JP2017126062A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017126062A5
JP2017126062A5 JP2016242654A JP2016242654A JP2017126062A5 JP 2017126062 A5 JP2017126062 A5 JP 2017126062A5 JP 2016242654 A JP2016242654 A JP 2016242654A JP 2016242654 A JP2016242654 A JP 2016242654A JP 2017126062 A5 JP2017126062 A5 JP 2017126062A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mirror element
mirror
element according
laminate
curvature
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016242654A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2017126062A (ja
JP6875846B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102015225510.7A external-priority patent/DE102015225510A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2017126062A publication Critical patent/JP2017126062A/ja
Publication of JP2017126062A5 publication Critical patent/JP2017126062A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6875846B2 publication Critical patent/JP6875846B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2016242654A 2015-12-16 2016-12-14 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー素子 Active JP6875846B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102015225510.7A DE102015225510A1 (de) 2015-12-16 2015-12-16 Spiegelelement, insbesondere für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage
DE102015225510.7 2015-12-16

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017126062A JP2017126062A (ja) 2017-07-20
JP2017126062A5 true JP2017126062A5 (https=) 2020-01-30
JP6875846B2 JP6875846B2 (ja) 2021-05-26

Family

ID=57584057

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016242654A Active JP6875846B2 (ja) 2015-12-16 2016-12-14 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー素子

Country Status (3)

Country Link
US (2) US20170176741A1 (https=)
JP (1) JP6875846B2 (https=)
DE (1) DE102015225510A1 (https=)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20200201027A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 Didi Research America, Llc Micromachined mirror assembly having multiple coating layers
DE102021200131A1 (de) * 2021-01-11 2022-07-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe mit einem Entkopplungsgelenk zur mechanischen Lagerung eines Elements
DE102023205340A1 (de) 2023-06-07 2024-12-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements, sowie optisches Element und Beschichtungsanlage
DE102023210486A1 (de) 2023-10-24 2025-04-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element und EUV-Lithographiesystem
DE102024210151A1 (de) 2024-10-21 2026-04-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Mikrospiegelelement und mikro-elektro-mechanisches System mit Mikrospiegelelement

Family Cites Families (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10314212B4 (de) 2002-03-29 2010-06-02 Hoya Corp. Verfahren zur Herstellung eines Maskenrohlings, Verfahren zur Herstellung einer Transfermaske
US6994444B2 (en) 2002-06-14 2006-02-07 Asml Holding N.V. Method and apparatus for managing actinic intensity transients in a lithography mirror
US6778315B2 (en) * 2002-09-25 2004-08-17 Rosemount Aerospace Inc. Micro mirror structure with flat reflective coating
US7714983B2 (en) 2003-09-12 2010-05-11 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for a microlithography projection exposure installation
JP2007108194A (ja) * 2005-10-11 2007-04-26 Canon Inc 多層膜ミラーの製造方法、光学系の製造方法、露光装置、及びデバイス製造方法
WO2007055401A1 (en) 2005-11-10 2007-05-18 Asahi Glass Company, Limited Method for depositing reflective multilayer film of reflective mask blank for euv lithography and method for producing reflective mask blank for euv lithography
US7261430B1 (en) * 2006-02-22 2007-08-28 Teledyne Licensing, Llc Thermal and intrinsic stress compensated micromirror apparatus and method
DE102006057568A1 (de) * 2006-11-28 2008-05-29 Micronic Laser Systems Ab Mikrooptisches Element mit einem Substrat und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102006057567B4 (de) 2006-11-28 2008-09-04 Micronic Laser Systems Ab Mikrooptisches Element mit einem Substrat, an dem an einer optisch wirksamen Oberfläche mindestens eine Höhenstufe ausgebildet ist, Verfahren zu seiner Herstellung und Verwendungen
EP2243047B1 (en) 2008-02-15 2021-03-31 Carl Zeiss SMT GmbH Facet mirror for use in a projection exposure apparatus for microlithography
DE102008009600A1 (de) 2008-02-15 2009-08-20 Carl Zeiss Smt Ag Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
DE102008042212A1 (de) 2008-09-19 2010-04-01 Carl Zeiss Smt Ag Reflektives optisches Element und Verfahren zu seiner Herstellung
JP5549222B2 (ja) * 2009-12-28 2014-07-16 株式会社ニコン 空間光変調器、露光装置およびそれらの製造方法
DE102010028488A1 (de) 2010-05-03 2011-11-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Substrate für Spiegel für die EUV-Lithographie und deren Herstellung
DE102010017106A1 (de) * 2010-05-27 2011-12-01 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Spiegel mit dielektrischer Beschichtung
DE102011003357A1 (de) 2011-01-31 2012-08-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel für den EUV-Wellenlängenbereich, Herstellungsverfahren für einen solchen Spiegel, Projektionsobjektiv für die Mikrolithographie mit einem solchen Spiegel und Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem solchen Projektionsobjektiv
DE102014201622A1 (de) 2014-01-30 2015-08-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines Spiegelelements
DE102015200328A1 (de) 2015-01-13 2016-07-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Herstellen eines optischen Elements für ein optisches System, insbesondere für einemikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017126062A5 (https=)
JP6483626B2 (ja) 特にマイクロリソグラフィー投影露光装置内のミラーの熱作動用装置
TWI555713B (zh) 可熱處理的四層抗反射塗層
TWI626478B (zh) Ｅｕｖ投影曝光裝置及其操作方法與反射鏡安排
JP2012504324A5 (https=)
ATE538491T1 (de) Mehrschichtiger filmreflexionsspiegel, herstellungsverfahren für einen mehrschichtigen filmreflexionsspiegel und belichtungssystem
TW201022168A (en) Method for manufacturing glass substrate with thin film
MY135577A (en) System and method for providing thermal compensation for an interferometric modulator display
EP1881046A3 (en) Heat-resistant dicing tape or sheet
WO2008099728A1 (ja) 光学包装体およびその製造方法、照明装置、ならびに表示装置
JP2017507358A5 (https=)
JP2017506363A5 (https=)
JP2006518883A5 (https=)
JP2017026701A5 (https=)
WO2012101080A3 (en) Optical arrangement for an euv projection exposure apparatus and method for cooling an optical component
JP2017040909A5 (ja) 光学フィルタおよびそれを有する光学系、撮像装置
EP1947682A4 (en) MULTILAYER REFLECTIVE MIRROR, METHOD FOR PRODUCING A MULTILAYER REFLECTIVE MIRROR, OPTICAL SYSTEM, EXPOSURE DEVICE AND COMPONENT MANUFACTURING METHOD
TWI564611B (zh) 於微影投影曝光設備中熱致動鏡之元件配置及其致動方法
JP6875846B2 (ja) 特にマイクロリソグラフィ投影露光装置用のミラー素子
JP2014038287A (ja) 光学素子及びそれを用いた投影型映像表示装置
CN115605788A (zh) 保持偏振层压板在成形过程中的面内功能
JP7016661B2 (ja) 露光装置および物品の製造方法
KR101253408B1 (ko) 다층 코팅을 생성하는 방법, 광학 요소 및 광학 배열 장치
CN102495468B (zh) 减小极紫外光刻投影系统变形的投影物镜结构优化方法
JP2016531319A5 (https=)