JP2017052738A - 片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法 - Google Patents

片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP2017052738A
JP2017052738A JP2015179913A JP2015179913A JP2017052738A JP 2017052738 A JP2017052738 A JP 2017052738A JP 2015179913 A JP2015179913 A JP 2015179913A JP 2015179913 A JP2015179913 A JP 2015179913A JP 2017052738 A JP2017052738 A JP 2017052738A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
terminal
meth
sio
reaction
represented
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2015179913A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6574120B2 (ja
Inventor
一戸 省二
Seiji Ichinohe
省二 一戸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2015179913A priority Critical patent/JP6574120B2/ja
Publication of JP2017052738A publication Critical patent/JP2017052738A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6574120B2 publication Critical patent/JP6574120B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
  • Silicon Polymers (AREA)

Abstract

【課題】
簡便に高純度の片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する方法を提供する。
【解決手段】
一般式[III]で示される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する方法において、
R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6NHC(=O)CX=CH2 [III]
(ここでmは1〜200の整数、R’は炭素数1〜4アルキル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基、XはH又はメチル基である)
一般式[1]で示される片末端アミノシリコーン前駆体
R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6N(SiR3)2 [I]
(式中、m、R’、及びRは上記の通りである)
を脱シリル化反応することで、一般式[II]で示される片末端アミノシリコーンを製造し、
R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6NH2 [II]
(式中、m、R’、及びRは上記の通りである)
これと(メタ)アクリル酸クロライドを反応させて上記一般式[III]で示される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する方法。
【選択図】なし

Description

本発明は、高純度の片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法に関する。
[発明の属する技術分野]
片末端官能性シリコーン化合物は、官能基としてカルビノール、カルボキシ、エポキシ、メタクリル、フェノール基を有するものが主に樹脂改質用途で市販されている。しかし、片末端アミノシリコーンは未だ市販されていないのが現状である。また、これと(メタ)アクリル酸クロライドを反応させて得られる片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンも未だ市販されていない。
本発明は一般式 [I]の片末端シラザン化合物を経由した片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法に関する。
片末端アミノシリコーンは公知物質である。例えば、特許文献1には、式:R’MeSiO(MeSiO)MeSiCNHで表され、mが34〜699である片末端アミノシリコーンが記載されている。特許文献1は、BuLiを開始剤としてヘキサメチルシクロトリシロキサンのリビング重合をして得られた化合物の末端にある−OSiMeOLiと停止剤であるFSiMeNHとを反応させることで該片末端アミノシリコーンを製造する方法を記載している。
特許文献2には、式:R’MeSiO(MeSiO)MeSiHで表され、mが11である片末端ハイドロジェンポリシロキサンとアリルアミンを酸化白金触媒存在下で反応させ、片末端アミノシリコーンを製造する方法を記載している。
特開平3−128937号公報 特表2012−530824号公報
しかし、特許文献1に記載の方法では停止剤であるFSiMe2C3H6NH2の安定製造が難しく、工場スケールへのスケールアップは困難である。その為、上記式(III)で表される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーン化合物を工業的に製造することができる方法が求められている。
また、特許文献2に記載の方法では片末端ハイドロジェンポリシロキサンに対しアリルアミンを5倍モル使用し、触媒である酸化白金もアリルアミンに対し1%に近い量であり、この方法は現実的でない。さらには反応条件も長時間を要する為、片末端アミノシリコーンを安価に製造することが出来ず、ひいては片末端(メタ)アクリルアミドシリコーン化合物を安価に製造することができなかった。そのため、片末端(メタ)アクリルアミドシリコーン化合物は工業スケールでの製造が困難で、各社の変性シリコーンカタログに一切記載がない。
本発明は、上記事情に鑑み、上記式[III]で表される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーン化合物を工場スケールで安価に製造する方法を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討したところ、下記一般式[II]で表される化合物(ビストリC1〜10アルキルシリルアミノプロピルシロキサン):
R’RSiO(RSiO)RSiCN(SiR[I]
(ここでmは1〜200の整数、R’は炭素数1〜4アルキル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基である)を脱シリル化することで、下記式[II]:
R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6NH2 [II]
で表される片末端アミノシリコーンを簡便に得ることができることを見出した。
好ましくは、脱シリル化反応は、アルコールと酸触媒の存在化で行われる。特には、通常の脱シリル化反応では使用する酸によりシロキサンの切断が起こるが、驚くべきことに本発明の製造方法では酸によるシロキサンの切断は極僅かであり、高純度にて片末端アミノシリコーンを得ることができることを本発明者らは見出した。本発明において、特定のアルコールと特定の酸触媒の最適な組み合わせを用いることが好ましい。このように、脱シリル化条件を最適化することで、工業スケールでの片末端アミノシリコーン製造を可能となる。
次に、該片末端アミノシリコーンと(メタ)アクリル酸クロライドを反応させて片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する。
すなわち本発明は、
一般式[III]で示される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する方法において、
R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6NHC(=O)CX=CH2 [III]
(ここでmは1〜200の整数、R’は炭素数1〜4アルキル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基、XはH又はメチル基である)
一般式[I]で示される片末端アミノシリコーン前駆体
R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6N(SiR3)2 [I]
(式中、m、R’、及びRは上記の通りである)
を脱シリル化反応することで、一般式[II]で示される片末端アミノシリコーンを製造し、
R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6NH2 [II]
(式中、m、R’、及びRは上記の通りである)
これと(メタ)アクリル酸クロライドを反応させて上記一般式[III] で示される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する方法である。
本発明の製造方法では、一般式[I]で示される片末端アミノシリコーン前駆体に強酸を作用させてもシロキサンの切断が極めて少なく、選択的に脱シリル化反応ができるため、片末端アミノシリコーン化合物 [II]を高純度で製造することができる。そして、片末端アミノシリコーン化合物 [II]を(メタ)アクリル酸クロライドと反応させることで目的とする片末端(メタ)アクリルアミドシリコーン化合物を非常に安価かつ容易に工場スケールで製造することができる。
実施例1で製造した片末端アミノシリコーン前駆体のH−NMRチャート。
以下、本発明の製造方法を更に詳細に説明する。
i)片末端アミノシリコーン前駆体の製造
好ましくは、上記式[II]で表される片末端アミノシリコーン前駆体は、以下の方法により製造される。即ち、上記式[II]で表される片末端アミノシリコーン前駆体は、下記一般式[I]で表される片末端ハイドロジェンポリシロキサンと
R’RSiO(RSiO)RSiH [I]
(式中、m、R’、及びRは上記の通りである)
下記式[IV]で表されるビストリC1〜10アルキルシリルアリルアミンとを付加反応させて得ることができる。
CH=CHCHN(SiR[IV]
該工程により上記一般式[II]で表される化合物を容易にかつ高純度で製造することが出来る。
上記付加反応は反応溶剤を使用せずに行うことが可能であるが、好ましくは反応溶剤を使用するのがよい。該溶剤としては、たとえば、ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素溶剤、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、ジオキサン、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン等のエーテル系溶剤、メチルイソブチルケトン等のケトン系溶剤、クロロホルム等の塩素系溶剤などが挙げられる。特には、トルエンのような芳香族炭化水素が最も好適である。溶剤の量は特に制限されず適宜調整されればよい。
上記付加反応はヒドロシリル化触媒の存在下で行われるのがよい。ヒドロシリル化触媒は従来付加反応に使用される公知の触媒であればよい。たとえは貴金属触媒、特には塩化白金酸から誘導される白金触媒が好適である。例えば塩化白金酸を触媒として使用する場合、反応系中に塩化白金酸の塩素イオンが残存していると、反応系が酸性になり、脱水素反応を増加させる。そのため重曹で塩素イオンを中和された塩化白金酸触媒を使用するのが好ましい。
また、塩化白金酸の塩素イオンを重曹で完全中和すると白金触媒の安定性が向上する。例えば1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサンと塩化白金酸の重曹中和物との錯体が、反応触媒として最も好適である。
ヒドロシリル化触媒の添加量は上記付加反応を進行させるための触媒量であればよい。例えば、1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサンと塩化白金酸の重曹中和物との錯体を、片末端ハイドロジェンポリシロキサンの質量に対し白金換算量で5ppm〜80ppmとなる量である。触媒の量が少ないと反応スピードが遅く、付加反応が進行しないため好ましくない。また、触媒の量が多すぎても反応性は格別に向上せず、不経済となるので好ましくない。
上記付加反応の温度は特に制限されるものでなく適宜調整されればよい。特には20℃〜150℃、より好ましくは50℃〜120℃がよい。上記反応の原料を全て仕込み一括にて反応させることができる。しかし、より好適には、片末端ハイドロジェンシロキサン、反応溶剤例えばトルエン、及びヒドロシリル化触媒を反応器に仕込み、次いで過剰モル量のビストリC1〜10アルキルシリルアリルアミンを滴下して反応させるのが良い。滴下時の反応液の温度は80℃〜90℃付近であるのが特に好ましい。反応時間は例えば1〜12時間、好ましくは3時間以上、8時間以下がよい。
反応に供するビストリC1〜10アルキルシリルアリルアミンの量は、片末端ハイドロジェンシロキサンの量に対し過剰モルとなる量比が好ましい。例えば片末端ハイドロジェンシロキサン1モルに対し1.01〜3モル、さらに好ましくは1.05モル以上、特に1.1以上、また、さらに好ましくは2モル以下、特には1.5モル以下、となる量比が好ましい。
ビストリC1〜10アルキルシリルアリルアミンの滴下終了後、例えば80〜90℃で2時間熟成した後、未反応の片末端ハイドロジェンシロキサンの有無を、例えばガスクロマトグラフィー分析(以下「GC」とする)においてピークが消失したことで確認する。次に、反応溶剤トルエンと過剰のビストリC1〜10アルキルシリルアリルアミンを内温130℃でストリップすることで上記一般式[II]で表される化合物が得られる。上記製造方法により上記一般式[II]で表される化合物を高純度で得ることができる。
ii)片末端アミノシリコーンの製造
次に、下記一般式[III]で表される片末端アミノシリコーンは、下記の方法で製造される。
R’RSiO(RSiO)RSiCNH[III]
上記式[III]において、mは1〜200の整数であり、好ましくは2以上、より好ましくは3以上、好ましくは150以下、より好ましくは80以下の整数である。R’は炭素数1〜4のアルキル基であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。Rは炭素数1〜10のアルキル基であり、分岐状でも線形でもよく、好ましくはメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル基である。
上記一般式[III]で表される片末端アミノシリコーンは、下記式[II]で表される化合物(ビストリC1〜10アルキルシリルアミノプロピルシロキサン、また片末端アミノシリコーン前駆体ともいう)を脱シリル化反応させることで得られる。
R’RSiO(RSiO)RSiCN(SiR[II]
(式中、R’、m及びRは上記の通りである)
本発明の製造方法では、上記片末端アミノシリコーン前駆体に強酸を作用させてもシロキサンの切断が非常に少なく、アミンに結合するシリル基のみが選択的に脱シリル化されるため、上記一般式[III]で表される目的化合物を高純度で製造することができる。
上記脱シリル化反応はアルコール中で行われるのが好ましい。アルコールの量は適宜調整されればよく特に制限されるものでない。例えば片末端アミノシリコーン前駆体の質量に対し半量から倍量であればよく、さらには片末端アミノシリコーン前駆体と同量であるのが良い。アルコールは、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、1−プロパノール、イソブタノール、及び1−ブタノール等が好適に使用される。特にはイソプロピルアルコールが好ましい。
上記脱シリル化反応は酸触媒存在下で行われるのが好ましい。酸触媒は特に制限されるものでなく、脱シリル化のために従来使用される触媒であればよい。酢酸等の弱酸を使用することもできるが、その場合には加熱下であっても脱シリル化に極めて長時間を要するため、特に好ましくは強酸が良い。強酸としては、塩酸、メタンスルホン酸、トリフロロメタンスルホン酸、トリフロロ酢酸、及びベンゼンスルホン酸型等の固体酸触媒等が挙げられる。特に、トリフロロメタンスルホン酸、及びトリフロロ酢酸が最も好適である。該酸触媒の量は特に制限されるものでない。例えば、トリフロロ酢酸などの強酸を使用する場合は、0.1〜5.0質量%、好ましくは0.5質量%以上、好ましくは2.0質量%以下であるのが好ましい。
上記脱シリル化反応は室温で行うこともできるが、その場合、反応を完結するのに多量の酸を必要とする。そのため、比較的少量の酸を使用して加温下で脱シリル化した方が良い。脱シリル化の反応温度は特に制限されるものでなく従来公知の方法に従えばよい。反応温度は、例えば 40〜100℃の範囲にある温度、好ましくは50℃以下、好ましくは80℃以下の温度である。反応時間は、例えば0.5〜48時間であればよく、好ましくは1以上、好ましくは6時間以上である。
本発明の製造方法の一例としては、一般式[II]で表される片末端アミノシリコーン前駆体を同質量のイソプロピルアルコールで希釈し、片末端アミノシリコーン前駆体に対し0.5質量%のトリフロロ酢酸を添加する。70℃にて3時間反応させることにより脱シリル化が完結する。得られうるアミノシリコーンが低分子量を有する場合にはGC測定にて反応が完結したことを確認できる。また得られうるアミノシリコーンが高分子量を有する場合には、反応にて生成するシリル化イソプロピルアルコールの量をGC測定でチェックすることで反応が完結したことを確認できる。反応が完結した後も長時間加熱を行うと目的のアミノシリコーンの純度が低下する恐れがあるので好ましくない。反応完結を確認した後、使用した酸の6倍質量のハイドロタルサイト(商品名:キョーワード(登録商標)500、協和化学工業株式会社製)に反応液に添加して、室温で1時間撹拌して酸を中和し、キョーワードを濾紙濾過して除去し、濾液から溶剤を減圧留去することで、上記一般式[III]で表される片末端アミノシリコーンが得られる。当該方法は非常に簡便であり、また得られる片末端アミノシリコーンは高純度を有する。
これをそのまま使用しても良いが、高純度が求められるコンタクトレンズ用途の場合には[2]を蒸留精製することが好ましい。
iii) 片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造
アミノシリコーンからの(メタ)アクリルアミドシリコーン合成法は、これまでに種々、知られている。 アミノシリコーンと(メタ)アクリル酸を反応させる方法、アミノシリコーンと(メタ)アクリル酸無水物を反応させる方法が例示されるが、(メタ)アクリル酸クロライドを使用する方法が好ましい。
反応を有機溶剤中で行い、3級アミン等の脱塩酸剤を添加することが知られているが、アミン塩酸塩の影響で生成物の外観が着色するのが難点である。反応を界面反応とし、脱塩酸剤として炭酸ソーダ等のアルカリを使用する方が良い。
アミノシリコーンに対し過剰量(1.05〜2倍モル) の(メタ)アクリル酸クロライドを使用し、この酸クロライド基準で1.05〜2倍モルの炭酸ソーダの水溶液を水相媒体として使用するのが良い。使用する有機溶剤は、水相と分離するものであれば如何なるものでも良いが、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、ヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン等の脂肪族炭化水素が好適である。このうちで、ヘキサンが低沸点であり、上層の有機相を低温で減圧ストリップしても、(メタ)アクリルアミドシリコーン中にヘキサンが残存しないので、最も好ましい。
反応は水相、有機相を強攪拌下で混合しながら、冷却下、(メタ)アクリル酸クロライド滴下することで実施される。滴下終了後、0℃〜30℃で1〜3時間、強攪拌を続行する。下層である水相を分離除去し、イオン交換水を上層に加え、攪拌、水洗する。静置後、下層を分離する。この操作を3回繰り返した後に、有機層を減圧ストリップに付してヘキサンを除去すると、片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンが得られる。
[実施例]
以下、実施例を示し、本発明をより詳細に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
下記においてH−NMR分析は、ECP500(日本電子社製)を用い、測定溶媒として重アセトンを使用して実施した。
また純度は以下測定法で得られたものである。
純度測定法(GC法)
ガスクロマトグラフ測定には、Agilent社ガスクロマトグラフィー(FID検出器)を使用した。
キャピラリーカラム:J&W社HP−5MS(0.25mm×30m×0.25μm)
昇温プログラム:50℃(5分)→10℃/分→250℃(保持)
注入口温度250℃、検出器温度FID300℃
キャリアガス:ヘリウム(1.0ml/分)
スプリット比:50:1 注入量:1μL
また、シロキサン結合が切断されているか否かをGPC測定により確認した。GPC測定は、下記の条件で行った。
測定装置:東ソー HLC−8220
測定条件:
カラム温度:40℃
流速:0.6ml/min
移動相:THF
カラム構成:
TSK gel Super H2500 (6*150)
TSK gel Super HM-N (6*150)
※ガードカラム TSK gel guardcolumn Super H-H (4.6*35)
注入量:50μl
サンプル濃度:0.3%
検出器:RI
下記において、Buはブチル基を、Meはメチル基を意味する。
[実施例1]
片末端アミノシリコーン前駆体の合成
下記式(1)で表される片末端ハイドロジェンポリシロキサン412g(1mol)、
BuMeSiO(MeSiO)MeSiH (1)
及び、脱水トルエン412gを、ジムロート、温度計、及び滴下ロートを付けた攪拌可能な2Lフラスコに仕込み80℃まで昇温した。該フラスコに塩化白金酸重曹中和物・1,1,3,3−テトラメチル−1,3−ジビニルジシロキサン錯体のトルエン溶液(白金含有量0.5wt%)を4.0g投入した。次いでビストリメチルシリルアリルアミン241g(1.2mol)を滴下ロートに仕込み、80〜90℃で1時間かけて前記フラスコ内に滴下した。滴下後、80〜90℃にて2時間熟成した。熟成後、反応液をサンプリングし、アルカリによる水素ガス発生の有無を確認したところ、水素ガスは発生せず、片末端ハイドロジェンポリシロキサンが残存していないことを確認した。トルエンと過剰量のビストリメチルシリルアリルアミンを内温130℃で減圧留去したところ、淡黄色透明な生成物603gを得た。H−NMR分析より下記式(2)で表される片末端アミノシリコーン前駆体であることが確認された(0.98mol、収率98%)。GC測定による該化合物の純度は98.1%だった。
BuMeSiO(MeSiO)MeSiCN(SiMe(2)
図1にH−NMRデータを記載する。
片末端アミノシリコーンの合成
上記実施例1で得られた片末端アミノシリコーン前駆体306g(0.5mol)、溶剤イソプロピルアルコール306g、及びトリフロロ酢酸1.5gをジムロート、温度計を付けた、攪拌可能な1Lフラスコに仕込み、70℃で3時間反応させた。GC測定上で式(2)で表される片末端アミノシリコーン前駆体がほぼ消失したこと、及び、片末端アミノシリコーンのピークを確認した。反応率は99%以上であった。フラスコを室温まで冷却し、キョーワード(登録商標)500(協和化学工業株式会社製)を9g投入し、1時間攪拌後、反応液を濾過した。濾液から溶剤イソプロピルアルコールを内温130℃まで減圧留去し、淡黄色透明な生成物215gを得た。H−NMR分析により下記式(3)で表される片末端アミノシリコーンであることを確認した(0.46mol、収率92%)。GC測定による該化合物の純度は92.8%だった。また該化合物のGPCを測定したところシロキサン結合の切断は見られなかった。
BuMeSiO(MeSiO)MeSiCNH(3)
片末端アミノシリコーンの蒸留
上記で得た片末端アミノシリコーンを蒸留した。
沸点:116℃/21Pa GC純度:97.6% 無色透明液体が得られた。
*物性; 粘度(25℃)4.3mm2/s 屈折率(25℃)1.4184
片末端アクリルアミドシリコーンの合成
上記の蒸留で得た片末端アミノシリコーン140.7g(0.3mol)、ヘキサン460g、および8.7%炭酸ソーダ水、800gを、ジムロート、温度計、滴下ロートを付けた、攪拌可能な2Lフラスコに仕込んだ。これに、攪拌下、0℃〜5℃で滴下ロートよりアクリル酸クロライド40.7g(0.45mol)を1時間かけ滴下した。0℃〜10℃で2時間熟成した。室温で下層である水相を分離除去し、イオン交換水で上層である有機相を3回洗浄し、有機層を減圧ストリップに付した。無色透明な片末端アクリルアミドシリコーン136 g(0.26mol、収率 87 %)を得た。粘度(25℃)53.5mm2/s 、屈折率(25℃)1.4342、 GC純度97.3%

[実施例2]
片末端メタアクリルアミドシリコーンの合成
実施例1で用いたアクリル酸クロライド40.7g(0.45mol)に替えメタクリル酸クロライド47.0g(0.45mol)を使用した以外は、実施例1の手順を繰り返し、無色透明な片末端メタクリルアミドシリコーン143 g( 0.27 mol、収率 89 %)を得た。粘度(25℃)32.9mm2/s 屈折率(25℃)1.4418 GC純度97.8%
本発明の製造方法は、片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを非常に安価かつ容易に、並びに高純度で、工場スケールにて製造することを可能にする。

Claims (4)

  1. 一般式[III]で示される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する方法において、
    R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6NHC(=O)CX=CH2 [III]
    (ここでmは1〜200の整数、R’は炭素数1〜4アルキル基、Rは炭素数1〜10のアルキル基、XはH又はメチル基である)
    一般式[1]で示される片末端アミノシリコーン前駆体
    R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6N(SiR3)2 [I]
    (式中、m、R’、及びRは上記の通りである)
    を脱シリル化反応することで、一般式[II]で示される片末端アミノシリコーンを製造し、
    R’R2SiO(R2SiO)mR2SiC3H6NH2 [II]
    (式中、m、R’、及びRは上記の通りである)
    これと(メタ)アクリル酸クロライドを反応させて上記一般式[III]で示される片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンを製造する方法。
  2. Rがメチル基である請求項1記載の方法。
  3. 脱シリル化反応をアルコール存在下で行う、請求項1又は2記載の製造方法。
  4. 脱シリル化反応を酸触媒存在下で行う、請求項1〜3のいずれか1項記載の製造方法。
JP2015179913A 2015-09-11 2015-09-11 片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法 Active JP6574120B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015179913A JP6574120B2 (ja) 2015-09-11 2015-09-11 片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015179913A JP6574120B2 (ja) 2015-09-11 2015-09-11 片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2017052738A true JP2017052738A (ja) 2017-03-16
JP6574120B2 JP6574120B2 (ja) 2019-09-11

Family

ID=58320499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015179913A Active JP6574120B2 (ja) 2015-09-11 2015-09-11 片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP6574120B2 (ja)

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08134081A (ja) * 1994-11-08 1996-05-28 Yuki Gosei Kogyo Co Ltd 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラオルガノジシロキサンの製造方法
JPH11322766A (ja) * 1998-05-11 1999-11-24 Shin Etsu Chem Co Ltd ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼン化合物の製造方法
WO2009025924A2 (en) * 2007-06-11 2009-02-26 Ndsu Research Foundation Anchored polysiloxane-modified polyurethane coatings and uses thereof
JP2013525512A (ja) * 2010-03-18 2013-06-20 東レ株式会社 シリコーン(メタ)アクリルアミドモノマー、ポリマー、眼用レンズおよびコンタクトレンズ

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08134081A (ja) * 1994-11-08 1996-05-28 Yuki Gosei Kogyo Co Ltd 1,3−ビス(3−アミノプロピル)−1,1,3,3−テトラオルガノジシロキサンの製造方法
JPH11322766A (ja) * 1998-05-11 1999-11-24 Shin Etsu Chem Co Ltd ビス(3−アミノプロピルジメチルシリル)ベンゼン化合物の製造方法
WO2009025924A2 (en) * 2007-06-11 2009-02-26 Ndsu Research Foundation Anchored polysiloxane-modified polyurethane coatings and uses thereof
JP2013525512A (ja) * 2010-03-18 2013-06-20 東レ株式会社 シリコーン(メタ)アクリルアミドモノマー、ポリマー、眼用レンズおよびコンタクトレンズ

Also Published As

Publication number Publication date
JP6574120B2 (ja) 2019-09-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5627458B2 (ja) エポキシ官能性有機シランの制御された加水分解及び縮合並びに該エポキシ官能性有機シランと他の有機官能性アルコキシシランとの共縮合のための方法
FI127433B (fi) Menetelmä siloksaanimonomeerien syntetisoimiseksi sekä näiden käyttö
EP3385268A1 (en) Linear organopolysiloxane having different functional groups at both terminals, and method for producing same
US9951185B2 (en) Aminosiloxanes of high purity
JP2012233110A (ja) 末端アルコキシ変性オルガノポリシロキサン及びその製造方法
JP2017014320A (ja) 架橋性ケイ素化合物の製造方法
JP2015129230A (ja) 表面改質剤及び物品
JP5407776B2 (ja) アミノ基を有する有機ケイ素化合物及びその製造方法
JP6573511B2 (ja) 片末端アミノシリコーンの製造方法
JP5346593B2 (ja) 官能基を有するかご開裂型シロキサン樹脂とその製造方法
JP6214625B2 (ja) 新規の、簡単に製造可能な、voc還元された、環境保護性の(メタ)アクリルアミド官能性シロキサン系、その製造法ならびに前記シロキサン系の使用
JP6574120B2 (ja) 片末端(メタ)アクリルアミドシリコーンの製造方法
JP5601269B2 (ja) フルオロアルキル基を有するアルコキシシラン化合物及びその製造方法
JP2006282725A (ja) ケイ素含有新規光学活性化合物
JP5601270B2 (ja) フルオロアルキル基を有するシラザン化合物及びその製造方法
JP6191566B2 (ja) 有機ケイ素化合物
KR20080053034A (ko) β-시아노 에스테르기를 함유한 유기 규소 화합물의제조방법
JP6048380B2 (ja) オキセタン環を有する有機珪素化合物及びその製造方法
JP2014047207A (ja) 新規有機珪素化合物及びその製造方法
JP5913208B2 (ja) 新規フルオレン化合物及びその製造方法
JPH04243884A (ja) 水素シロキサンの製造方法
US20170073473A1 (en) Silicone having a bis(trialkylsilyl) aminopropyl group at one terminal
JP6685386B2 (ja) (メタ)アクリレート基を有する有機ケイ素化合物およびその製造方法
KR101064063B1 (ko) 알코올성 수산기를 갖는 규소계 수지 및 그의 제조 방법
JP2012188398A (ja) 有機ケイ素化合物の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20170824

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20180427

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20180426

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20180618

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20180619

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20181108

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20181205

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20190227

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20190228

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20190722

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20190815

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6574120

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150