JP2017145185A - Sn−Zn−O系酸化物焼結体とその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
ZnおよびSnを主成分とするSn−Zn−O系酸化物焼結体において、
Snを、原子数比Sn/(Sn+Zn)として0.1以上0.9以下の割合で含有し、
Si、Ti、Ge、In、Bi、Ce、AlおよびGaから選ばれた少なくとも1種を第1添加元素Mとし、かつ、Nb、Ta、WおよびMoから選ばれた少なくとも1種を第2添加元素Xとした場合、
第1添加元素Mを、全金属元素の総量に対する原子数比M/(Sn+Zn+M+X)として0.0001以上0.04以下の割合で含有し、
第2添加元素Xを、全金属元素の総量に対する原子数比X/(Sn+Zn+M+X)として0.0001以上0.1以下の割合で含有すると共に、
相対密度が90%以上かつ比抵抗が1Ω・cm以下であることを特徴とする。
第1の発明に記載のSn−Zn−O系酸化物焼結体において、
CuKα線を使用したX線回折によるZnO相における(101)面のX線回折ピーク位置が36.25度〜36.31度、および、Zn2SnO4相における(311)面のX線回折ピーク位置が34.32度〜34.42度であることを特徴とし、
第3の発明は、
第1の発明に記載のSn−Zn−O系酸化物焼結体において、
CuKα線を使用したX線回折によるZn2SnO4相における(311)面のX線回折ピーク位置が34.32度〜34.42度、および、SnO2相における(101)面のX線回折ピーク位置が33.86度〜33.91度であることを特徴とするものである。
第1の発明〜第3の発明のいずれかに記載のSn−Zn−O系酸化物焼結体の製造方法において、
ZnO粉末とSnO2粉末、Si、Ti、Ge、In、Bi、Ce、AlおよびGaから選ばれた少なくとも1種の第1添加元素Mを含有する酸化物粉末、Nb、Ta、WおよびMoから選ばれた少なくとも1種の第2添加元素Xを含有する酸化物粉末を、純水、有機バインダー、分散剤と混合して得られるスラリーを乾燥しかつ造粒して造粒粉末を製造する造粒粉末製造工程と、
上記造粒粉末を加圧成形して成形体を得る成形体製造工程と、
焼成炉内の酸素濃度が70体積%以上の雰囲気において、1200℃以上1450℃以下かつ10時間以上30時間以内の条件で上記成形体を焼成して焼結体を得る焼結体製造工程、
を具備することを特徴とするものである。
Snを原子数比Sn/(Sn+Zn)として0.1以上0.9以下の割合で含有する条件の下、第1添加元素Mおよび第2添加元素Xを要件としているのは、第1添加元素Mだけの場合、密度は向上するものの低抵抗の特性を得られない。他方、第2添加元素Xだけの場合は、低抵抗になるものの高密度が得られない。
酸化物焼結体の緻密化には、Si、Ti、Ge、In、Bi、Ce、AlおよびGaから選ばれた少なくとも1種の第1添加元素Mを添加することで、高密度化の効果を得ることが可能となる。上記第1添加元素Mが、粒界拡散を促進し、粒同士のネック成長を手助けして、粒同士の結合を強固とし、緻密化に寄与していると思われる。ここで、第1添加元素をMとし、第1添加元素Mの全金属元素の総量に対する原子数比M/(Sn+Zn+M+X)を0.0001以上0.04以下としているのは、上記原子数比M/(Sn+Zn+M+X)が0.0001未満の場合、高密度化の効果が表れないからである(比較例9参照)。一方、上記原子数比M/(Sn+Zn+M+X)が0.04を超えた場合、後述する第2添加元素Xを添加しても酸化物焼結体の導電性は高まらない(比較例10参照)。更に、別の化合物、例えば、SiO2、TiO2、Al2O3、ZnAl2O4、ZnSiO4、Zn2Ge3O8、ZnTa2O6、Ti0.5Sn0.5O2等の化合物を生成する等、成膜した際に所望とする膜特性が得られなくなる。
Snを原子数比Sn/(Sn+Zn)として0.1以上0.9以下の割合で含有する条件の下、上記第1添加元素Mを加えたSn−Zn−O系酸化物焼結体は上述したように密度は向上するものの導電性に課題が残る。
本発明に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体において、原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.1以上0.33以下では、上述したようにウルツ鉱型結晶構造のZnO相とスピネル型結晶構造のZn2SnO4相が主成分となり、原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.33を超え0.9以下ではスピネル型結晶構造のZn2SnO4相とルチル型結晶構造のSnO2相が主成分となる。また、適正な量の第1添加元素Mと第2添加元素Xは、ZnO相中のZn、Zn2SnO4相中のZnまたはSn、SnO2相中のSnと置換して固溶するので、ウルツ鉱型結晶構造のZnO相、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相、および、ルチル型結晶構造のSnO2相以外の別な化合物相は形成されない。
(炉内雰囲気)
焼結炉内における酸素濃度が70体積%以上の雰囲気中において、成形体を焼成することが好ましい。これは、ZnO、SnO2やZn2SnO4化合物の拡散を促進させ、焼結性を向上させると共に導電性を向上させる効果があるためである。高温域では、ZnOやZn2SnO4の揮発を抑制する効果もある。
1200℃以上1450℃以下とすることが好ましい。焼結温度が1200℃未満の場合(比較例4参照)、温度が低過ぎて、ZnO、SnO2、Zn2SnO4化合物における焼結の粒界拡散が進まない。一方、1450℃を超えた場合(比較例5参照)、粒界拡散が促進されて焼結は進むが、たとえ、酸素濃度が70体積%以上の炉内で焼成しても、Zn成分の揮発を抑制することができず、焼結体内部に空孔を大きく残してしまうことになる。
10時間以上30時間以内とすることが好ましい。10時間を下回ると、焼結が不完全なため、歪や反りの大きい焼結体になると共に、粒界拡散が進まず、焼結が進まない。この結果、緻密な焼結体を作製することができない(比較例6参照)。一方、30時間を上回る場合、特に時間の効果が得られないため、作業効率の悪化やコスト高の結果を招く。
平均粒径10μm以下のSnO2粉と、平均粒径10μm以下のZnO粉と、第1添加元素Mとして平均粒径20μm以下のBi2O3粉、および、第2添加元素Xとして平均粒径20μm以下のTa2O5粉を用意した。
SnとZnの原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.1となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例2に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、ウルツ鉱型ZnO相およびスピネル型結晶構造のZn2SnO4相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。ZnO(101)面の回折ピーク位置は36.28度、Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.34度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は93.0%であり、比抵抗値は0.57Ω・cmであった。この結果を表1に示す。
SnとZnの原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.3となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例3に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、ウルツ鉱型ZnO相およびスピネル型結晶構造のZn2SnO4相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。ZnO(101)面の回折ピーク位置は36.26度、Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.41度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は94.2%であり、比抵抗値は0.042Ω・cmであった。この結果を表1に示す。
SnとZnの原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.7となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例4に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相およびルチル型結晶構造のSnO2相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.36度で、SnO2(101)面の回折ピーク位置は33.87度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は99.7%であり、比抵抗値は0.006Ω・cmであった。この結果を表1に示す。
SnとZnの原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.9となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例5に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相およびルチル型結晶構造のSnO2相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.40度で、SnO2(101)面の回折ピーク位置は33.90度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は92.7%であり、比抵抗値は0.89Ω・cmであった。この結果を表1に示す。
第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.0001の割合となるように調合したこと以外は、実施例1と同様にして、実施例6に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相およびルチル型結晶構造のSnO2相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.33度で、SnO2(101)面の回折ピーク位置は33.87度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は98.5%であり、比抵抗値は0.085Ω・cmであった。結果を表1に示す。
酸素濃度を100体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例7に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相およびルチル型結晶構造のSnO2相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.42度で、SnO2(101)面の回折ピーク位置は33.90度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は99.6%であり、比抵抗値は0.013Ω・cmであった。結果を表1に示す。
第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.1となるよう調合し、保持時間を10時間、酸素濃度を70体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例8に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相およびルチル型結晶構造のSnO2相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.37度で、SnO2(101)面の回折ピーク位置は33.87度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は94.6%であり、比抵抗値は0.023Ω・cmであった。結果を表1に示す。
第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.0001となるよう調合し、焼結温度を1450℃としたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例9に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相およびルチル型結晶構造のSnO2相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.35度で、SnO2(101)面の回折ピーク位置は33.91度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は97.3%であり、比抵抗値は0.08Ω・cmであった。結果を表1に示す。
第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.04となるよう調合し、焼結温度を1200℃としたこと以外は、実施例1と同様にして、実施例10に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。実施例1と同様、粉末のX線回折分析をしたところ、スピネル型結晶構造のZn2SnO4相およびルチル型結晶構造のSnO2相の回折ピークのみが測定され、その他の別な化合物相の回折ピークは測定されなかった。Zn2SnO4(311)面の回折ピーク位置は34.36度で、SnO2(101)面の回折ピーク位置は33.88度であり、適正な回折ピーク位置であることが確認された。また、相対密度は96.4%であり、比抵抗値は0.11Ω・cmであった。結果を表1に示す。
第1添加元素Mとして、SiO2粉(実施例11)、TiO2粉(実施例12)、GeO2粉(実施例13)、In2O3粉(実施例14)、CeO2粉(実施例15)、Al2O3粉(実施例16)、Ga2O3粉(実施例17)を用い、第1添加元素Mの原子数比M/(Sn+Zn+M+Ta)を0.04とし、第2添加元素Xとして実施例1と同じTa2O5粉を用い、第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+M+Ta)を0.1となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例11〜17に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mとして、SiO2粉(実施例18)、TiO2粉(実施例19)、GeO2粉(実施例20)、In2O3粉(実施例21)、CeO2粉(実施例22)、Al2O3粉(実施例23)、Ga2O3粉(実施例24)を用い、第1添加元素Mの原子数比M/(Sn+Zn+M+Ta)を0.0001とし、第2添加元素Xとして実施例1と同じTa2O5粉を用い、第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+M+Ta)を0.1となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例18〜24に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mとして、SiO2粉(実施例25)、TiO2粉(実施例26)、GeO2粉(実施例27)、In2O3粉(実施例28)、CeO2粉(実施例29)、Al2O3粉(実施例30)、Ga2O3粉(実施例31)を用い、第1添加元素Mの原子数比M/(Sn+Zn+M+Ta)を0.04とし、第2添加元素Xとして実施例1と同じTa2O5粉を用い、第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+M+Ta)を0.0001となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例25〜31に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mとして、SiO2粉(実施例32)、TiO2粉(実施例33)、GeO2粉(実施例34)、In2O3粉(実施例35)、CeO2粉(実施例36)、Al2O3粉(実施例37)、Ga2O3粉(実施例38)を用い、第1添加元素Mの原子数比M/(Sn+Zn+M+Ta)を0.0001とし、第2添加元素Xとして実施例1と同じTa2O5粉を用い、第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+M+Ta)を0.0001となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例32〜38に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mとして実施例1と同じBi2O3粉を用い、第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+X)を0.04とし、第2添加元素Xとして、Nb2O5粉(実施例39)、WO3粉(実施例40)、MoO3粉(実施例41)を用い、第2添加元素Xの原子数比X/(Sn+Zn+Bi+X)を0.1となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例39〜41に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mとして実施例1と同じBi2O3粉を用い、第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+X)を0.0001とし、第2添加元素Xとして、Nb2O5粉(実施例42)、WO3粉(実施例43)、MoO3粉(実施例44)を用い、第2添加元素Xの原子数比X/(Sn+Zn+Bi+X)を0.1となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例42〜44に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mとして実施例1と同じBi2O3粉を用い、第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+X)を0.04とし、第2添加元素Xとして、Nb2O5粉(実施例45)、WO3粉(実施例46)、MoO3粉(実施例47)を用い、第2添加元素Xの原子数比X/(Sn+Zn+Bi+X)を0.0001となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例45〜47に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mとして実施例1と同じBi2O3粉を用い、第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+X)を0.0001とし、第2添加元素Xとして、Nb2O5粉(実施例48)、WO3粉(実施例49)、MoO3粉(実施例50)を用い、第2添加元素Xの原子数比X/(Sn+Zn+Bi+X)を0.0001となる割合で調合したこと以外は実施例1と同様にして、実施例48〜50に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
SnとZnの原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.05となる割合で調合したこと以外は実施例1同様にして比較例1に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
SnとZnの原子数比Sn/(Sn+Zn)が0.95となる割合で調合したこと以外は実施例1同様にして比較例2に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
1400℃での焼結時に、炉内酸素濃度を68体積%としたこと以外は、実施例1と同様にして比較例3に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
焼結温度を1170℃としたこと以外は、実施例1と同様にして比較例4に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
焼結温度を1500℃としたこと以外は、実施例1と同様にして比較例5に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
1400℃での焼結の保持時間を8時間としたこと以外は、実施例1と同様にして比較例6に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.00009となる割合で調合したこと以外は、実施例1と同様にして比較例7に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第2添加元素Xの原子数比Ta/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.15となる割合で調合したこと以外は、実施例1と同様にして比較例8に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.00009となる割合で調合したこと以外は、実施例1と同様にして比較例9に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
第1添加元素Mの原子数比Bi/(Sn+Zn+Bi+Ta)を0.05となる割合で調合したこと以外は、実施例1と同様にして比較例10に係るSn−Zn−O系酸化物焼結体を得た。
Claims (4)
- ZnおよびSnを主成分とするSn−Zn−O系酸化物焼結体において、
Snを、原子数比Sn/(Sn+Zn)として0.1以上0.9以下の割合で含有し、
Si、Ti、Ge、In、Bi、Ce、AlおよびGaから選ばれた少なくとも1種を第1添加元素Mとし、かつ、Nb、Ta、WおよびMoから選ばれた少なくとも1種を第2添加元素Xとした場合、
第1添加元素Mを、全金属元素の総量に対する原子数比M/(Sn+Zn+M+X)として0.0001以上0.04以下の割合で含有し、
第2添加元素Xを、全金属元素の総量に対する原子数比X/(Sn+Zn+M+X)として0.0001以上0.1以下の割合で含有すると共に、
相対密度が90%以上かつ比抵抗が1Ω・cm以下であることを特徴とするSn−Zn−O系酸化物焼結体。 - CuKα線を使用したX線回折によるZnO相における(101)面のX線回折ピーク位置が36.25度〜36.31度、および、Zn2SnO4相における(311)面のX線回折ピーク位置が34.32度〜34.42度であることを特徴とする請求項1に記載のSn−Zn−O系酸化物焼結体。
- CuKα線を使用したX線回折によるZn2SnO4相における(311)面のX線回折ピーク位置が34.32度〜34.42度、および、SnO2相における(101)面のX線回折ピーク位置が33.86度〜33.91度であることを特徴とする請求項1に記載のSn−Zn−O系酸化物焼結体。
- 請求項1〜3のいずれかに記載のSn−Zn−O系酸化物焼結体の製造方法において、
ZnO粉末とSnO2粉末、Si、Ti、Ge、In、Bi、Ce、AlおよびGaから選ばれた少なくとも1種の第1添加元素Mを含有する酸化物粉末、Nb、Ta、WおよびMoから選ばれた少なくとも1種の第2添加元素Xを含有する酸化物粉末を、純水、有機バインダー、分散剤と混合して得られるスラリーを乾燥しかつ造粒して造粒粉末を製造する造粒粉末製造工程と、
上記造粒粉末を加圧成形して成形体を得る成形体製造工程と、
焼成炉内の酸素濃度が70体積%以上の雰囲気において、1200℃以上1450℃以下かつ10時間以上30時間以内の条件で上記成形体を焼成して焼結体を得る焼結体製造工程、
を具備することを特徴とするSn−Zn−O系酸化物焼結体の製造方法。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019052373A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット |
JP2019073747A (ja) * | 2017-10-12 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 非晶質の透明酸化物膜、Sn−Zn−O系酸化物焼結体、非晶質の透明酸化物膜の製造方法、及びSn−Zn−O系酸化物焼結体の製造方法 |
WO2019150821A1 (ja) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物スパッタ膜、酸化物スパッタ膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板 |
JP2019163494A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物膜、透明酸化物膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板 |
JP2019163493A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、及び透明樹脂基板 |
WO2019202819A1 (ja) * | 2018-04-16 | 2019-10-24 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、スパッタリングターゲット及び透明樹脂基板 |
WO2019202909A1 (ja) * | 2018-04-19 | 2019-10-24 | 住友金属鉱山株式会社 | Sn-Zn-O系酸化物焼結体とその製造方法 |
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Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2018199861A (ja) * | 2017-05-25 | 2018-12-20 | 日立金属株式会社 | 酸化物ターゲット材およびその製造方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007277075A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-10-25 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いた透明導電膜の製造方法、及び得られる透明導電膜 |
JP2012066968A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Kobelco Kaken:Kk | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
WO2014168224A1 (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-16 | 日立金属株式会社 | 酸化物半導体ターゲット、酸化物半導体膜及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタ |
JP2015038027A (ja) * | 2008-11-20 | 2015-02-26 | 出光興産株式会社 | ZnO−SnO2−In2O3系酸化物焼結体及び非晶質透明導電膜 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5024226B2 (ja) | 2008-08-06 | 2012-09-12 | 日立金属株式会社 | 酸化物焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、半導体薄膜 |
JP2012180248A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Kobelco Kaken:Kk | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
JP2012180247A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Kobelco Kaken:Kk | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
JP5686067B2 (ja) * | 2011-08-05 | 2015-03-18 | 住友金属鉱山株式会社 | Zn−Sn−O系酸化物焼結体とその製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007277075A (ja) * | 2006-03-15 | 2007-10-25 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 酸化物焼結体、その製造方法、それを用いた透明導電膜の製造方法、及び得られる透明導電膜 |
JP2015038027A (ja) * | 2008-11-20 | 2015-02-26 | 出光興産株式会社 | ZnO−SnO2−In2O3系酸化物焼結体及び非晶質透明導電膜 |
JP2012066968A (ja) * | 2010-09-24 | 2012-04-05 | Kobelco Kaken:Kk | 酸化物焼結体およびスパッタリングターゲット |
WO2014168224A1 (ja) * | 2013-04-12 | 2014-10-16 | 日立金属株式会社 | 酸化物半導体ターゲット、酸化物半導体膜及びその製造方法、並びに薄膜トランジスタ |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019052373A (ja) * | 2017-09-14 | 2019-04-04 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット |
JP2019073747A (ja) * | 2017-10-12 | 2019-05-16 | 住友金属鉱山株式会社 | 非晶質の透明酸化物膜、Sn−Zn−O系酸化物焼結体、非晶質の透明酸化物膜の製造方法、及びSn−Zn−O系酸化物焼結体の製造方法 |
WO2019150821A1 (ja) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物スパッタ膜、酸化物スパッタ膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板 |
JP2019131866A (ja) * | 2018-01-31 | 2019-08-08 | 住友金属鉱山株式会社 | 酸化物スパッタ膜、酸化物スパッタ膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板 |
WO2019181190A1 (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、及び透明樹脂基板 |
JP2019163493A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、及び透明樹脂基板 |
JP2019163494A (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物膜、透明酸化物膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板 |
WO2019181191A1 (ja) * | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物膜、透明酸化物膜の製造方法、酸化物焼結体及び透明樹脂基板 |
CN111868293A (zh) * | 2018-03-19 | 2020-10-30 | 住友金属矿山株式会社 | 透明氧化物层叠膜、透明氧化物层叠膜的制造方法和透明树脂基板 |
WO2019202819A1 (ja) * | 2018-04-16 | 2019-10-24 | 住友金属鉱山株式会社 | 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、スパッタリングターゲット及び透明樹脂基板 |
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