非晶質ナノ粒子の代わりに、Ni(OH)に対する負極電位において電気化学的に活性であるその他の半導体金属の酸化物または水酸化物、例えばTa、Sn、Zn、Cu、Ge、W、Mo、VまたはNbを含有する酸化物などを使用してもよいが、本開示はそれらに限定されない。負極層30の厚みは例えば、500nm〜10マイクロメートルの範囲内、例えば1〜10マイクロメートルの範囲内にあり得るが、本開示はそれらに限定されない。電極活物質ナノ粒子の埋め込まれた誘電性多孔質マトリックスを負極層30が含む実施形態では、それは例えば、液体前駆体(例えばゾル−ゲル前駆体)のスピンコーティング、ブレードコーティング、スロットダイコーティング、スプレーコーティングまたはキャスティングを行って硬化させることにより提供され得る。負極層30が誘電ナノ粒子と電極活物質粒子との混合物を含む実施形態では、それは例えば、ブレードコーティング、バーコーティング、スプレーコーティング、スクリーン印刷、インクジェット印刷またはペーストキャスティングによって提供され得る。
本開示の実施形態において、正極層50は、固体電解質層40および負極層30の上の、電気析出により提供される「湿性」Ni(OH)層すなわちNiO・HO層である。正極層50は、多孔質層であり、典型的には40〜60%の範囲内の気孔率を有する。それは例えば、100nm〜10マイクロメートル、例えば100nm〜5マイクロメートル、例えば200nm〜2.5マイクロメートルの範囲内の厚みを有し得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態において、描写した固体電解質層40は、例えば5〜500nm、好ましくは10〜100nmの範囲内の厚みを有する親水性の多孔質誘電層、例えば多孔質シリカ層などであり、当該多孔質層、例えば多孔質シリカ層は、(電池充電後に)内面または壁に水を吸着している複数の孔を有する。多孔質誘電層は例えば、1〜20nmの範囲内、例えば10nm程度などの孔径を有し得るが、本開示はそれらに限定されない。気孔率は例えば、10〜90%、好ましくは20〜60%、例えば30〜40%の範囲内にあり得る。固体電解質層40は、多孔質マトリックス、例えば多孔質シリカマトリックスを含む複合電解質層であり、その孔壁には水層が吸着しており、その吸着水層は電解質として作用する。本開示の実施形態において、固体電解質層40は、単一層であってもよく、または積層物であってもよい。例えば、固体電解質層40は、PVDまたはCVDによる酸化シリコンの薄層(厚みは例えば5〜10nm)とその上にある溶液処理された多孔質シリカ層とを含む積層物であってもよい。多孔質シリカ層は例えば、シリコーン前駆体またはTEOS(オルトケイ酸テトラエチル)前駆体を使用してスピンコーティングによって形成され得る。PVDまたはCVDによる酸化シリコン層を最初に提供することの利点は、当該酸化シリコン層がその下にある負極層30の孔内への液体前駆体の浸透を防止し得るという点である。
本開示の実施形態において、正極集電体(金属接触層)60は例えば、Ni、W、Ti、Au、Ptまたはそれらの組み合わせを含み得るが、本開示はそれらに限定されない。
本開示の実施形態による電池セルの一部である層40は、孔壁における吸着水層の存在に基づいて電解質として作用できる多孔質かつ親水性の層である。そのような層40は、電解質膜を作り出す溶液で孔を満たすことにより、電解質として使用することもできる。それゆえ、層40は、例えば燃料セル、電解装置および太陽光燃料セルで使用する例えばナフィオン(商標)などのプロトン伝導性およびヒドロキシル伝導性の膜を形成するためにも使用され得る。太陽光燃料セルは、太陽光からの光電気化学変換によって空気(水蒸気またはCO)から化学物質(例えばHガスまたはメタノール)を生成する光電解化学セルであり、電解質膜の隣に(光)カソードおよび(光)アノードを必要とする。
本開示の実施形態による装置の作動は、ナノ多孔質負極層30の中および固体電解質層40の中に存在している水分/水、より具体的には負極層30の中および固体電解質層40の中に存在する孔の壁または内面に吸着している水分/水に依存する。電池内でこの水分または水は、充電/放電中の電極での電子交換のための試薬として、かつイオン伝導のための手段(電解質層)として作用する。乾性の(例えばスパッタされた)NiO層を正極層として使用する既知の手法に比べて、Ni(OH)層を正極層50として使用する本開示の実施形態の利点は、以下でさらに説明するように全体としてのカソードおよびアノードのセル反応にHOの正味の消費が存在しないという点である。それゆえ、乾性NiO層を正極層として使用する既知の方法とは対照的に、表面水層が「干上がる」恐れが回避されるかまたは実質的に軽減される。
乾性NiO正極層の場合、充電/放電セル反応は:
負極では
Figure 2017228519
そして
正極では
Figure 2017228519
と記述できる。
そうしてNiO正極層の場合での全体としての充電/放電セル反応は:
Figure 2017228519
と記述できる。これは、電池の充電中に負極においてHOの消費があり、それが正極において補償されない、ということを示す。これは、電池充電中にHOの正味の消費をもたらす。水は電解質機能を提供するためにも必要であるため、この電池で乾性NiO正極層を使用することは、好ましくない手法である。
「湿性」Ni(OH)正極層の場合、充電/放電セル反応は:
負極30では
Figure 2017228519
そして
正極50では
Figure 2017228519
と記述できる。
そうしてNi(OH)正極層の場合での全体としての充電/放電セル反応は:
Figure 2017228519
と記述できる。これは、Ni(OH)正極層を使用する場合に電池の充電中に反応(5)に従ってNi(OH)からHOが作り出されるということを示す。これは負極での(4)によるHOの消費を補償する。放電中には逆の反応が起こる。それゆえ、充電/放電中に水の正味の消費が存在しない。これは、表面水層が影響を受けないままであり得、よってその電解質機能が維持され得る、ということを意味する。したがって、「湿性」Ni(OH)正極層をこの電池で使用することは、好ましい手法である。
Ni(OH)層を正極層50として使用する本開示の実施形態のさらなる利点は、水および水酸化物イオンとの反応がNi(OH)電極層全体に亘って(つまり電極層の厚み全体に亘って)起こり得るという点である。乾性の(例えばスパッタされた)NiO層を正極層として使用する既知の手法では、「乾性」NiO層を貫くOH拡散が速度論的に制限されるために反応が電極層の表面部分に制限され、結果として充電中におけるNiO層の表面部分のみが利用され、表面部分のみ、すなわちNiO/電解質界面のみにNiOOH層が形成される。Ni(OH)電極層の場合、「湿性」(含水)Ni(OH)層を貫いてOH拡散が起こり、まずNi(OH)層と集電体層(例えばNi層)との界面にNiOOH層が形成され、その後にNi(OH)層全体に亘ってNiOOH層がさらに形成される(さらに広がる)。これを図2a〜図2cに模式的に示す。
図2aは、例えばNi層などの金属層60と、「乾性」NiO電極層70(例えばスパッタされたNiO層)とを含む積層物の断面を模式的に示す。NiO層70はバルク水を含有しないが、水はNiO層70の露出面付近(または、電池構造体の中では固体電解質層との界面)でのみ利用可能である。結果として、電極層70の厚みdの表面部分71のみが水に接近できる。したがってそのような構造体では、水との電気化学反応は、(実質的に非多孔質の)NiO層の厚みdの表面部分71においてのみ起こり、この表面部分71が充電反応中にNiOOHへと変換される(NiO+OH→NiOOH+e)。「乾性」NiO層70を貫くOH拡散は速度論的に制限される。NiOOHの形成は、NiO層70の露出面で起こることが好ましい、というのも、乾性NiO層を貫くイオン抵抗は電子抵抗よりも高いからである。例えば、表面部分71の厚みdは、厚み300nmのNiO層70での実験に基づいて40nm程度であることが見積もられた。これは、NiOの充電容量、したがって電池のエネルギー密度および容量を制限する。
図2bは、例えばNi層などの金属層60と、水を含有するNi(OH)電極層50、すなわちNi(OH)・HO層とを含む積層物の断面を模式的に示す。まず、金属層60との界面にある含水Ni(OH)電極層50の一部52が、充電中に含水NiOOH層へと変換される(つまり、Ni(OH)・HO層50がNiOOH・HOに変換される)。そのような構造体では、水との電気化学反応(Ni(OH)+OH→NiOOH+HO+e)は、金属層60と電極層50との界面にある一部52でのみならず、図2cに模式的に示すようにNi(OH)電極層の全厚みdの全体に亘って起こり得る。これは、含水Ni(OH)(すなわちNi(OH)・HO)層を貫く比較的速いOH拡散に関係している。Ni(OH)の電子抵抗はイオン拡散に対するその抵抗よりも大きいため、Ni/Ni(OH)界面でNiOOHの形成が始まる。
例えば、(TiN/Ni集電体層上に提供された)Ni(OH)電極層を含む構造体に対して0.2MのLiOH溶液中で実施した半セル測定からは、電気化学析出により作製したNi(OH)電極層50が同様の厚みの乾性NiO電極層70よりもはるかに高い容量を有するということが示された。直接スパッタおよび反応性スパッタをした厚み300nmの乾性NiO電極層の測定容量はいずれも約2マイクロAh/cmであった。30%の気孔率を有する厚み320nmのNi(OH)電極層については、20マイクロAh/cm(約600mAh/cm)の容量が測定された。したがって、Ni(OH)層を正極層として使用することの利点は、それによって充電容量が増加するという点である。
Ni(OH)電極層を含む固体電池を製造する場合、堆積後の温度総負荷量(すなわち、湿性Ni(OH)層の堆積後に高温で行ったプロセスステップに関係する温度総負荷量)は、湿性電極層の品質、したがって電池性能に影響を与える可能性があり、構造変化を招く可能性がある。例えば、80〜110℃の範囲内の温度で始めると、表面の水が除去される。より高い、例えば160〜240℃で始まる温度では、電極層内に組み込まれている水分が除去され、170〜230℃より高い温度ではNi(OH)のNiOへの分解が観察される。これは例えば、Ni(OH)電極51を含む固体電池101であって図1に示す積層物とは逆のものに相当する図3に模式的に示す積層物に基づいた電池101を製造する場合に、あてはまり得る。図3に示す積層物を製造する場合、(正極集電体を含む)基材13上にNi(OH)正極層51を堆積させ、続いてNi(OH)電極層51上に固体電解質層41および負極層31を堆積させ、最後に集電体層61を堆積させる。この製造プロセスは、例えば負極層31の形成中に、典型的には500℃程度の温度での焼成ステップを含むであろう。500℃の焼成ステップは、Ni(OH)層51を乾燥させてNiOに分解させる恐れが大きい。したがって、これらの望ましくない影響を回避するためには、Ni(OH)正極層を有する電池を作製するとき、負極層を提供した後にNi(OH)層を堆積させる製造プロセスを選択することが好ましい。これは、図1に示す積層物(層配列)に相当する。図1に示す積層物を製造するためには、電気絶縁層の上、図1に示す例では電気絶縁性の固体電解質層40(多孔質シリカ層)および負極層30の上に、湿性薄膜Ni(OH)層50を堆積させるのを可能にする方法が必要である。
本開示は、電気析出によって湿性Ni(OH)層50をナノ多孔質誘電層(固体電解質層40)の上に直接形成する方法を提供する。本開示の実施形態による電気析出方法の利点は、堆積の間の電流または電圧、および堆積に使用する溶液の組成などの(例えば図5でさらに示すような)堆積条件を制御することによってNi(OH)層の気孔率を制御することが可能になるという点である。堆積中に通す荷電体を制御することによって厚みを制御できることは有益である。Ni(OH)層は、本開示による電池において正極層50として使用される場合、40〜60%の範囲内の気孔率および、100nm〜10マイクロメートル、例えば100nm〜5マイクロメートル、例えば200nm〜2.5マイクロメートルの範囲内の厚みを有することが好ましいが、本開示はそれらに限定されない。
驚くべきことに、(導電性集電体層12上のナノ多孔質複合負極層30の上に提供される)ナノ多孔質誘電層40上に直接、Ni(OH)層50を電気析出させることに成功した。誘電層40は、少なくとも5〜10nm(典型的には10〜100nm)の厚みを有する非導電性の層であるため、電気化学堆積に必要な電子がこの層を通過することはできず、誘電/液体界面での電気析出反応は可能でないと予想されるであろう。
理論にとらわれることはないが、導電層(本開示の装置では負極集電体層12に相当)を下に有したナノ多孔質誘電層(本開示の装置では固体電解質層40に相当)上でのNi(OH)層の電気化学堆積のメカニズムは、導電層での硝酸塩の電気化学的還元(NO +HO+2e→NO +2OH)の結果として、遊離OHおよびナノ多孔質誘電層を貫くOH伝導によって導電層の導電性表面のみならずその上のナノ多孔質誘電層の表面においてもpHが増大すること;ならびに、多孔質誘電層の表面にNi(OH)を析出させるNi2+とOHとの化学反応:Ni2++2OH→NiO・HO↓
によって、説明され得る。
したがって、理論にとらわれることはないが、ナノ多孔質誘電層上でのNi(OH)層50の電気析出による電気化学堆積のメカニズムは、イオンを伝導するが電子を伝導しない多孔質誘電層では電気析出反応に必要なpH変化も起こるという仮説によって、説明され得る。pH変化が孔の内部に蓄積し、最終的には誘電層と溶液との界面にある表面層に蓄積し、そこで電気析出が起こる、と推測される。NO イオンは、電解質溶液からナノ多孔質誘電層の孔を通って、下にある導電性集電体層に向かって拡散し得る。それらは集電体にてNO へと還元され得る(NO +HO+2e→NO +2OH)。これに続いて、発生したOHイオンが外部へ(つまり、集電体からナノ多孔質誘電層を通って、電解質浴と接触している誘電層露出面に向かって)拡散し得る。次いでナノ多孔質誘電層の露出面でのNi2+とOHとの化学反応が誘電層表面でのNi(OH)の析出をもたらし得る(Ni2++2OH→NiO・HO↓)。
本開示の実施形態において、析出反応は、多孔質誘電層40の下のナノ多孔質複合負極層30内に存在する電極活物質(例えばチタニア)の電気化学的充電の後に起こり得る。実際、Ni(OH)の電気化学堆積に必要な総電荷の計算または較正の際には、チタニア−シリカ複合層の反応(4)による初期充電を考慮に入れなければならない。本開示の実施形態によるナノ多孔質誘電層40上でのNi(OH)の電気化学堆積は2ステップすなわち2段階で起こることが分かった。電気化学プロセスの第1ステップすなわち第1段階では、ナノ多孔質複合負極層30が充電される。この初期充電ステップの結果、それが導電体になり、Ni(OH)材料の実際の堆積(電気化学堆積プロセスの第2ステップすなわち第2段階)が始まる。
実験1:Ni上でのNi(OH)の電気析出
0.01MのNi(NO溶液を使用し総電荷Q=−0.26C/cmでTiN/Ni積層物上での定電流堆積を行うことによってNi(OH)層を形成する実験を行った。図4は、RBS(ラザフォード後方散乱分光法)により決定した堆積層のニッケル含有量から算出した陰極堆積電流密度の関数としての測定電流効率を示す。図5は、SEM(黒四角)によって決定した対応する膜の厚みおよび、算出気孔率(黒三角)を、陰極堆積電流密度の関数として示す。
堆積させたNi(OH)の量(n(Ni)、単位:モル/cm)、したがって電極の貯蔵容量は:
Figure 2017228519
に従って電流密度(i、単位:A/cm)と堆積時間(t、単位:秒)とによって決定されることが示された。式中、Fは96485C/mol(ファラデー定数)、z=2(NO の還元によって2OHイオンと交換された電子の数に対応)であり、η(i)は%表示での電流効率または堆積効率である。図4に示す電流効率はこの式に従って算出した。RBSによって測定したNiの量は、0.2MのLiOH中、走査速度20mV/sでの図6に示すサイクリックボルタンメトリー測定(電位対Ag/AgCl)によって決定された電極容量から決定した堆積Ni(OH)の量に、非常によく一致することが分かった。これらの曲線は、Ni(OH)層の反応(5)による正極としての活性を例証している。ボルタモグラムの正の、つまりアノードのピークは、Ni(OH)をNiOOHへと酸化する電極反応に対応する。ボルタモグラムの負の、つまりカソードのピークは、NiOOHをNi(OH)へと還元する逆反応を示す。アノードピークおよびカソードピークの下の電荷は実質的に等しいことが分かり、可逆性が示された。ピークにおいて積分した電荷は、反応(5)によるNi(OH)層の電荷に等しい。ピーク下で積分した電荷は、Ni(OH)層の体積容量に関係している。いくつかのNi(OH)層について算出した体積容量を、堆積電流密度の関数として図7に示す。RBSによって測定したNiの量に基づき(かつ緻密な非多孔質層を仮定して)、990Ah/lの理論容量が算出された。Ni(OH)層は多孔質であるため、緻密層の場合に比べて、実際の体積はより大きく、かつ(図7に示す)実際の体積容量はより低い。図7では容量を、SEMによって測定した実際の層厚みに規格化している。
膜の気孔率(%表示)は、(n(Ni)に関係する)電流密度の関数であり、測定膜厚(d、単位:cm)から:
Figure 2017228519
に従って決定できることが見出された。式中、Ni(OH)・HOの分子量としてMW=110.72g/モルであり、Ni(OH)・HOの密度としてρ=4.1g/cmである。
実験2:ナノ多孔質チタニア−シリカ上でのNi(OH)の電気析出
ナノ多孔質チタニア−シリカ層(本開示の一実施形態による装置において負極層30に相当)上での定電流堆積によってNi(OH)層を本開示の実施形態に従って形成する実験を行った。TiN層の上に厚み500nmまたは800nmのナノ多孔質チタニア−シリカ複合負極層30を有しているTi(15nm)/TiN(150nm)積層物(第1集電体層12)で洗浄済n型シリコン基材11を被覆したものを使用した。ナノ多孔質チタニア−シリカ層は、前駆体溶液のスピンコーティングおよび焼成によって形成した。500nm厚のナノ多孔質チタニア−シリカ層を形成するには、後に続く2回のコーティングステップを用い、800nm厚のナノ多孔質チタニア−シリカ層を形成するには、後に続く3回のコーティングステップを用いた。定電流堆積プロセスでは、2つの異なる堆積電流密度を用いた。1つの実験では、−0.05A/cmの堆積電流密度を用い、結果として約50%の気孔率を有するNi(OH)層を得た。もう1つの実験では、−0.2mA/cmの堆積電流密度を用い、結果として約30%の気孔率を有するより緻密なNi(OH)層を得た。厚み200nm〜2.5マイクロメートルのNi(OH)層の堆積に成功した。厚みは、上述したとおり適切な堆積時間および電流密度を選択することによって制御した。いくつかの実験では、Ni(OH)層50の堆積物がチタニア−シリカ複合電極層30上に直接得られた。さらなる実験を実施して、電解質層40として作用する(チタニア−シリカ複合体層30の上に提供されている)多孔質誘電層上にNi(OH)層50の堆積物を得ることに成功したが、当該多孔質誘電層40は、10nm厚のPVD酸化シリコン層、10nm厚のPECVD窒化シリコン層、またはシリコン/キシレン前駆体混合物から得た10〜30nm厚のスピンコートナノ多孔質シリカ層のいずれかから構成されるものであった。
一例として以下に、洗浄済n型シリコン基材上のTi(15nm)/TiN(150nm)積層物(集電体層)と、TiN層の上の750nm厚の(後に続く3回のスピンコーティングおよび焼成のステップによって形成した)ナノ多孔質チタニア−シリカ複合負極層30と、負極層30上の10nmのPVD酸化シリコン層40とを含む基材上に本開示の一実施形態に従って定電流で堆積させたNi(OH)層についての結果を示す。定電流堆積プロセスでは、0.01MのNi(NO溶液および−0.2A/cmの堆積電流密度(総電荷=−1.04C/cm)を用いた。Ni(OH)層の厚みは約1.2マイクロメートルであった。図8は、Ni(OH)層の電気化学堆積中に測定した、時間の関数としての電位対Ag/AgClを示す(上の曲線)。比較のために、導電性Ni基材上での堆積中の電位(−0.2mA/cmの電流密度、総電荷=−0.26C/cmで実施した、図4および図5にも報告している実験)も図8に示す。ナノ多孔質電極層とナノ多孔質酸化シリコン層とを含む積層物上での電着の電位対Ag/AgClは、ナノ多孔質誘電積層物の付加的な抵抗のために、Ni上での堆積に比べてより負の値にシフトする。さらに、ナノ多孔質電極層とナノ多孔質酸化シリコン層とを含む積層物上での堆積は、電位対Ag/AgClの初期の低下を示す。これは、上述したNi(OH)の実際の堆積が始まる前の負極層30の充電に関係している。図8の挿入図は、ピーク時に16mC/cmに達し、平坦部に到達したときに約25mC/cmに達することを示している。この電荷は、複合負極層30内のTiOの反応(4)による充電に使用され、複合電極の総容量の約35%までを占める。これは、本開示の実施形態においてNi(OH)層の堆積に必要な電荷を見積もるときに、複合負極層30の充電に必要なこの付加的な電荷を考慮に入れる必要があるということを明確に示している。
本開示はさらに、図1に模式的に示しかつ上に述べた、積層物を有する電池セル100を製造する方法を提供する。この方法は:担体基材11上に負極集電体層12を提供すること(または負極集電体層12を含むかもしくは負極集電体層の機能を有する基材10を提供すること)を含み;場合により、負極集電体層12上に電子注入層20を提供することを含み;負極集電体層12上または、存在する場合には電子注入層20上に、ナノ多孔質複合層である負極層30(第1電極層)を提供することを含み;多孔質誘電層である固体電解質層40を負極層30上に提供することを含み;さらに、電気化学堆積プロセス、例えば電気析出プロセスによって、Ni(OH)層である正極層50(第2電極層)を多孔質誘電層40上に提供することを含む。方法はさらに、正極集電体層60(第2集電体層)をNi(OH)正極層50上に堆積させることを含む。
ナノ多孔質複合負極層30は、誘電材料と電極活物質(例えば電極活物質ナノ粒子)との混合物を含む。それは例えばチタニア−シリカ複合層であってもよい。本開示の実施形態において、ナノ多孔質複合負極層30は、誘電材料ナノ粒子、例えばシリカ、アルミナまたはジルコニアのナノ粒子と、活物質ナノ粒子、例えばチタニアナノ粒子または、例えばTa、Sn、Zn、Cu、Ge、W、Mo、VもしくはNbを含有する酸化物ナノ粒子との混合物を含み得るが、本開示はそれらに限定されない。そのような複合層は例えば、基材上での前駆体混合物の溶液処理、例えば、キャスティング、ブレードコーティング、スプレーコーティングまたは印刷、および焼成によって、形成され得る。当該混合物は、例えば、ナノ粒子複合スラリーまたはインク、例えば溶媒中に懸濁させたナノ粒子の混合物であり得る。本開示のその他の実施形態において、ナノ多孔質複合負極層30は、電極活物質(例えば電極活物質粒子、例えばチタニア粒子)を中に分散させた誘電材料マトリックス(例えばシリカマトリックス)を含み得る。そのような複合層は、例えば、化学溶液堆積(CSD)によって形成され得る。それは例えば、シリカおよびチタニアを化学前駆体分子、例えばチタニア用のTi(IV)−有機酸錯体およびシリカ用のTEOSまたはシリコーンなどから形成する、ゾル−ゲル法によって形成され得る。両者の合剤、例えば多孔質シリカ用のゾル−ゲル混合物中にチタニアナノ粒子を懸濁させたものを使用することもできる。
負極層30の堆積後、層を活性化させるため、つまり層を(例えばメチル基などの疎水性基の除去によって)親水性にするために、活性化ステップ、例えばUV硬化ステップを実施することが好ましい。この実験では、254nmに鋭いピークを有するUVCスペクトルを用いて70mW/cmの放射照度で2時間かけてUV硬化を行った。しかしながら本開示はそれに限定されず、その他の適切なUV照射パラメータを使用してもよい。UV硬化の代わりに、またはUV硬化に加えて、湿潤雰囲気中(例えば、水または水蒸気を含有する雰囲気中)でのアニーリング、例えば、HおよびOを含む環境での400〜550℃の範囲内の温度での1〜3時間のアニーリングなどが当該活性化に含まれていてもよいが、本開示はそれらに限定されない。例えば、実験では、500℃の炉内にて2時間、5slmのHおよび3.75slmのOの流量でウェハを焼成することにより、湿式アニールを行った。UV照射ステップおよび/または湿式アニールステップは、負極層30を堆積させた直後に行ってもよい。これに代えて、またはこれに加えて、負極層30の上に電解質層40を形成した後、つまり負極層30および電解質層40と同時に、そのステップを行ってもよい。
多孔質固体電解質層40としては、作動条件下で安定でありかつ、孔壁上に表面水層を形成させるのに十分に親水性である(つまり、少なくとも連続した水の単層の形成を可能にする)いかなる誘電材料も使用できる。使用され得る材料の例は、酸化シリコン、例えばCVDもしくはPVDにより形成された薄い酸化シリコンまたは、スピンオン堆積もしくはゾル−ゲル法などの溶液処理によって形成された薄い酸化物(厚み10〜100nm)、および窒化物(厚み5〜10nm)である。例えば、薄い多孔質酸化物は、シリコーン/キシレン混合物を含む前駆体のスピンコーティング、および焼成によって形成され得る。堆積方法および条件は、酸化物がその下のナノ多孔質電極層30を埋めるかまたは塞ぐことのないように、選択すべきである。適切な方法の例は、ゾル−ゲル処理、PVDおよびCVDである。多孔質誘電層40の孔径は、例えば、1〜20nmの範囲内、例えば10nm程度などであり得るが、本開示はそれらに限定されない。気孔率は例えば、10〜90%、好ましくは20〜60%、例えば30〜40%の範囲内にあり得る。
例えば、実験では、スピンコーティングおよび焼成によって多孔質酸化物層40をナノ多孔質シリカ−チタニア層上に堆積させた。多孔質酸化物層40を形成するためのゾル−ゲル前駆体溶液は、23.0mlのキシレンと7.0mlのシリコーンオイルとを混合することによって調製した。これはArグローブボックス内で行った。振盪器を使用して溶液を10分間ゆっくり振盪することによって混合物を得た。ピペットを使用して8インチの基材上に3mlの前駆体溶液を滴下し、その後、1000rpmでスピンコートした。これに続いて、80℃で10分間の乾燥ステップおよび、空気中、ホットプレート上での350℃で10分間のプリベークステップを行った。次に、79%のNおよび21%のOを含む雰囲気中、500℃の炉内で2時間、ハードベークステップを行った。
本開示の実施形態において、正極層50は、電気析出させたNi(OH)層である。Ni(OH)堆積のための電解質浴としては、様々な電解液が使用され得る。Ni2+源が必要である。Ni2+濃度は、例えば、1mM〜1Mの範囲内にあり得る。この範囲内で低濃度、例えば0.01M程度の濃度などを用いることが好ましい。この範囲内で濃度が低い方が、より滑らかかつより均一な堆積物がもたらされるということが実験的に観察された。それはまた、下にある多孔質層の孔内でのNiのめっき形成および堆積を防止するのを可能にする。アニオンとしては、NO が好ましいが、反応に無関係でありかつNi(OH)堆積物を溶解させないいかなるアニオンも使用できる。例はSO 2−およびCHCOOであるが、本開示はそれらに限定されない。さらに、酸化剤が必要である。これは、(Ni(NO電解質または無関係なK、Na、Liなどのカチオンを伴う)NO 系であることが好ましいが、電気還元時にpH上昇を導入するいかなる酸化剤、例えば、水(ピンホールの原因となり得る水素の形成が欠点である)、O(溶液中に内在するかまたはパージングによって添加される)またはH(不安定であるのが欠点である)などであっても機能する。方法は、例えばNaSOなどの、補助用または無関係の電解液を使用するかまたは使用せずに、実施され得る。
正極集電体層60は、例えばPVD(物理蒸着)によって堆積させ得る。それは、例えば、Ni、W、Tiまたはそれらの組み合わせを含み得るが、本開示はそれらに限定されない。
実験3:電池セルの製造
本開示の方法の一実施形態に従って電池セル100を製造した。15nm厚のTi層と150nm厚のTiN層とから構成される金属積層物12を8インチのシリコン担体基材11上に堆積させた。この金属積層物は、負極集電体層12を形成する(そして、基材10の一部と見なされる)。TiN層上に750nm厚のチタニア−シリカ複合負極層30を、前駆体溶液のスピンコーティングおよび焼成によって形成した。負極層用の前駆体溶液は、Arグローブボックス内で25mlのテトラヘプタン酸チタン(IV)塩を45.9mlのキシレン(溶媒)および6.25mlのシリコーンオイル(化学前駆体)と混合することによって調製した。まず、キシレンをテトラヘプタン酸チタン(IV)塩に注ぎ、次にシリコーンオイルをこの溶液に添加した。振盪器を使用して溶液を10分間ゆっくり振盪することによって混合物を得た。ピペットを使用して8インチの基材上に3mlの前駆体溶液を滴下し、その後、1000rpmでスピンコートした。これに続いて、80℃で10分間の乾燥ステップおよび、空気中、ホットプレート上での350℃で10分間のプリベークステップを行った。スピンコーティング、乾燥およびプリベークのこの一連のステップを、必要な層厚みに応じて2回または3回実施した。単回のコーティングおよび焼成ステップの結果として、約250nmの層厚みが得られた。その後、Nが79%でありOが21%である雰囲気中、500℃の炉内で2時間、ハードベークステップを行った。その後、UV硬化ステップを行った。これは、高出力UVC照射チャンバ内で、254nmに鋭いピークを有するUVCスペクトルを用いて70mW/cmの放射照度で2時間かけて行った。その後、5slmのHおよび3.75slmのOの流量で500℃の炉内でウェハを2時間焼成することにより、湿式アニールを行った。
プラズマスパッタリングを用いて10nm厚の酸化シリコン層40を負極層30の上に堆積させた。この層の気孔率は10〜30%の範囲内にあると見積もられた。次に、試料をIPAで洗浄し、窒素ガンで乾燥させた。
その後、200nm厚のNi(OH)層(正極層50)を酸化シリコン層上に電気化学的に堆積させた。定電流堆積プロセスでは、白金対極およびAg/AgCl参照電極とともに0.01MのNi(NO溶液を使用した。堆積電流密度は、−0.05A/cmであった。総電荷Qは、−0.115C/cmであった。Ni(OH)層の定電流堆積に必要な総電荷を見積もる際、チタニア−シリカ複合電極層30の反応(4)による初期充電を考慮に入れた。この特定の例では、初期充電(電気化学プロセスの第1段階)には−0.065C/cmの電荷が必要であり、Ni(OH)の実際の堆積(電気化学プロセスの第2段階)には−0.050C/cmの電荷が必要であり、結果として総電荷が−0.115C/cmになる、ということが分かった。
次に、プラズマスパッタリングによって150nm厚のNi層(正極集電体層60)をNi(OH)正極層50上に堆積させた。図9は、結果として得られた積層物のSEM写真を示す。
図10に示すように、この装置に対して実施したサイクリックボルタンメトリー測定値は明確な放電ピークを示し、装置が電気化学的に活性であることを指し示している。
図11は、この電池の時間の関数としての測定放電電圧を示す。電池をまず2Vで5分間充電した。その後、電池電圧が0Vに達する(時間t=tcut−offの時)まで、電池を電流密度j=−50マイクロA/cmで放電させた。測定電池電圧(放電電圧U)を時間の関数として図11に示す。この電圧プロファイルからエネルギーEを
Figure 2017228519
のとおりに算出し、その結果、エネルギー密度Eは0.3マイクロWh/cmであった。
上記記載は、本開示の特定の実施形態を詳述している。しかしながら、本文中で上記がどれほど詳しく書かれているようであっても、本開示が多くの方法で実施され得ることが理解される。本開示の特定の特徴または態様を説明する場合での特定の専門用語の使用は、本明細書中で専門用語がその専門用語に関連する本開示の特徴または態様の任意の具体的特性を含むことに制限されるように再定義されることを暗に示していると解釈されるべきでないことに、留意されたい。
本発明による装置について、好ましい実施形態、具体的な構成および配置、ならびに材料を本明細書中で述べてきたが、本発明の範囲および精神から逸脱することなく外形および細部に様々な変更または改変がなされ得るということを理解されたい。例えば、記載した方法に対してステップの追加または削除が本発明の範囲内でなされ得る。
上記の詳細な説明、および本開示の概要は、装置を製造する方法を中心としたものであったが、本開示は、上記の実施形態のいずれかによる方法を用いて得られる装置に関するものでもある。

Claims (15)

  1. 第1集電体層を含む基材上に薄膜固体電池セルを製造する方法であって、
    該第1集電体層の上に第1電極層を堆積させる工程であって、該第1電極層は、孔壁を有する複数の孔を含むナノ多孔質複合層であり、該第1電極層は、誘電材料と電極活物質との混合物を含む工程;
    該第1電極層の上に多孔質誘電層を堆積させる工程;および、
    第2電極層を該多孔質誘電層上に直接堆積させる工程、を含み、
    該第2電極層を堆積する工程は、電気化学堆積プロセスによって多孔質Ni(OH)層を堆積させる工程を含むことを特徴とする、方法。
  2. 前記第1電極層を堆積させる工程の後に、前記第1電極層の前記孔壁を親水化する工程をさらに含む、請求項1に記載の薄膜固体電池セルを製造する方法。
  3. 前記第1電極層の前記孔壁を親水化する工程は、UV硬化工程を実施する工程を含む、請求項2に記載の薄膜固体電池セルを製造する方法。
  4. 前記第1電極層の前記孔壁を親水化する工程は、湿潤雰囲気中でアニーリング工程を実施する工程を含む、請求項2に記載の薄膜固体電池セルを製造する方法。
  5. 前記電気化学堆積プロセスは、電気析出プロセスである、請求項1〜4のいずれかに記載の薄膜固体電池セルを製造する方法。
  6. 前記電気化学堆積プロセスは、前記第1電極層を充電してそれによって該第1電極層を導電性にする工程を含む第1段階と、前記多孔質誘電層上でのNi(OH)材料の析出を含む第2段階とを含む、請求項1〜5のいずれかに記載の薄膜固体電池セルを製造する方法。
  7. 前記第2電極層の上に第2集電体層を堆積させる工程をさらに含む、請求項1〜6のいずれかに記載の薄膜固体電池セルを製造する方法。
  8. 薄膜固体電池セルであって、
    第1集電体層;
    該第1集電体層の上の第1電極層であって、該第1電極層は、孔壁を有する複数の孔を含むナノ多孔質複合層であり、該第1電極層は、誘電材料と電極活物質との混合物を含む第1電極層;
    該第1電極層の上の多孔質誘電層;および、
    該多孔質誘電層に直接付着した第2電極層;を含み、
    該第2電極層は薄膜多孔質Ni(OH)層であることを特徴とする、薄膜固体電池セル。
  9. 前記薄膜多孔質Ni(OH)層の厚みは、100nm〜10マイクロメートルの範囲内にある、請求項8に記載の薄膜固体電池セル。
  10. 前記薄膜多孔質Ni(OH)層は、40〜60%の範囲内の気孔率を有する、請求項8〜9のいずれかに記載の薄膜固体電池セル。
  11. 前記第1電極層は、20〜60%の範囲内の気孔率を有するシリカ−チタニアナノ多孔質層である、請求項8〜10のいずれかに記載の薄膜固体電池セル。
  12. 前記多孔質誘電層は、10〜90%の範囲内の気孔率を有する多孔質シリカ層である、請求項8〜11のいずれかに記載の薄膜固体電池セル。
  13. 前記第1電極層の誘電材料と電極活物質との前記混合物は、電極活物質粒子を中に分散させた誘電材マトリックスを含む、請求項8〜12のいずれかに記載の薄膜固体電池セル。
  14. 前記第1電極層の誘電材料と電極活物質との前記混合物は、誘電材料ナノ粒子と電極活物質ナノ粒子との混合物である、請求項8〜12のいずれかに記載の薄膜固体電池セル。
  15. 請求項8〜14のいずれかに記載の少なくとも1つの薄膜固体電池セルを含む、薄膜固体電池。
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