JP2017092505A - 積層インダクタ - Google Patents
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Abstract
Description
本発明の積層インダクタは、複数の磁性材料層からなる積層体と、前記積層体の内部にスパイラル状に形成されたコイル導体と、を備える。磁性材料層は、軟磁性合金からなる複数の金属粒子と、金属粒子の表面に形成された前記軟磁性合金の酸化物からなる酸化被膜とを備える。磁性材料層には、隣接する金属粒子表面に形成された酸化被膜を介しての結合部が存在する。前記積層体の表面の少なくとも一部に絶縁性酸化物のコーティングが施されている。
コーティングの表面抵抗率は好ましくは1MΩ/sq以上である。
コーティングは積層体の積層方向の好ましくは上面及び下面に施されている。
積層体において、金属粒子の間に空隙がある場合に、コーティングの一部が上記上面及び下面から前記空隙の少なくとも一部に入り込んでいることが好ましい。
絶縁性酸化物は好ましくはガラスであり、より好ましくはその軟化点が500〜800℃である。ガラスは好ましくはB、Si、Ba、Li、Na、K、Mg、Ca、Sr、Al、Cu、Zn、Zr又はBiを含有する。
これら、ガラスを含めた、絶縁性酸化物からなるコーティングを施した箇所においては表面抵抗率が好ましくは1MΩ/sq以上であり、より好ましくは5〜50MΩ/sqである。前記範囲の表面抵抗率が発現することで、めっき伸び不良をより効率的に抑制できる。
本実施例で製造した積層インダクタは長さが約3.2mmで、幅が約1.6mmで、高さが約1.0mmで、全体が直方体形状を成している。
表1記載の金属粒子(又はフェライト粒子)85wt%、ブチルカルビトール(溶剤)が13wt%、ポリビニルブチラール(バインダ)2wt%からなる磁性体ペーストを調製した。ドクターブレードを用いて、この磁性体ペーストをプラスチック製のベースフィルムの表面に塗工し、これを熱風乾燥機で、約80℃、約5minの条件で乾燥した。このようにしてベースフィルム上にグリーンシートを得た。その後、グリーンシートをカットして、磁性体層ML1〜ML6(図3を参照)に対応し、且つ、多数個取りに適合したサイズの第1〜第6シートをそれぞれ得た。
ガラスからなるコーティング(表1では「ガラス層」と表記した。)と、積層体2との界面の接合部を目視にて調査したところ、実施例1、2では「割れ」は無く、比較例2では、割れていた。
得られた積層インダクタにおける、インダクタンスをAgilent Technologies社インピーダンスアナライザ4294Aにて1MHzの値を測定した。
得られた積層インダクタの上下面それぞれを測長顕微鏡で観察した。磁性体面上の両側外部電極の端の位置を始点として、めっきが最も伸びた位置までの距離を測定した。上下面の左右側について上記測定を行うので、積層インダクタ一つにつき、測定は4箇所である。これら4つの測定のうち一つでもめっき伸びの長さが3μm以上であれば、「めっき伸び不良」であると判断した。この測定を50個の積層インダクタに対して行い、不良率を算出した。
Claims (7)
- 複数の磁性材料層からなる積層体と、
前記積層体の内部にスパイラル状に形成されたコイル導体と、を備え、
前記磁性材料層は、軟磁性合金からなる複数の金属粒子と、前記金属粒子の表面に形成された前記軟磁性合金の酸化物からなる酸化被膜とを備え、隣接する金属粒子表面に形成された酸化被膜を介しての結合部を有し、
前記積層体の表面の少なくとも一部に絶縁性酸化物のコーティングが施されている、
積層インダクタ。 - 前記コーティングの表面抵抗率が1MΩ/sq以上である請求項1記載の積層インダクタ。
- 前記積層体の積層方向の上面及び下面に前記コーティングが施されている請求項1又は2記載の積層インダクタ。
- 前記積層体には金属粒子の間に空隙があり、前記コーティングの一部が上記上面及び下面から前記空隙の少なくとも一部に入り込んでいる、請求項3記載の積層インダクタ。
- 前記絶縁性酸化物がガラスである請求項1〜4のいずれか1項に記載の積層インダクタ。
- 前記ガラスの軟化点が500〜800℃である請求項5記載の積層インダクタ。
- 前記ガラスがB、Si、Ba、Li、Na、K、Mg、Ca、Sr、Al、Cu、Zn、Zr又はBiを含有する請求項5又は6記載の積層インダクタ。
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