JP2017122657A - 半導体装置の検査装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】小型化された半導体装置に対しても半導体装置の裏面にグラファイトシートを挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる半導体装置の検査装置を得る。
【解決手段】金属製の基台18上にグラファイトシート25が設けられている。金属ブロック27が基台18に直流的に接続されている。押さえピン28が基台18に直流的に接続され、グラファイトシート25上に配置された半導体装置1の金属ベース板2の第1の側面に接触して金属ベース板2の第2の側面を金属ブロック27の側面に押し付ける。
【選択図】図5
【解決手段】金属製の基台18上にグラファイトシート25が設けられている。金属ブロック27が基台18に直流的に接続されている。押さえピン28が基台18に直流的に接続され、グラファイトシート25上に配置された半導体装置1の金属ベース板2の第1の側面に接触して金属ベース板2の第2の側面を金属ブロック27の側面に押し付ける。
【選択図】図5
Description
本発明は、半導体装置の検査装置に関する。
半導体装置の電気的特性を検査するために検査装置が用いられている(例えば、特許文献1参照)。検査装置は、ストリップライン基板が貼り付けられた金属製の基台と、半導体装置を基台に押さえつけて半導体装置のリードをストリップラインに接触させる機構とを備えている。また、半導体装置の裏面のベース板と基台は面ではなく凹凸を持った金属間の複数の点として接触されるため、接触面積が小さくなり、接触抵抗が大きくなる。また、接触面積が小さくなることで高い周波数では半導体装置と検査装置の間に抵抗値とインダクタ値を持つことになる。周波数が高いとインダクタ値の影響はより大きくなり安定な特性評価の妨げとなる。
また、接触抵抗の増大は熱抵抗の増大につながる。出力電力の大きい半導体装置は消費電力が大きく、自己発熱も大きい。従って、放熱能力が半導体装置の性能に大きな影響を与える。このため、安定的な検査には放熱性能の良い検査装置が必要となる。
これに対して、熱抵抗とインダクタを低減するために、半導体装置のベース板と基台の間にコンタクトシートを挿入することが考えられる。コンタクトシートとして、炭素シートを積層した“グラファイトシート”と呼ばれる物がよく用いられている(例えば、特許文献2参照)。
一般的にグラファイトシートは面内方向の抵抗値は非常に小さいが、厚み方向には非導電性又は非常に抵抗値が大きくなる傾向にある。半導体素子の接地端子に接続されたベース板は、検査装置の基台に直流的(DC的)に接続されている必要がある。しかし、厚み方向に非導電性のグラファイトシートは等価回路的には容量性であるため、グラファイトシートの挿入により直流的な接続が阻害される。なお、ベース板が検査装置の基台に直流的(DC的)に接続されているとは、ベース板と検査装置の基台間に直流電圧が印加された状態において、互いが電気的に接続されていることを意味する。
従来の半導体装置ではベース板はネジ穴を持ったフランジを有し、フランジを基台にネジ固定していた。このため、半導体装置のベース板がネジを介して基台に直流的に接続されていた。
しかし、小型化のためにネジ穴とフランジを削除した半導体装置ではネジを介して直流的な接続が取れないため、安定的な検査を行うことができないという問題があった。
本発明は、上述のような課題を解決するためになされたもので、その目的は小型化された半導体装置に対しても半導体装置の裏面にグラファイトシートを挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる半導体装置の検査装置を得るものである。
本発明は、互いに対向する第1及び第2の側面を持つ金属ベース板と、前記金属ベース板上に設けられ前記金属ベース板に接続された接地端子を持つ半導体素子とを有する半導体装置を検査する検査装置であって、金属製の基台と、前記基台上に設けられたグラファイトシートと、前記基台に直流的に接続された金属ブロックと、前記基台に直流的に接続され、前記グラファイトシート上に配置された前記半導体装置の前記金属ベース板の前記第1の側面に接触して前記金属ベース板の前記第2の側面を前記金属ブロックの側面に押し付ける押さえピンとを備えることを特徴とする。
本発明では、基台上に、基台に直流的に接続された金属ブロックが設けられている。そして、基台に直流的に接続された押さえピンが金属ベース板の第1の側面に適切な圧力で接触して金属ベース板の第2の側面を金属ブロックの側面に押し付ける。これにより、金属ベース板が押さえピン及び金属ブロックを介して基台に直流的に接続される。従って、小型化された半導体装置に対しても半導体装置の裏面にグラファイトシートを挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる。
本発明の実施の形態に係る半導体装置の検査装置について図面を参照して説明する。同じ又は対応する構成要素には同じ符号を付し、説明の繰り返しを省略する場合がある。
実施の形態1.
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置を示す斜視図である。図2は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置の内部を示す平面図である。図3は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置を示す断面図である。
図1は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置を示す斜視図である。図2は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置の内部を示す平面図である。図3は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置を示す断面図である。
半導体装置1において、金属ベース板2上に絶縁体3,4が互いに離間して設けられている。絶縁体3,4上にそれぞれ信号ライン5,6が設けられている。絶縁体3,4の間において金属ベース板2上に半導体素子7が実装されている。装置の小型化のため、金属ベース板2にはネジ穴とフランジは設けられていない。金属ベース板2は互いに対向する第1及び第2の側面を持つ。
半導体素子7は例えば電力増幅器などであり、裏面に接地端子8が設けられ、表面に入力端子9と出力端子10が設けられている。半導体素子7の接地端子8は金属ベース板2に接続されている。入力端子9と出力端子10はそれぞれワイヤ11,12を介して信号ライン5,6に接続されている。信号ライン5,6にはそれぞれリード13,14が接続されている。
半導体素子7を覆うように金属ベース板2上に金属カバー15が設けられている。金属カバー15は金属ベース板2に接続されている。金属カバー15はそれぞれ絶縁体16,17により信号ライン5,6から絶縁されている。
図4は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置の検査装置を示す斜視図である。図5は、本発明の実施の形態1に係る半導体装置の検査装置を示す平面図である。
金属製の基台18はGNDに接続されている。この基台18上に金属製のキャリア19,20が互いに離間して設けられている。キャリア19,20上にはそれぞれアルミナ基板21,22が設けられている。アルミナ基板21,22上にはそれぞれ線路23,24が設けられている。キャリア19,20の間において基台18上にグラファイトシート25が設けられている。半導体装置1がグラファイトシート25上に配置され、半導体装置1の金属ベース板2の裏面はグラファイトシート25に接触する。非導電性の押さえ機構26が上から半導体装置1をグラファイトシート25を介して基台18に押し付ける。これに伴って半導体装置1のリード13,14がそれぞれ線路23,24に接触して接続される。
本実施の形態では、基台18上に、基台18に直流的に接続された金属ブロック27が設けられている。そして、基台18に直流的に接続された押さえピン28が金属ベース板2の第1の側面に適切な圧力で接触して金属ベース板2の第2の側面を金属ブロック27の側面に押し付ける。これにより、金属ベース板2が押さえピン28及び金属ブロック27を介して基台18に直流的に接続される。従って、小型化された半導体装置1に対しても半導体装置1の裏面にグラファイトシート25を挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる。
実施の形態2.
図6は、本発明の実施の形態2に係る半導体装置の検査装置を示す斜視図である。実施の形態1とは異なり押さえピン28及び金属ブロック27は存在しない。その代わりに、本実施の形態では、押さえ機構29が導電性であり、基台18に直流的に接続されている。このため、押さえ機構29が上から半導体装置1をグラファイトシート25を介して基台18に押し付ける際に、押さえ機構29は金属カバー15に適切な圧力で接触して接続される。これにより、金属ベース板2が金属カバー15及び押さえ機構29を介して基台18に直流的に接続される。従って、小型化された半導体装置1に対しても半導体装置1の裏面にグラファイトシート25を挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる。
図6は、本発明の実施の形態2に係る半導体装置の検査装置を示す斜視図である。実施の形態1とは異なり押さえピン28及び金属ブロック27は存在しない。その代わりに、本実施の形態では、押さえ機構29が導電性であり、基台18に直流的に接続されている。このため、押さえ機構29が上から半導体装置1をグラファイトシート25を介して基台18に押し付ける際に、押さえ機構29は金属カバー15に適切な圧力で接触して接続される。これにより、金属ベース板2が金属カバー15及び押さえ機構29を介して基台18に直流的に接続される。従って、小型化された半導体装置1に対しても半導体装置1の裏面にグラファイトシート25を挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる。
実施の形態3.
図7は、本発明の実施の形態3に係る半導体装置の検査装置を示す斜視図である。本実施の形態では、金属製の第1及び第2のキャリア19,20が、基台18に直流的に接続され、基台18に対して可動でき、金属ベース板2を左右から挟んで金属ベース板2と適切な圧力で接触して直流的に接続される。これにより、金属ベース板2が第1及び第2のキャリア19,20を介して基台18に直流的に接続される。従って、小型化された半導体装置1に対しても半導体装置1の裏面にグラファイトシート25を挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる。
図7は、本発明の実施の形態3に係る半導体装置の検査装置を示す斜視図である。本実施の形態では、金属製の第1及び第2のキャリア19,20が、基台18に直流的に接続され、基台18に対して可動でき、金属ベース板2を左右から挟んで金属ベース板2と適切な圧力で接触して直流的に接続される。これにより、金属ベース板2が第1及び第2のキャリア19,20を介して基台18に直流的に接続される。従って、小型化された半導体装置1に対しても半導体装置1の裏面にグラファイトシート25を挿入した状態で安定的な特性検査を行うことができる。
1 半導体装置、2 金属ベース板、3,4,16,17 絶縁体、5,6 信号ライン、7 半導体素子、8 接地端子、9 入力端子、10 出力端子、11,12 ワイヤ、13,14 リード、15 金属カバー、18 基台、19,20 キャリア、21,22 アルミナ基板、23,24 線路、25 グラファイトシート、26,29 押さえ機構、27 金属ブロック、28 押さえピン
Claims (3)
- 互いに対向する第1及び第2の側面を持つ金属ベース板と、前記金属ベース板上に設けられ前記金属ベース板に接続された接地端子を持つ半導体素子とを有する半導体装置を検査する検査装置であって、
金属製の基台と、
前記基台上に設けられたグラファイトシートと、
前記基台に直流的に接続された金属ブロックと、
前記基台に直流的に接続され、前記グラファイトシート上に配置された前記半導体装置の前記金属ベース板の前記第1の側面に接触して前記金属ベース板の前記第2の側面を前記金属ブロックの側面に押し付ける押さえピンとを備えることを特徴とする半導体装置の検査装置。 - 金属ベース板と、前記金属ベース板上に設けられ前記金属ベース板に接続された接地端子を持つ半導体素子と、前記金属ベース板に接続され前記半導体素子を覆う金属カバーとを有する半導体装置を検査する検査装置であって、
金属製の基台と、
前記基台上に設けられたグラファイトシートと、
前記グラファイトシート上に配置された前記半導体装置を前記基台に押し付ける押さえ機構とを備え、
前記押さえ機構は、導電性であり、前記基台に直流的に接続され、前記金属カバーに接触して接続されることを特徴とする半導体装置の検査装置。 - 金属ベース板と、第1及び第2のリードと、前記金属ベース板上に設けられ前記金属ベース板に接続された接地端子と前記第1及び第2のリードにそれぞれ接続された入力端子及び出力端子を持つ半導体素子とを有する半導体装置を検査する検査装置であって、
金属製の基台と、
前記基台上に互いに離間して設けられ、前記基台に直流的に接続された金属製の第1及び第2のキャリアと、
前記第1及び第2のキャリアの間において前記基台上に設けられたグラファイトシートと、
前記第1及び第2のキャリア上にそれぞれ設けられた第1及び第2の絶縁基板と、
前記第1及び第2の絶縁基板上にそれぞれ設けられ、前記グラファイトシート上に配置された前記半導体装置の前記第1及び第2のリードが接続される第1及び第2の線路とを備え、
前記第1及び第2のキャリアは、前記基台に対して可動でき、前記金属ベース板を挟んで前記金属ベース板と直流的に接続されることを特徴とする半導体装置の検査装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2016001950A JP2017122657A (ja) | 2016-01-07 | 2016-01-07 | 半導体装置の検査装置 |
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JP2016001950A JP2017122657A (ja) | 2016-01-07 | 2016-01-07 | 半導体装置の検査装置 |
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JP2017122657A true JP2017122657A (ja) | 2017-07-13 |
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JP2016001950A Pending JP2017122657A (ja) | 2016-01-07 | 2016-01-07 | 半導体装置の検査装置 |
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110275088A (zh) * | 2019-07-30 | 2019-09-24 | 河南四达检测技术有限公司 | 一种配网台区设备接地运行状态监测系统 |
DE112018007669B4 (de) | 2018-05-28 | 2024-01-11 | Mitsubishi Electric Corporation | Vorrichtung zum Messen elektrischer Eigenschaften für eine Halbleitervorrichtung |
-
2016
- 2016-01-07 JP JP2016001950A patent/JP2017122657A/ja active Pending
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DE112018007669B4 (de) | 2018-05-28 | 2024-01-11 | Mitsubishi Electric Corporation | Vorrichtung zum Messen elektrischer Eigenschaften für eine Halbleitervorrichtung |
CN110275088A (zh) * | 2019-07-30 | 2019-09-24 | 河南四达检测技术有限公司 | 一种配网台区设备接地运行状态监测系统 |
CN110275088B (zh) * | 2019-07-30 | 2021-04-23 | 河南四达检测技术有限公司 | 一种配网台区设备接地运行状态监测系统 |
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