JP2017059722A - インプリント装置および物品製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (9)
- 基板の上に供給されたインプリント材に型を接触させて前記インプリント材に光を照射することによって前記インプリント材を硬化させるインプリント装置であって、
前記基板と前記型との相対位置を計測する計測器と、
前記相対位置が調整されるように前記基板および前記型の少なくとも一方を駆動する駆動部と、
前記インプリント材が硬化するように前記インプリント材に光を照射する光照射部と、
前記光照射部によって前記インプリント材に光が照射された状態で、前記計測器から出力される情報に基づいて前記相対位置が制御されるように前記駆動部を制御する制御部と、
を備えることを特徴とするインプリント装置。 - 前記基板を保持する基板ステージを更に備え、
前記基板ステージは、第1マークを有し、
前記型は、第2マークを有し、
前記計測器は、前記第1マークと前記第2マークとを用いて前記相対位置を計測し、
前記光照射部が前記インプリント材に光を照射するときに、前記第1マークおよび前記第2マークには前記光照射部からの光が照射されない、
ことを特徴とする請求項1に記載のインプリント装置。 - 前記計測器を移動させる移動機構を更に備え、
前記基板は、第3マークを有し、
前記型は、前記インプリント材に転写すべきパターンを有するパターン領域に第4マークを有し、
前記移動機構は、前記第3マークおよび前記第4マークを観察可能な位置に前記計測器を配置し、その後、前記光照射部と前記インプリント材との間の光路の外に前記計測器を退避させ、その後、前記第1マークおよび前記第2マークを観察可能な位置に前記計測器を配置し、
前記光照射部は、前記光路の外に前記計測器が退避された後に、前記インプリント材に光を照射する、
ことを特徴とする請求項2に記載のインプリント装置。 - 前記計測器と前記基板との間における前記計測器の光軸は、前記光路の光軸と平行である、
ことを特徴とする請求項3に記載のインプリント装置。 - 前記パターン形成領域は、前記第3マークを含む複数の第3マークを有し、前記パターン領域は、前記第4マークを含む複数の第4マークを有し、
前記移動機構は、前記インプリント材と前記型との接触領域が拡大している期間に、前記複数の第3マークおよび前記複数の第4マークを用いて複数の箇所で前記計測器によって前記相対位置が計測されるように前記計測器を移動させる、
ことを特徴とする請求項3又は4に記載のインプリント装置。 - 前記インプリント材と前記型とを接触させる際に、前記インプリント材と前記型との接触領域は、前記基板および前記型の中央部から周辺部に向けて拡大し、
前記移動機構は、前記接触領域の拡大に応じて、前記基板および前記型の中央部から周辺部に向けて前記計測器を移動させる、
ことを特徴とする請求項5に記載のインプリント装置。 - 前記基板はパターン形成領域を有し、前記パターン形成領域は第3マークを有し、
前記型は前記インプリント材に転写すべきパターンを有するパターン領域を有し、前記パターン領域は第4マークを有し、
前記インプリント装置は、前記光照射部によって前記インプリント材に光が照射されない状態で、前記第3マークおよび前記第4マークを用いて前記相対位置を計測する第2計測器を更に備える、
ことを特徴とする請求項1又は2に記載のインプリント装置。 - 前記光照射部は、前記基板のパターン形成領域の全域に一度に光を照射する、
ことを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載のインプリント装置。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載のインプリント装置を用いて基板にパターンを形成する工程と、
前記パターンが形成された前記基板を処理する工程と、
を含むことを特徴とする物品製造方法。
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