JP2017134225A - 光導波路 - Google Patents

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Abstract

【課題】光結合系のサイズを縮小し、アクティブ調芯工程の削減が可能な光導波路を提供する。
【解決手段】光導波路は、クラッド層202と、クラッド層の内部に延びるコア層203とを備える光導波路であって、光の入出射側端面に、コア層の光の導波方向と垂直方向の断面中心と一致する中心を有する開口部が円形のくぼみが形成される、光導波路200と、円形のくぼみに係合するように取り付けられたレンズ構造体211とを備え、くぼみの深さは、レンズ構造体からの光がコア層の入射側端面へ臨界角以下で入射するようにコア層の入射端面を配置するように設定される。
【選択図】図2

Description

本発明は、光導波路に関し、より詳細には、半導体レーザ素子からの出射光を集光する屈折レンズが一体となったレンズ付きの光導波路に関する。
近年、サイズを縮小した光デバイスの高速伝送化及び低価格化等が停滞してきている。そのため、更なる超高速伝送を実現する切り札として、電気的な信号線路の多チャネル化、多層光配線技術、フォトニック結晶やシリコンフォトニクスに代表される微細な光導波路作製技術の導入が活発に進められている。
図1は、半導体レーザ素子からの出射光が伝搬する光導波路と、半導体レーザ素子からの出射光の集光用の屈折レンズとを含む空間光学系の例を示す図であり、図1(a)は空間光学系の斜視透視図であり、図1(b)は空間光学系の側面透視図を示す。空間光学系100は、半導体レーザ素子110と、半導体レーザ素子110からの光を集光する屈折レンズ120と、半導体レーザ素子110からの出射光が伝搬する光導波路130とを備える。光導波路130は、コア層131と、コア層131を囲むクラッド層132とを備える。ここで、半導体レーザ素子110からの出射光は、空間を伝搬する過程でビームが拡散するため、ビームが拡散した状態で光導波路110のコア層131に入射すると光結合率は低下する。従って、半導体レーザ素子110と光導波路130の間に屈折レンズ120を配置し、半導体レーザ素子110からの出射光を集光し、ビーム径をコア層131のコア径に整合させた上で、光導波路130のコア層131入射側端面に結合させる(特許文献1参照)。
特許第3819143号公報
空間光学系100は、半導体レーザ素子110と光導波路130との間の光結合を、屈折レンズ120を介して行う構成である。このような空間光学系100の構成は、半導体レーザ素子110と光導波路130との間の高い光結合率を得るために、光軸をアクティブ調整する必要があり、工程に時間を要すると共に、光モジュールのサイズ縮小が制限される。
本発明は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、光結合系のサイズを縮小し、アクティブ調芯工程の削減が可能な光導波路を提供することを目的とする。
このような目的を達成するために、本発明の第1の態様は、クラッド層と、前記クラッド層の内部に延びるコア層とを備える光導波路であって、光の入出射側端面に、前記コア層の光の導波方向と垂直方向の断面中心と一致する中心を有する開口部が円形のくぼみが形成される、光導波路と、前記くぼみに係合するように取り付けられたレンズ構造体とを備え、前記くぼみの深さは、前記レンズ構造体からの光がコア層の入射側端面へ臨界角以下で入射するように前記コア層の入出射側端面を配置するように設定されることを特徴とする。
本発明の第2の態様は、第1の態様の光導波路であって、前記レンズ構造体と、前記くぼみとの空隙に屈折率整合材が注入されていることを特徴とする。
本発明の第3の態様は、第1または第2の態様の光導波路であって、前記レンズ構造体は、球形レンズであることを特徴とする。
本発明の第3の態様は、第1または第2の態様の光導波路であって、前記レンズ構造体は、凸レンズであることを特徴とする。
以上説明したように、本発明によれば、光結合系のサイズが縮小されると共に、半導体光素子と光導波路との光結合率及び結合トレランスが、レンズを用いない直接結合と比較して改善される。また、マイクロレンズが光導波路と係合し一体化しているためアクティブ調芯工程の削減が可能となる。
半導体レーザ素子からの出射光の集光用の屈折レンズとを含む空間光学系の例を示す図であり、(a)は空間光学系の斜視透視図であり、(b)は空間光学系の側面透視図を示す。 本発明の一実施形態にかかる光導波路を示す斜視透視図である。 図2の光導波路と半導体レーザ素子との位置関係を示す図である。 図2のマイクロレンズを光導波路の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、(a)は各工程における光導波路の斜視透視図を示し、(b)は(a)のA−A´における断面図を示す。 図2のマイクロレンズを光導波路の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、(a)は各工程における光導波路の斜視透視図を示し、(b)は(a)のA−A´における断面図を示す。 図2のマイクロレンズを光導波路の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、(a)は各工程における光導波路の斜視透視図を示し、(b)は(a)のA−A´における断面図を示す。 図2のマイクロレンズを光導波路の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、(a)は各工程における光導波路の斜視透視図を示し、(b)は(a)のA−A´における断面図を示す。 図2のマイクロレンズを光導波路の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、(a)は各工程における光導波路の斜視透視図を示し、(b)は(a)のA−A´における断面図を示す。 図2のマイクロレンズを光導波路の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、(a)は各工程における光導波路の斜視透視図を示し、(b)は(a)のA−A´における断面図を示す。 図2のマイクロレンズを光導波路の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、(a)は各工程における光導波路の斜視透視図を示し、(b)は(a)のA−A´における断面図を示す。
以下、図面を参照しながら本発明の実施形態について詳細に説明する。
図2は、本発明の一実施形態にかかる光導波路を示す斜視透視図である。図2の光導波路200は、下部クラッド層201と、下部クラッド層201上に形成された上部クラッド層202と、上部クラッド層202内のコア層203とを備える。また、光導波路200は、半導体レーザ素子からの光を集光するレンズ構造体であるマイクロレンズ211と、マイクロレンズ211を支持する支持層212と、マイクロレンズ211を固定するマイクロレンズホルダ213とを備える。
コア層203は、上部クラッド層202内を水平方向に貫通するように形成されている。光導波路200の入射側端面、すなわちコア層203及び上部クラッド層202の端面は、コア層203の端面及び上部クラッド層202の端面のコア層203周辺が、上部クラッド層202の入射側端面から1段くぼんでいる。くぼみはマイクロレンズ係合部を形成し、マイクロレンズ211が浅く嵌まるように係合する。マイクロレンズ係合部の開口部は円形であり、深さはマイクロレンズ211を透過した光がコア層203内を伝搬できるように、コア層203の入射側端面への光の入射角が臨界角以下になるような位置に調整される。本実施形態において、マイクロレンズ211は、球形レンズを用いているが、少なくとも一部に球面を有するレンズであれば、球形以外のレンズ(例えば凸レンズ)でも良い。マイクロレンズホルダ213には、マイクロレンズ211が収納される円筒状の中空部が形成される。下部クラッド層201、上部クラッド層202及びコア層203の材料は石英ガラスである。また、コア層203はさらに屈折率を増大させる添加物が含まれている。
図3は、図2の光導波路200と半導体レーザ素子との位置関係を示す図である。マイクロレンズ211は、半導体レーザ素子301の出射側端面とコア層203との間に配置され、マイクロレンズ211の中心が、コア層203の光の導波方向の中心線及び半導体レーザ素子301の光軸上に配置される。
ここで、半導体レーザ素子301の出射光の広がり角をθ、マイクロレンズ211の中心と半導体レーザ素子301の出射面との距離をL、マイクロレンズ211の直径をD、焦点距離をFとする。本実施形態において、光導波路の構造寸法を、下部クラッド層厚300μm、上部クラッド層厚100μm、コア層厚1μm、コア層幅2μm、マイクロレンズ係合部の深さ75μmとすると、θ=40degC、D=300μm、F=225μmとすれば、半導体レーザ素子301の出射光を、光導波路200のコア層203の入射側端面に結合できる。
図4〜図10は、図2のマイクロレンズ211を光導波路200の入射側端面に係合させる工程を示す図であり、図4(a)〜図10(a)は各工程における光導波路200の斜視透視図を示し、図4(b)〜図10(b)は図4(a)〜図10(a)のA−A´における断面図を示す。
図4(a)及び(b)は、マイクロレンズ211を係合させる前の光導波路200の形態である。まず、下部クラッド層201、上部クラッド層202、コア層203及び支持層212から構成される光導波路の入射側端面に、レジスト膜401を形成する(図5(a)及び(b))。
次に、露光工程によりレジスト膜401にレジストパタン402を形成する(図6(a)及び(b))。レジストパタン402は、形状を円形とし、レジストパタン402の中心とコア層203の光の導波方向断面中心が一致するように形成される。
酸・アルカリ等の化学溶液により、ウェットエッチ工程を行い、レジストパタン402の部分にマイクロレンズ係合部403を形成する(図7(a)及び(b))。マイクロレンズ係合部403の深さは、ウェットエッチ工程における化学溶液と、下部クラッド層201、上部クラッド層202、コア層203及び支持層212から構成される光導波路の端面との反応時間によって制御される。
マイクロレンズ211とマイクロレンズ係合部403との空隙を埋めるように、マイクロレンズ係合部403内に屈折率整合材404を注入し、マイクロレンズ211を、下部クラッド層201、上部クラッド層202、コア層203及び支持層212から構成される光導波路の端面に接合する(図8(a)及び(b))。
下部クラッド層201、上部クラッド層202、コア層203及び支持層212から構成される光導波路の端面に、マイクロレンズホルダ212を接合する。この際、マイクロレンズホルダ213のホルダー内部に形成された中空部に、マイクロレンズホルダ212が収納されるように配置する。固定する際は、マイクロレンズ211とホルダー内部に形成された中空部内の隙間に、接着剤405を注入して固定する(図9(a)及び(b))。
最後に、半導体レーザ素子301を適切な位置に配置する(図10(a)及び(b))。
なお、本実施形態において、マイクロレンズ211を設置するのは光導波路200の入射側端面としているが、光導波路200の出射側端面にマイクロレンズ211を設置しても良い。
100 空間光学系
110、301 半導体レーザ素子
120 屈折レンズ
130、200 光導波路
201 下部クラッド層
202 上部クラッド層
203 コア層
211 マイクロレンズ
212 支持層
213 マイクロレンズホルダ
401 レジスト膜
402 レジストパタン
403 マイクロレンズ係合部
404 屈折率整合材
405 接着剤

Claims (4)

  1. クラッド層と、前記クラッド層の内部に延びるコア層とを備える光導波路であって、光の入出射側端面に、前記コア層の光の導波方向と垂直方向の断面中心と一致する中心を有する開口部が円形のくぼみが形成される、光導波路と、
    前記くぼみに係合するように取り付けられたレンズ構造体とを備え、
    前記くぼみの深さは、前記レンズ構造体からの光がコア層の入射側端面へ臨界角以下で入射するように前記コア層の入出射側端面を配置するように設定されることを特徴とする光導波路。
  2. 前記レンズ構造体と、前記くぼみとの空隙に屈折率整合材が注入されていることを特徴とする請求項1に記載の光導波路。
  3. 前記レンズ構造体は、球形レンズであることを特徴とする請求項1または2に記載の光導波路。
  4. 前記レンズ構造体は、凸レンズであることを特徴とする請求項1または2に記載の光導波路。
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