JP2017124430A - レーザ照射装置及び燃焼抑制方法 - Google Patents

レーザ照射装置及び燃焼抑制方法 Download PDF

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【課題】塗膜や表面被覆材の燃焼を抑制することができ、ケレン処理の作業効率の向上を図ることができる、レーザ照射装置及び燃焼抑制方法を提供する。【解決手段】本実施形態に係るレーザ照射装置1は、レーザ光Lを照射してケレン処理を行う装置であって、レーザ光Lを照射する処理空間Sを形成するレーザ照射ヘッド2と、レーザ照射ヘッド2の内部に不活性ガスGを供給するガス供給部3と、レーザ照射ヘッド2の内部のガス及び塵埃を外部に排出する排出部4と、を備えている。【選択図】図1

Description

本発明は、レーザ照射装置及び燃焼抑制方法に関し、特に、ケレン処理に適したレーザ照射装置及び燃焼抑制方法に関する。
例えば、橋梁等の鋼構造物の接合部には、締結具としてボルト・ナットを使用することが多い。かかるボルト・ナットは、一般に、風雨に晒されることから、表面に防錆等の塗装が施されることが多い。また、長期間の使用により、塗膜が劣化したり、表面に酸化物や汚れが付着したりすることから、定期的に洗浄や塗装の塗り替え等のメンテナンスが必要となる。なお、塗装を塗り替える際には、ケレン処理で古い塗膜や付着物を剥離又は除去してから新しい塗装を施すのが一般的である。
ところで、ボルトヘッドやナットは、鋼構造物の表面から突出した形状を有する突起物であり、その表面の塗膜を剥離する作業はそれ自体が面倒である。加えて、ボルトヘッドやナットと鋼構造物の表面とにより形成される角隅部に入り込んだ塗膜の剥離は特に困難である。
かかるケレン処理には、一般に、電動工具を用いた手作業のほか、鉄粒や砂粒等の投射体を構造物の表面に吹き付けるショットブラスト等が用いられる。しかしながら、電動工具を用いた手作業では作業時間が長くなりやすく、ショットブラストを用いた方法では大量の廃棄物や騒音を生じるという問題がある。そこで、近年ではレーザ光を用いた方法が検討されている(例えば、特許文献1参照)。特許文献1に記載された発明では、ボルトヘッドが突出した構造物表面に先端内周面にミラーを備えたアタッチメントを配置し、レーザ光をミラーに反射させてボルトヘッドの側面に照射するようにしている。
特許第5574354号明細書
しかしながら、塗膜や表面被覆材は構造物の表面に張り付いていることから、これらをケレンしようとすればレーザ光の強度を高くしなければならず、塗膜や表面被覆材が燃焼してしまう可能性がある。塗膜や表面被覆材が燃焼するとその灰が飛散又は拡散し、作業現場やレーザ照射装置が汚れてしまうという問題がある。作業現場やレーザ照射装置が汚れた場合には、レーザ光の照射効率が低下したり、清掃に時間を要したりすることから、ケレン処理の作業効率が低下することとなる。
本発明は、上述した問題点に鑑み創案されたものであり、塗膜や表面被覆材の燃焼を抑制することができ、ケレン処理の作業効率の向上を図ることができる、レーザ照射装置及び燃焼抑制方法を提供することを目的とする。
本発明によれば、レーザ光を照射してケレン処理を行うレーザ照射装置において、前記レーザ光を照射する処理空間を形成するレーザ照射ヘッドと、前記レーザ照射ヘッドの内部に不活性ガスを供給するガス供給部と、前記レーザ照射ヘッドの内部のガス及び塵埃を外部に排出する排出部と、を備えたことを特徴とするレーザ照射装置が提供される。
前記レーザ照射ヘッドは、前記処理空間を区画するとともに前記レーザ光を透過する遮蔽板を備えていてもよい。
前記レーザ照射ヘッドは、ケレン処理を行う場所に固定される基台と、前記基台に接続される筒部と、を備えていてもよい。また、前記ガス供給部は前記筒部に形成され、前記排出部は前記基台に形成されていてもよい。前記筒部は、先端に前記レーザ光を透過可能な遮蔽板を備えていてもよい。
前記ガス供給部は、前記遮蔽板の表面に前記不活性ガスを噴き付けるように構成されていてもよい。
また、本発明によれば、レーザ光を照射してケレン処理を行うレーザ照射装置の燃焼抑制方法であって、前記レーザ光を照射可能な処理空間を形成し、前記処理空間に不活性ガスを供給するようにした、ことを特徴とする燃焼抑制方法が提供される。
上述した本発明のレーザ照射装置及び燃焼抑制方法によれば、レーザ光を照射する処理空間に不活性ガスを供給して処理空間内の酸素濃度を低下させるようにしたことから、塗膜や表面被覆材等のように構造物の表面に張り付いている物体をケレンする際に、高強度のレーザ光を照射した場合であっても、処理空間における塗膜や表面被覆材等の燃焼を抑制することができる。したがって、灰の飛散や拡散を抑制することができ、清掃時間の短縮やレーザ光の照射効率の維持を図ることができ、ケレン処理の作業効率の向上を図ることができる。
本発明の第一実施形態に係るレーザ照射装置を示す全体構成図である。 橋梁の一部を示す部分拡大図である。 本発明の第二実施形態に係るレーザ照射装置を示す全体構成図である。 本発明の第三実施形態に係るレーザ照射装置を示す全体構成図である。 本発明の他の実施形態に係るレーザ照射装置を示す部分拡大図であり、(a)は第四実施形態、(b)は第五実施形態、を示している。
以下、本発明の実施形態について図1〜図5(b)を用いて説明する。ここで、図1は、本発明の第一実施形態に係るレーザ照射装置を示す全体構成図である。図2は、橋梁の一部を示す部分拡大図である。
本発明の第一実施形態に係るレーザ照射装置1は、図1に示したように、レーザ光Lを照射してケレン処理を行う装置であって、レーザ光Lを照射する処理空間Sを形成するレーザ照射ヘッド2と、レーザ照射ヘッド2の内部に不活性ガスGを供給するガス供給部3と、レーザ照射ヘッド2の内部のガス及び塵埃を外部に排出する排出部4と、を備えている。
ケレン処理は、例えば、突起物Pの表面にコーティングされた塗膜や表面被覆材、突起物Pの表面に発生した錆等を剥離又は除去する処理である。突起物Pは、例えば、橋梁等の鋼構造物の接合部に固定されている。図2に示したように、橋梁5は、例えば、I型鋼により構成される主桁51と、主桁51のウェブ部の接合部に配置される添接板52と、主桁51のフランジ部の接合部に配置されるフランジ連結板53と、を有している。かかる主桁51を突き合わせて接合する際に、添接板52及びフランジ連結板53に複数のボルト54及びナット55が使用される。突起物Pは、例えば、主桁51を構成する鋼材の表面に突出したボルト54及びナット55によって構成される。
なお、突起物Pは、ボルト54及びナット55によって構成されるものに限定されず、リベット、構造物の形状等、構造物の表面に突出した種々の突起物を含む趣旨である。また、構造物は、橋梁等の鋼構造物に限定されるものではなく、コンクリート構造物等の他の構造物であってもよい。
また、本実施形態に係るケレン処理は、突起物Pの表面をケレンする処理に限定されるものではなく、例えば、鋼構造物やコンクリート構造物等の平らな塗装面や舗装面をケレンする処理であってもよいし、構造物のコンクリート・樹脂・ライニング等をはつる処理であってもよいし、構造物の洗浄や除染等を行う処理であってもよい。
レーザ照射装置1は、例えば、COレーザ、ファイバーレーザ、YAGレーザ等のレーザ発振器を備えた本体部11と、本体部11に接続されたレーザ照射ヘッド2と、本体部11及びレーザ照射ヘッド2を昇降可能に支持する支持部12と、を備えている。レーザ発振器は、例えば、構造物及び突起物Pの種類やケレン処理の対象に応じて任意に選択して使用することができる。
レーザ照射ヘッド2は、例えば、図1に示したように、ケレン処理を行う場所に固定される基台21と、基台21に接続される筒部22と、を備えている。基台21は、例えば、ケレン処理対象の突起物Pの外周を囲う壁面部21aと、壁面部21aの下端に配置され構造物の表面に当接する底面部21bと、壁面部21aの上端に形成されたフランジ部21cと、を備えている。壁面部21aは、少なくともケレン処理対象の突起物Pに隣接する他のボルト54とフランジ部21cとが干渉しない高さに設計される。
底面部21bには、突起物Pを有する構造物の表面に吸着する磁石21dが埋め込まれていてもよい。基台21の固定手段として磁石を用いることにより、鋼材表面に基台21を容易に固定させることができ、特に、図2に示した主桁51のウェブ部の連結部に固定された突起物Pに対してもレーザ照射装置1を横向きに固定することができる。なお、基台21の固定手段は、磁石に限定されるものではなく、吸盤や固定治具を用いるようにしてもよい。また、壁面部21aが十分な肉厚を有する場合には、底面部21bを省略し、壁面部21aに磁石21dを埋め込むようにしてもよい。
フランジ部21cには、支持部12が配置されている。支持部12は、例えば、フランジ部21c上に固定された直動アクチュエータ12aと、直動アクチュエータ12aの先端に固定されたヘッダ12bと、ヘッダ12bの移動を案内するガイド12cと、ヘッダ12bに接続されレーザ照射ヘッド2を拘束する拘束部12dと、を有している。なお、図1では、説明の便宜上、拘束部12dを点線で図示している。
ヘッダ12bは、例えば、断面L字形状を有しており、直動アクチュエータ12aの先端部と直動アクチュエータ12aの側面部に配置されたガイド12cとに接続されている。拘束部12dは、例えば、略環状に形成されており、レーザ照射ヘッド2の外周面に当接して締め付けられることによってレーザ照射ヘッド2を拘束する。
支持部12は、直動アクチュエータ12aを作動させることにより、本体部11及びレーザ照射ヘッド2をケレン対象物に対して接近又は離反させることができる。かかる操作により、レーザ光Lの照射位置を機械的に調整することができる。なお、レーザ光Lの焦点は、本体部11内の光学系によって調整される。
筒部22は、例えば、レーザ照射装置1の本体部11に接続されレーザ光Lの通る空間を形成する第一筒部22aと、第一筒部22aの先端のフランジ部にボルト等によって接続された第二筒部22bと、を備えている。第一筒部22a及び第二筒部22bは、略円筒形状を有しているが、かかる形状に限定されるものではない。
第二筒部22bの内面には、レーザ光Lを突起物Pに向かって反射させる複数の反射ミラー22cが周方向に所定の間隔で配置されている。反射ミラー22cの傾斜角度は一定の角度であってもよいし、調整可能に構成されていてもよい。なお、突起物Pの上面をケレンする場合には、レーザ光Lを反射ミラー22cに反射させずに、本体部11から直にレーザ光Lを照射させるようにすればよい。
ガス供給部3は、例えば、筒部22に形成されたガス供給路31と、不活性ガスGを貯蔵するガスタンク32と、ガスタンク32からガス供給路31に不活性ガスGを供給するポンプ33と、を備えている。ガスタンク32及びポンプ33は、レーザ照射装置1に近接した位置に配置してもよいし、離隔した位置に配置してもよい。
ガス供給路31は、例えば、第一筒部22aのフランジ部及び第二筒部22bの壁面部を貫通し処理空間Sに連通するように形成される。かかるガス供給路31は、第二筒部22bの周方向の複数箇所に所定の間隔で形成される。なお、図示したガス供給路31の構成は単なる一例であり、かかる構成に限定されるものではない。
排出部4は、例えば、基台21に形成された排出路41と、ガス及び塵埃を回収する回収タンク42と、排出路41と回収タンク42とを接続し処理空間S内を吸引するポンプ43と、を備えている。回収タンク42及びポンプ43は、レーザ照射装置1に近接した位置に配置してもよいし、離隔した位置に配置してもよい。
排出路41は、例えば、基台21の壁面部21a及びフランジ部21cを貫通し処理空間Sに連通するように形成される。排出路41の処理空間Sに面した排出口は、ケレン処理により生じた剥離屑を含む塵埃を吸引する必要があることから、横幅の広いスリット状に形成するようにしてもよい。排出口は、壁面部21aの周方向の複数箇所に所定の間隔で形成される。排出路41の出口は、図示したように、フランジ部21cの一箇所に集約し、排出路41を壁面部21a内で分岐させて複数の排出口に連通させるようにしてもよい。なお、図示した排出路41の構成は単なる一例であり、かかる構成に限定されるものではない。
本実施形態では、ガス供給部3を筒部22に形成し、排出部4を基台21に形成している。かかる構成により、筒部22の壁面部や基台21の壁面部21a等を有効に利用しつつ、不活性ガスGの供給やガス及び塵埃の排出に十分な流路を容易に確保することができる。
上述したレーザ照射装置1によれば、ケレン対象の突起物Pを覆うようにレーザ照射ヘッド2を配置してレーザ光Lを照射可能な処理空間Sを形成し、ガス供給部3により処理空間Sに不活性ガスGを供給するようにしたことから、処理空間S内の空気を不活性ガスGによって置換し、処理空間S内の酸素濃度を低下させることができる。したがって、高強度のレーザ光Lを照射した場合であっても、塗膜や表面被覆材等の燃焼を抑制することができる。
また、排出部4によりケレン処理前に処理空間S内の空気を排出することにより、処理空間S内の空気を不活性ガスGによって容易に置換することができる。このとき、処理空間S内の雰囲気は、塗膜や表面被覆材等が燃焼しない程度の酸素濃度に低下させることができれば、不活性ガスGによって充満させる必要はない。また、排出部4によりケレン処理中に処理空間S内を吸引することにより、ケレン処理によって生じた塵埃を外部に容易に排出することができる。
このように、本実施形態に係るレーザ照射装置1及び燃焼抑制方法によれば、処理空間Sにおける塗膜や表面被覆材等の燃焼を抑制したことにより、灰の飛散や拡散を抑制することができ、清掃時間の短縮やレーザ光Lの照射効率の維持を図ることができ、ケレン処理の作業効率の向上を図ることができる。
次に、本発明の第二実施形態に係るレーザ照射装置1について、図3を参照しつつ説明する。ここで、図3は、本発明の第二実施形態に係るレーザ照射装置を示す全体構成図である。なお、上述した第一実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図3に示した第二実施形態に係るレーザ照射装置1は、レーザ照射ヘッド2に処理空間Sを区画するとともにレーザ光Lを透過する遮蔽板23を配置したものである。具体的には、遮蔽板23はレーザ照射ヘッド2の筒部22(第二筒部22b)の開口部を封止するように配置されている。なお、遮蔽板23は、例えば、ガラス板によって構成されるが、他の素材によって構成してもよい。
また、遮蔽板23は、筒部22(第二筒部22b)の先端付近、具体的には、反射ミラー22cとガス供給路31のガス供給口との間の位置に配置することが好ましい。かかる位置に遮蔽板23を配置することにより、処理空間Sの容積を小さくすることができるとともに、ガス供給路31から処理空間Sに不活性ガスGを供給する際に不活性ガスGを遮蔽板23の表面に容易に噴き付けることができる。
このように、処理空間Sの容積を小さくすることにより、処理空間Sに供給する不活性ガスGの分量を低減することができ、処理空間S内を吸引する吸引力を低減することができる。したがって、ガスタンク32及び回収タンク42の小型化並びにポンプ33,43の小容量化を図ることができる。
また、上述したように、ガス供給部3は、遮蔽板23の表面に不活性ガスGを噴き付けるように構成されていることから、遮蔽板23の表面を不活性ガスGによってクリーニングすることができ、遮蔽板23の表面の付着物による温度上昇を抑制することができ、レーザ光Lの照射効率の低下を抑制することができる。
また、本実施形態では、遮蔽板23の表面に沿って外縁部から中心に向かって放射状に不活性ガスGが供給されるように構成されているが、かかる構成に限定されるものではなく、例えば、ガス供給路31の供給口を遮蔽板23の表面に不活性ガスGをより強く噴き付けるように上方に傾斜させるようにしてもよい。
次に、本発明の第三実施形態に係るレーザ照射装置1について、図4を参照しつつ説明する。ここで、図4は、本発明の第三実施形態に係るレーザ照射装置を示す全体構成図である。なお、上述した第一実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して重複した説明を省略する。
図4に示した第三実施形態に係るレーザ照射装置1は、第一実施形態に係るレーザ照射装置1において、不活性ガスGを反射ミラー22cの表面に噴き付けるようにガス供給路31を構成したものである。かかる実施形態によれば、反射ミラー22cの表面を不活性ガスGによってクリーニングすることができ、反射ミラー22cの表面の付着物による温度上昇を抑制することができ、レーザ光Lの照射効率の低下を抑制することができる。
次に、本発明の他の実施形態に係るレーザ照射装置1について、図5(a)及び図5(b)を参照しつつ説明する。ここで、図5は、本発明の他の実施形態に係るレーザ照射装置を示す部分拡大図であり、(a)は第四実施形態、(b)は第五実施形態、を示している。なお、上述した第一実施形態と同一の構成については、同一の符号を付して重複した説明を省略する。また、各図において、説明の便宜上、本体部11、支持部12、ガスタンク32、ポンプ33、回収タンク42、ポンプ43の図を省略してある。
図5(a)に示した第四実施形態に係るレーザ照射装置1は、ガス供給路31及び排出路41の両方をレーザ照射ヘッド2の筒部22に形成したものである。ガス供給路31及び排出路41は、例えば、筒部22の周方向に交互に複数配置される。かかる実施形態によれば、ガス供給部3及び排出部4を筒部22に集約することができ、基台21を容易に取り扱うことができる。
図5(b)に示した第五実施形態に係るレーザ照射装置1は、ガス供給路31及び排出路41の両方をレーザ照射ヘッド2の基台21に形成したものである。ガス供給路31及び排出路41は、例えば、壁面部21aの周方向に交互に複数配置される。かかる実施形態によれば、ガス供給部3及び排出部4を基台21に集約することができ、筒部22を容易に取り扱うことができる。
本発明は上述した実施形態に限定されず、例えば、基台21及び筒部22は一体に形成されていてもよい、第三実施形態〜第五実施形態に係るレーザ照射装置1に遮蔽板23を配置してもよい等、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で種々変更が可能であることは勿論である。
1 レーザ照射装置
2 レーザ照射ヘッド
3 ガス供給部
4 排出部
5 橋梁
11 本体部
12 支持部
12a 直動アクチュエータ
12b ヘッダ
12c ガイド
12d 拘束部
21 基台
21a 壁面部
21b 底面部
21c フランジ部
21d 磁石
22 筒部
22a 第一筒部
22b 第二筒部
22c 反射ミラー
23 遮蔽板
31 ガス供給路
32 ガスタンク
33 ポンプ
41 排出路
42 回収タンク
43 ポンプ
51 主桁
52 添接板
53 フランジ連結板
54 ボルト
55 ナット

Claims (7)

  1. レーザ光を照射してケレン処理を行うレーザ照射装置において、
    前記レーザ光を照射する処理空間を形成するレーザ照射ヘッドと、
    前記レーザ照射ヘッドの内部に不活性ガスを供給するガス供給部と、
    前記レーザ照射ヘッドの内部のガス及び塵埃を外部に排出する排出部と、
    を備えたことを特徴とするレーザ照射装置。
  2. 前記レーザ照射ヘッドは、前記処理空間を区画するとともに前記レーザ光を透過する遮蔽板を備えている、ことを特徴とする請求項1に記載のレーザ照射装置。
  3. 前記レーザ照射ヘッドは、ケレン処理を行う場所に固定される基台と、前記基台に接続される筒部と、を備えていることを特徴とする請求項1に記載のレーザ照射装置。
  4. 前記ガス供給部は前記筒部に形成され、前記排出部は前記基台に形成されている、ことを特徴とする請求項3に記載のレーザ照射装置。
  5. 前記筒部は、先端に前記レーザ光を透過可能な遮蔽板を備えている、ことを特徴とする請求項3に記載のレーザ照射装置。
  6. 前記ガス供給部は、前記遮蔽板の表面に前記不活性ガスを噴き付けるように構成されている、ことを特徴とする請求項2又は5に記載のレーザ照射装置。
  7. レーザ光を照射してケレン処理を行うレーザ照射装置の燃焼抑制方法であって、
    前記レーザ光を照射可能な処理空間を形成し、前記処理空間に不活性ガスを供給するようにした、
    ことを特徴とする燃焼抑制方法。
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