JP2017049521A - 積層型電子写真感光体、及び積層型電子写真感光体の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】電気特性及び耐摩耗性の両立可能な積層型電子写真感光体を提供する。【解決手段】本発明の積層型電子写真感光体は、感光層を備える。感光層は、電荷発生剤を含有する電荷発生層と、正孔輸送剤、バインダー樹脂、及びシリカ粒子を含有する電荷輸送層とを備える。電荷輸送層は一層である。電荷輸送層は、最表面層として配置される。正孔輸送剤は、スチリルトリアリールアミン構造を有する化合物を含有する。正孔輸送剤の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して５５質量部以下である。シリカ粒子の表面は、ヘキサメチルジシラザンで処理されている。シリカ粒子の平均一次粒径は、５０μｍ以上１５０μｍ以下である。シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１５質量部以下である。【選択図】図１

Description

本発明は、積層型電子写真感光体、及び積層型電子写真感光体の製造方法に関する。

電子写真感光体は、像担持体として電子写真方式の画像形成装置（例えば、プリンター、又は複合機）において用いられている。電子写真感光体は、感光層を備える。電子写真感光体としては、例えば、積層型電子写真感光体が用いられる。積層型電子写真感光体においては、感光層は、電荷輸送の機能を有する電荷輸送層と、電荷発生の機能を有する電荷発生層とを備える。

特許文献１に記載の電子写真感光体は、感光体の表面層に変性ポリカーボネート樹脂とシリカ粒子とを含有する。変性ポリカーボネート樹脂は、シロキサン構造の繰り返し単位を含む。シリカ粒子の体積平均粒径は、０．００５μｍ以上０．０５μｍ未満である。

特開２００１−６６８００号公報

しかしながら、特許文献１に記載の電子写真感光体は、電気特性及び耐摩耗性を両立することが困難である。

本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、電気特性及び耐摩耗性を両立可能な積層型電子写真感光体を提供することにある。また、本発明の目的は、電気特性及び耐摩耗性を両立可能な積層型電子写真感光体の製造方法を提供する。

本発明の積層型電子写真感光体は、感光層を備える。前記感光層は、電荷発生剤を含有する電荷発生層と、正孔輸送剤、バインダー樹脂、及びシリカ粒子を含有する電荷輸送層とを備える。前記電荷輸送層は一層である。前記電荷輸送層は、最表面層として配置される。前記正孔輸送剤は、スチリルトリアリールアミン構造を有する化合物を含有する。前記正孔輸送剤の含有量は、前記バインダー樹脂１００質量部に対して５５質量部以下である。前記シリカ粒子の表面は、ヘキサメチルジシラザンで処理されている。前記シリカ粒子の平均一次粒径は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。前記シリカ粒子の含有量は、前記バインダー樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１５質量部以下である。

本発明の積層型電子写真感光体の製造方法は、上述の積層型電子写真感光体を製造する方法である。前記積層型電子写真感光体の製造方法は、調製工程を備える。前記調製工程では、超音波分散装置を用いて電荷輸送層用塗布液を調製する。前記電荷輸送層用塗布液は、前記正孔輸送剤と、前記バインダー樹脂と、前記シリカ粒子と、溶剤とを含有する。

本発明の積層型電子写真感光体によれば、電気特性及び耐摩耗性を両立することができる。また、本発明の積層型電子写真感光体の製造方法によれば、電気特性及び耐摩耗性を両立可能な積層型電子写真感光体を製造する方法を提供することができる。

（ａ）及び（ｂ）はそれぞれ、本発明の第一実施形態に係る積層型電子写真感光体の構造を示す断面図である。

以下、本発明の実施形態に係る積層型電子写真感光体を説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されない。

以下、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基、炭素原子数５以上７以下のシクロアルカン、及び炭素原子数６以上１４以下のアリール基は、各々、次の意味である。

炭素原子数１以上８以下のアルキル基は、直鎖状又は分枝鎖状で非置換の炭素原子数１以上８以下のアルキル基である。炭素原子数１以上８以下のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、又はオクチル基が挙げられる。

炭素原子数１以上６以下のアルキル基は、直鎖状又は分枝鎖状で非置換の炭素原子数１以上６以下のアルキル基である。炭素原子数１以上６以下のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、又はヘキシル基が挙げられる。

炭素原子数１以上４以下のアルキル基は、直鎖状又は分枝鎖状で非置換の炭素原子数１以上４以下のアルキル基である。炭素原子数１以上４以下のアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、又はｔ−ブチル基が挙げられる。

炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基は、直鎖状又は分枝鎖状で非置換の炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基である。炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、又はオクチルオキシ基が挙げられる。

炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基は、直鎖状又は分枝鎖状で非置換の炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基である。炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基の例としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ネオペンチルオキシ基、又はヘキシルオキシ基が挙げられる。

炭素原子数５以上７以下のシクロアルカンは、例えば、炭素原子数５以上７以下の非置換のシクロアルカンである。炭素原子数５以上７以下のシクロアルカンの例としては、シクロペンタン、シクロヘキサン、又はシクロヘプタンが挙げられる。

炭素原子数６以上１４以下のアリール基は、例えば、炭素原子数６以上１４以下の非置換の芳香族単環炭化水素基、炭素原子数６以上１４以下の非置換の芳香族縮合二環炭化水素基、又は素原子数６以上１４以下の非置換の芳香族縮合三環炭化水素基である。炭素原子数６以上１４以下のアリール基の例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、又はフェナントリル基が挙げられる。

＜第一実施形態：感光体＞
第一実施形態に係る積層型電子写真感光体（以下、感光体と記載することがある）は、感光層を備える。以下、図１を参照して、第一実施形態に係る感光体１０の構造を説明する。図１は、感光体１０の構造を示す断面図である。図１（ａ）に示すように、感光体１０は、例えば、導電性基体１１と、感光層１２とを備える。感光層１２は、電荷発生層１３と電荷輸送層１４とを備える。感光層１２では、電荷発生の機能を有する電荷発生層１３と、電荷輸送の機能を有する電荷輸送層１４とが積層されている。図１（ａ）に示すように、電荷輸送層１４は、感光体１０の最表面層として配置される。電荷輸送層１４は、一層（単層）である。なお、電荷発生層１３は、単層であってもよく、複数層であってもよい。

なお、電荷輸送層が一層であることは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）（日本電子株式会社製「ＪＳＭ−６７００Ｆ」）を用いて、確認することができる。詳しくは、感光層の断面を形成する。ＴＥＭを用いて、感光層の断面の画像を撮影する。得られた画像を観察し、電荷輸送層が一層であることを確認する。

図１（ａ）に示すように、感光層１２は導電性基体１１上に直接的に配置されてもよい。また、図１（ｂ）に示すように、感光体１０は、例えば、導電性基体１１と、中間層１５（下引層）と、感光層１２とを備える。図１（ｂ）に示すように、感光層１２は導電性基体１１上に間接的に配置されてもよい。図１（ｂ）に示すように、中間層１５は、導電性基体１１と電荷発生層１３との間に設けられてもよい。この場合、感光層１２は、導電性基体１１上に中間層１５を介して間接的に設けられる。中間層１５は、例えば、電荷発生層１３と電荷輸送層１４との間に設けられてもよい。

第一実施形態に係る感光体１０では、導電性基体１１上に、電荷発生層１３及び電荷輸送層１４が、この順で積層される。電荷輸送層１４は一層（単層）であり、後述する所定の成分を含有する。このような電荷輸送層１４は、感光体１０の最表面層として配置される。このため、電荷発生層１３を薄く形成し易い。詳しくは、電荷輸送層１４が感光体１０の最表面層として配置されるため、電荷発生層１３の摩耗又は欠損を抑制することができる。また、電荷発生層１３の長寿命化が図られる。電荷発生層１３は、電荷輸送層１４よりも薄く形成してもよい。なお、電荷発生層１３は、単層であってもよく、複数層であってもよい。

また、電荷輸送層１４が感光体１０の最表面層として配置されると、このような構成を有する感光体１０では、画像流れが発生しにくい。更に、このような感光体１０は、低コストで製造し易い。

感光体１０において、一般に、電荷輸送層１４の膜厚は、電荷発生層１３の膜厚と比べて薄い。感光体１０では、電荷輸送層１４が最表面層として配置されているため、長期間使用しても、電荷発生層１３が、摩耗したり、破損したりすることを抑制することができる。

以上、図１を参照して、第一実施形態に係る感光体１０の構造を説明した。続いて、第一実施形態に係る感光体の要素（導電性基体１１、感光層１２、及び中間層１５）を説明する。

（１．導電性基体）
導電性基体は、感光体の導電性基体として用いることができる限り、特に限定されない。導電性基体としては、例えば、少なくとも表面部が導電性を有する材料で構成される導電性基体を用いることができる。

導電性基体としては、例えば、全体的に導電性材料から構成される導電性基体、又は部分的に導電性材料から構成される導電性基体（より具体的には、導電性材料で被覆された導電性基体）が挙げられる。例えば、絶縁性材料（例えば、プラスチック材料又はガラス）の表面が導電性材料（例えば、ヨウ化アルミニウム、アルマイト、酸化スズ、又は酸化インジウム）で被覆（例えば、蒸着、又はラミネート）された導電性基体を用いてもよい。

導電性材料としては、例えば、金属（より具体的には、アルミニウム、鉄、アルミニウム、銅、スズ、白金、銀、バナジウム、モリブデン、クロム、カドミウム、チタン、ニッケル、パラジウム、又はインジウム等）、又は合金（より具体的には、ステンレス鋼、又は真鍮等）が挙げられる。これらの導電性を有する材料のうち、１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて（例えば、合金として）用いてもよい。これらの導電性を有する材料の中でも、感光層から導電性基体への電荷の移動が良好であり、より好適な画像を形成し易いことから、アルミニウム又はアルミニウム合金が好ましい。

導電性基体の形状は、特に限定されない。例えば、感光体を適用する画像形成装置の構造に合わせて適宜選択できる。例えば、シート状の導電性基体、又はドラム状の導電性基体を用いることができる。また、導電性基体の厚みは、導電性基体の形状に応じて、適宜選択することができる。ただし、導電性基体は、使用に際して、十分な機械的強度を有することが好ましい。

（２．感光層）
既に述べたように、感光層は、電荷発生層と、電荷輸送層とを備える。感光層は、添加剤を更に含有してもよい。以下、電荷発生層及び電荷輸送層を説明する。更に、添加剤を説明する。

（２−１．電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生剤、及び電荷発生層用バインダー樹脂（以下、ベース樹脂と記載することがある）を含む。電荷発生層の膜厚は、電荷発生層として十分に作用することができれば、特に限定されない。電荷発生層の膜厚は、具体的には、０．１μｍ以上５μｍ以下であることが好ましく、０．１μｍ以上３μｍ以下であることがより好ましい。以下、電荷発生剤、及びベース樹脂について説明する。

（２−１−１．電荷発生剤）
電荷発生剤は、感光体用の電荷発生剤であれば、特に限定されない。電荷発生剤としては、例えば、フタロシアニン系顔料、ペリレン顔料、ビスアゾ顔料、ジチオケトピロロピロール顔料、無金属ナフタロシアニン顔料、金属ナフタロシアニン顔料、スクアライン顔料、トリスアゾ顔料、インジゴ顔料、アズレニウム顔料、シアニン顔料、セレン、セレン−テルル、セレン−ヒ素、硫化カドミウム、アモルファスシリコンのような無機光導電材料の粉末、ピリリウム塩、アンサンスロン系顔料、トリフェニルメタン系顔料、スレン系顔料、トルイジン系顔料、ピラゾリン系顔料、又はキナクリドン系顔料が挙げられる。

フタロシアニン系顔料としては、例えば、無金属フタロシアニン顔料（より具体的には、Ｘ型無金属フタロシアニン（ｘ−Ｈ₂Ｐｃ））、又はフタロシアニン誘導体（より具体的には、金属フタロシアニン顔料）が挙げられる。金属フタロシアニン顔料としては、例えば、チタニルフタロシアニン（より具体的には、Ｙ型チタニルフタロシアニン（Ｙ−ＴｉＯＰｃ）、又はＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン等）が挙げられる。フタロシアニン系顔料の結晶形状については特に限定されず、種々の結晶形状を有するフタロシアニン系顔料が使用される。フタロシアニン系顔料の結晶形状としては、例えば、α型、β型、又はＹ型が挙げられる。電荷発生剤は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

所望の領域に吸収波長を有する電荷発生剤を単独で用いてもよいし、２種以上の電荷発生剤を組み合わせることで、所望の波長領域に感度を有する感光体体を形成してもよい。例えば、デジタル光学系の画像形成装置（例えば、半導体レーザーのような光源を使用したレーザービームプリンター、又はファクシミリ）には、７００ｎｍ以上の波長領域に感度を有する感光体を用いることが好ましい。そのため、例えば、フタロシアニン系顔料（例えば、Ｘ型無金属フタロシアニン（ｘ−Ｈ₂Ｐｃ）、又はＹ型チタニルフタロシアニン（Ｙ−ＴｉＯＰｃ））が好適に用いられる。

短波長レーザー光源を用いた画像形成装置には、短波長領域（例えば、３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の波長領域）に感度を有する感光体を用いることが好ましい。こうした感光体を形成するためには、電荷発生剤として、アンサンスロン系顔料、又はペリレン系顔料が好適に用いられる。

電荷発生剤としては、例えば、式（ＣＧＭ−１）で表されるチタニルフタロシアニン（以下、チタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−１）と記載することがある）が挙げられる。

電荷発生剤の含有量は、ベース樹脂１００質量部に対して５質量部以上１，０００質量部以下であることが好ましく、３０質量部以下５００質量部以上であることがより好ましい。

（２−１−２．ベース樹脂）
ベース樹脂は、電荷発生層用の樹脂であれば、特に限定されない。ベース樹脂としては、例えば、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエーテル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、エポキシアクリル酸樹脂、又はウレタン−アクリル酸樹脂が挙げられる。ベース樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、又はポリビニルアセタール樹脂が好適に使用される。これらのベース樹脂は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

ベース樹脂は、後述するバインダー樹脂と同様の樹脂も例示されているが、同一の感光体においては、通常、バインダー樹脂と異なる樹脂が選択される。このことは、以下のことによる。感光体を製造する際、通常、電荷発生層を形成した後に電荷発生層上に電荷輸送層を形成する。そのため、電荷発生層に、電荷輸送層用塗布液を塗布することになる。電荷輸送層を形成する際に、電荷発生層のベース樹脂が電荷輸送層用塗布液の溶剤に溶解しないことが求められるからである。そこで、ベース樹脂は、同一の感光体においては、バインダー樹脂とは異なる樹脂であることが好ましい。

（２−２．電荷輸送層）
電荷輸送層は、正孔輸送剤、シリカ粒子、及びバインダー樹脂を含有する。電荷輸送層の膜厚は、電荷輸送層として十分に作用することができれば、特に限定されない。電荷輸送層の膜厚は、具体的には、２μｍ以上１００μｍ以下であることが好ましく、５μｍ以上５０μｍ以下であることがより好ましい。以下、正孔輸送剤、シリカ粒子、及びバインダー樹脂について説明する。

（２−２−１．正孔輸送剤）
正孔輸送剤は、スチリルトリアリールアミン構造を有する化合物（以下、スチリルトリアリールアミン誘導体と記載することがある）を含有する。スチリルトリアリールアミン構造とは、化学式（１）で表される構造である。

スチリルトリアリールアミン誘導体において、スチリルトリアリールアミン構造を有することにより、正孔輸送剤のイオン化ポテンシャルを低下させることができる。これにより、スチリルトリアリールアミン誘導体と電荷発生剤との間における電荷授受のエネルギーギャップが小さくなり、電荷輸送効率を効果的に向上させることができる。正孔輸送剤としてスチリルトリアリールアミン誘導体を含有すると、電荷発生層と電荷輸送層との界面における電荷の移動を効果的に向上させることができる。従って、電荷輸送層がスチリルトリアリールアミン誘導体を含有する場合、感光体の優れた電気特性を実現することができる。

電荷輸送層における正孔輸送剤の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、５５質量部以下であり、１０質量部超５５質量部以下であることが好ましい。正孔輸送剤の含有量が５５質量部以下であると、感光体の耐摩耗性及び電気特性（繰り返し特性）を両立することができる。正孔輸送剤の含有量が１０質量部を超えると、初期の感度を向上させることができる。

正孔輸送剤の含有量が３０質量部以上６０質量部以下である場合、電荷輸送層中におけるスチリルトリアリールアミン誘導体の分散性が向上し、電荷輸送効率が向上すると考えられる。その結果、優れた電気特性を得られ易い。

スチリルトリアリールアミン誘導体としては、例えば、一般式（２）、（３）、（４）、又は（５）で表される化合物が挙げられる。

一般式（２）中、Ｒ₁は、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１以上８以下のアルキル基で置換されてもよいフェニル基を表す。Ｒ₂は、各々独立に、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基で表す。Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇のうち隣接した二つは、互いに結合して環を形成してもよい。ａは、０以上５以下の整数を表す。ａが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ₂は、互いに同一でも異なっていてもよい。

一般式（３）中、Ｒ₈、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、及びＲ₁₄は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。Ｒ₉、及びＲ₁₅は、各々独立に、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表す。ｂは、０以上５以下の整数を表す。ｂが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ₉は、互いに同一でも異なっていてもよい。ｃは、０以上４以下の整数を表す。ｃが２以上４以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ₁₅は、互いに同一でも異なっていてもよい。ｎは、０又は１を表す。

一般式（４）中、Ｒ_a、Ｒ_b、及びＲ_cは、各々独立に、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、フェニル基、又は炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基を表す。ｑは、０以上４以下の整数を表す。ｑが２以上４以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ_cは、互いに同一でも異なっていてもよい。ｍ及びｋは、各々独立に、０以上５以下の整数を表す。ｍが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ_bは、互いに同一でも異なっていてもよい。ｋが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ_aは、互いに同一でも異なっていてもよい。

一般式（５）中、Ａｒ₁は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基からなる群から選択される１つ以上の置換基で置換されてもよいアリール基、又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基で置換されてもよい複素環基を表す。Ａｒ₂は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基からなる群より選択される１以上の置換基で置換されてもよいアリール基を表す。

一般式（２）中、Ｒ₁の表すフェニル基は、炭素原子数１以上８以下のアルキル基で置換されたフェニル基であることが好ましく、メチル基で置換されたフェニル基であることがより好ましい。

一般式（２）中、Ｒ₂の表す炭素原子数１以上８以下のアルキル基は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基であることが好ましく、炭素原子数１以上４以下のアルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。ａは、０又は１を表すことが好ましい。

一般式（２）中、Ｒ₃〜Ｒ₇の表す炭素原子数１以上８以下のアルキル基は、炭素原子数１以上４以下のアルキル基であることが好ましく、メチル基、エチル基、又はｎ−ブチル基であることがより好ましい。一般式（２）中、Ｒ₃〜Ｒ₇の表す炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基は、メトキシ基であることが好ましい。一般式（２）中、Ｒ₃〜Ｒ₇は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、又は炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基を表すことが好ましく、水素原子、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、又はメトキシ基を表すことがより好ましい。

一般式（２）中、Ｒ₃〜Ｒ₇のうちの隣接した二つが互いに結合して、環（より具体的には、ベンゼン環、又は炭素原子数５以上７以下のシクロアルカン）を形成してもよい。例えば、Ｒ₃〜Ｒ₇のうちの隣接したＲ₆とＲ₇とが互いに結合して、ベンゼン環、又は炭素原子数５以上７以下のシクロアルカンを形成してもよい。Ｒ₃〜Ｒ₇のうちの隣接した二つが互いに結合してベンゼン環を形成する場合、このベンゼン環はＲ₃〜Ｒ₇が結合するフェニル基と縮合して二環縮合環基（ナフチル基）を形成する。Ｒ₃〜Ｒ₇のうちの隣接した二つが互いに結合して炭素原子数５以上７以下のシクロアルカンを形成する場合、この炭素原子数５以上７以下のシクロアルカンはＲ₃〜Ｒ₇が結合するフェニル基と縮合して二環縮合環基を形成する。この場合、炭素原子数５以上７以下のシクロアルカンとフェニル基との縮合部位は、二重結合を含んでもよい。Ｒ₃〜Ｒ₇のうちの隣接した二つが互いに結合して、炭素原子数５以上７以下のシクロアルカンを形成することが好ましく、シクロヘキサンを形成することがより好ましい。

一般式（２）中、Ｒ₁は、各々独立に、水素原子、又は炭素原子数１以上８以下のアルキル基で置換されたフェニル基を表すことが好ましい。Ｒ₂は、炭素原子数１以上８以下のアルキル基を表すことが好ましい。Ｒ₃〜Ｒ₇は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、又は炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基を表すことが好ましい。Ｒ₃〜Ｒ₇のうち隣接した二つが互いに結合して環を形成することが好ましい。ａは、０又は１を表すことが好ましい。

一般式（３）中、Ｒ₈及びＲ₁₀〜Ｒ₁₄の表す炭素原子数１以上８以下のアルキル基は、炭素原子数１以上４以下のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基であることが好ましい。一般式（３）中、Ｒ₈及びＲ₁₀〜Ｒ₁₄は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、又はフェニル基を表すことが好ましい。一般式（３）中、ｂ及びｃは、０を表すことが好ましい。

一般式（４）中、Ｒ_a及びＲ_bの表す炭素原子数１以上８以下のアルキル基は、炭素原子数１以上４以下のアルキル基であることが好ましく、メチル基又はエチル基を表すことがより好ましい。一般式（４）中、Ｒ_a及びＲ_bは、炭素原子数１以上８以下のアルキル基を表すことが好ましい。ｍ及びｋは、各々独立に、０以上２以下の整数を表すことが好ましい。ｑは０を表すことが好ましい。

一般式（５）中、Ａｒ₁の表すアリール基としては、例えば、炭素原子数６以上１４以下のアリール基が挙げられる。一般式（５）中、Ａｒ₁の表すアリール基は、置換基で置換されてもよい。このような置換基は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基からなる群より選択される置換基である。一般式（５）中、Ａｒ₁の表すアリール基は、炭素原子数１以上４以下のアルキル基で置換されたフェニル基であることが好ましく、メチル基及びエチル基で置換されたフェニル基であることがより好ましい。一般式（５）中、Ａｒ₂の表すアリール基は、フェニル基を表すことが好ましい。

一般式（５）中、Ａｒ₁の表す複素環基は、例えば、１個以上（好ましくは１個以上３個以下）のヘテロ原子を含み、芳香族性を有する５員又は６員の単環の複素環基；このような単環同士が縮合した複素環基；又は、このような単環と、５員又は６員の炭化水素環とが縮合した複素環基が挙げられる。ヘテロ原子は、窒素原子、硫黄原子、及び酸素原子からなる群から選択される１種以上である。複素環基の具体例としては、チオフェニル基、フラニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、イソチアゾリル基、イソオキサゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、ピラニル基、ピリジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、ピラジニル基、インドリル基、１Ｈ−インダゾリル基、イソインドリル基、クロメニル基、キノリニル基、イソキノリニル基、プリニル基、プテリジニル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、４Ｈ−キノリジニル基、ナフチリジニル基、ベンゾフラニル基、１，３−ベンゾジオキソリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、又はベンズイミダゾリル基が挙げられる。一般式（５）中、Ａｒ₁の表す複素環基は、置換基で置換されてもよい。このような置換基は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基からなる群より選択される置換基である。

一般式（５）中、Ａｒ₁は、炭素原子数１以上４以下のアルキル基で置換されたフェニル基を表すことが好ましい。Ａｒ₂は、フェニル基を表すことが好ましい。

一般式（２）で表される化合物の好適な例としては、式（ＨＴＭ−１）〜（ＨＴＭ−４）で表される化合物（以下、正孔輸送剤（ＨＴＭ−１）〜（ＨＴＭ−４）と記載することがある）が挙げられる。

一般式（３）で表される化合物の好適な例としては、式（ＨＴＭ−５）〜（ＨＴＭ−７）で表される化合物（以下、正孔輸送剤（ＨＴＭ−５）〜（ＨＴＭ−７）と記載することがある）が挙げられる。

一般式（４）で表される化合物の好適な例としては、式（ＨＴＭ−８）〜（ＨＴＭ−９）で表される化合物（以下、正孔輸送剤（ＨＴＭ−８）〜（ＨＴＭ−９）と記載することがある）が挙げられる。

一般式（５）で示される化合物の好適な例としては、式（ＨＴＭ−１０）で表される化合物（以下、正孔輸送剤（ＨＴＭ−１０）と記載することがある）が挙げられる。

また、電荷輸送層は、スチリルトリアリールアミン誘導体とは異なる正孔輸送剤を更に含有してもよい。

正孔輸送剤として代表的な含窒素環式化合物及び縮合多環式化合物としては、例えば、スチリルトリアリールアミン系化合物（スチリルトリアリールアミン誘導体を除く）、オキサジアゾール系化合物（例えば、２，５−ジ（４−メチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）、スチリル系化合物（例えば、９−（４−ジエチルアミノスチリル）アントラセン）、カルバゾール系化合物（例えば、ポリビニルカルバゾール）、有機ポリシラン化合物、ピラゾリン系化合物（例えば、１−フェニル−３−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）ピラゾリン）、ヒドラゾン系化合物、インドール系化合物、オキサゾール系化合物、イソオキサゾール系化合物、チアゾール系化合物、チアジアゾール系化合物、イミダゾール系化合物、ピラゾール系化合物、又はトリアゾール系化合物が挙げられる。なお、正孔輸送剤は、１種単独で用いられてもよく、２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

スチリルトリアリールアミン誘導体とは異なる正孔輸送剤を更に含有する場合、この正孔輸送剤の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、１質量部以上１００質量部以下であることが好ましい。

（２−２−２．シリカ粒子）
既に述べたように、電荷輸送層はシリカ粒子を含有する。電荷輸送層がシリカ粒子を含有すると、シリカ粒子以外の粒子（例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモン若しくはタンタルをドープした酸化スズ、又は酸化ジルコニウム）を含有する場合と比較して、耐摩耗性及び電荷輸送層に優れた感光層が得られる傾向がある。更に、シリカ粒子は、容易に表面処理されるとともに、低コストで製造でき、粒子径の調製が容易である。

シリカ粒子の平均一次粒径は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることが好ましい。シリカ粒子の平均一次粒径が５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であると、感光体の耐摩耗性の低下しにくく、感光層表面の異物が発生しにくい。また、バインダー樹脂中のシリカ粒子の分散性が低下しにくい。シリカ粒子の平均一次粒径の測定方法は、実施例で詳細に説明する。

シリカ粒子の平均一次粒径は、以下の方法で測定される。測定試料として、シリカ（複数のシリカ粒子である粉体）を使用する。測定試料の−１９６℃でのＮ₂吸着等温線を測定する。得られたＮ₂吸着等温線をＢｒｕｎａｕｅｒ、Ｅｍｍｅｔｔ及びＴｅｌｌｅｒの方法、更にＤｅ Ｂｏｅｒによるｔ曲線法に従って評価する。これにより測定試料の比表面積を算出する。得られた測定試料の比表面積から、数式「Ｓ＝６／ρｄ」に従って、測定試料の粒径を算出する。数式中、Ｓは測定試料の比表面積を、ρは測定試料の密度を、ｄは測定試料の粒径を示す。算出された測定試料の粒径を、シリカ粒子の平均一次粒径とする。なお、シリカ粒子の平均一次粒径を測定する別の方法としては、例えば、透過型電子顕微鏡を用いて測定試料の画像を撮影し、得られた画像から平均一次粒径を算出する方法も挙げられる。

シリカ粒子の表面は、耐摩耗性及び耐クラック性を向上させるために、表面処理剤で処理されている。表面処理剤は、ヘキサメチルジシラザンである。ヘキサメチルジシラザンを用いてシリカ粒子を表面処理すると、シリカ粒子の表面の水酸基を低減できる。この理由として、ヘキサメチルジシラザンと水酸基との反応性が良好であるためと考えられる。その結果、水分（湿度）による感光体の電気特性の低下を抑制することができる。

更に、表面処理剤として、ヘキサメチルジシラザンを用いることにより、シリカ粒子表面から表面処理剤の遊離を抑制することができる。このため、表面処理剤の遊離を抑制することにより、遊離した表面処理剤による電荷トラップ、及び電荷トラップに起因した感度の繰り返し特性の低下を抑制することができる。

ヘキサメチルジシラザンを用いてシリカ粒子の表面を表面処理すると、シリカ表面の水酸基がシリル化され、シリカ粒子の表面は化学式（６）で表される部位を有する。

電荷輸送層における、シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１５質量部以下であることが好ましい。感光層の最表面層に適量のシリカ粒子を含有させることで、耐摩耗性及び電気特性の両立可能な感光体が得られる。

（２−２−３．バインダー樹脂）
バインダー樹脂は、電荷輸送層内の材料（例えば、正孔輸送剤、又はシリカ粒子）を結着させる。バインダー樹脂としては、公知のポリカーボネート樹脂が挙げられる。バインダー樹脂としては、例えば、式（Ｒｅｓｉｎ−１）若しくは（Ｒｅｓｉｎ−２）で表されるポリカーボネート樹脂（以下、ポリカーボネート樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）〜（Ｒｅｓｉｎ−２）と記載することがある）、又は式（Ｒｅｓｉｎ−３）で表される繰り返し単位を有するポリカーボネート樹脂（以下、ポリカーボネート樹脂（Ｒｅｓｉｎ−３）と記載することがある）が挙げられる。なお、式（Ｒｅｓｉｎ−１）及び（Ｒｅｓｉｎ−２）中の添え字（２０、８０）はそれぞれ、ポリカーボネート樹脂における繰り返し構造単位の割合（モル％）を示している。

バインダー樹脂は、ポリカーボネート樹脂のみを含有してもよいし、ポリカーボネート樹脂以外の樹脂を含有してもよい。バインダー樹脂におけるポリカーボネート樹脂の含有量は、９５質量％以上であることが好ましく、１００質量％であることがより好ましい。

ポリカーボネート樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）〜（Ｒｅｓｉｎ−３）とは異なる樹脂を含有してもよい。このようなバインダー樹脂としては、例えば、熱可塑性樹脂（例えば、ポリカーボネート樹脂（ポリカーボネート樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）〜（Ｒｅｓｉｎ−３）以外のポリカーボネート樹脂）、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル共重合体、スチレン−アクリル酸共重合体、ポリエチレン樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体、塩素化ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリプロピレン樹脂、アイオノマー樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アルキド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスルホン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ケトン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、又はポリエーテル樹脂）、熱硬化性樹脂（例えば、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、又はメラミン樹脂）、又は光硬化性樹脂（例えば、エポキシアクリル酸樹脂、又はウレタン−アクリル酸樹脂）が挙げられる。これらのバインダー樹脂は、１種単独で用いられてもよく、２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

バインダー樹脂の粘度平均分子量は、４０，０００以上であることが好ましく、４０，０００以上６０，０００以下であることがより好ましい。バインダー樹脂の粘度平均分子量が４０，０００以上であると、バインダー樹脂の耐摩耗性を高い傾向にある。このため、感光体の電荷輸送層の摩耗を抑制しやすくなる。また、バインダー樹脂の粘度平均分子量が６０，０００以下であると、バインダー樹脂が適度な溶解性を有する傾向があるため、非ハロゲン系極性及び無極性混合溶剤に溶解し易くなる。その結果、電荷輸送層用塗布液を調製し易くなり、好適な電荷輸送層を形成し易くなる。

（２−３．添加剤）
本実施形態に係る感光体においては、感光層（電荷発生層、電荷輸送層）、及び中間層の少なくとも１つが、各種添加剤を含有していてもよい。添加剤の好適な例としては、劣化防止剤（酸化防止剤、ラジカル捕捉剤、消光剤、又は紫外線吸収剤）、軟化剤、表面改質剤、増量剤、増粘剤、分散安定剤、ワックス、アクセプタ、ドナー、界面活性剤、又はレベリング剤が挙げられる。以下、電子アクセプター化合物、及び酸化防止剤を説明する。

（２−３−１．電子アクセプター化合物）
電荷輸送層は、正孔輸送剤に加えて電子アクセプター化合物を更に含有してもよい。電子アクセプター化合物としては、例えば、キノン誘導体、アントラキノン誘導体、マロノニトリル誘導体、チオピラン誘導体、トリニトロチオキサントン誘導体、３，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン誘導体、ジニトロアントラセン誘導体、ジニトロアクリジン誘導体、ニトロアントラキノン誘導体、ジニトロアントラキノン誘導体、テトラシアノエチレン、２，４，８−トリニトロチオキサントン、ジニトロベンゼン、ジニトロアントラセン、ジニトロアクリジン、ニトロアントラキノン、ジニトロアントラキノン、無水コハク酸、無水マレイン酸、又はジブロモ無水マレイン酸が挙げられる。これらの電子アクセプター化合物は、１種単独で用いられてもよく、２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

電子アクセプター化合物の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上２０質量部以下であることが好ましい。

（２−３−２．酸化防止剤）
電荷輸送層は、酸化防止剤を含有してもよい。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系化合物、ヒンダードアミン系化合物、チオエーテル系化合物、又はホスファイト系化合物が挙げられる。これらの酸化防止剤の中でも、ヒンダードフェノール系化合物及びヒンダードアミン系化合物が好ましい。

電荷輸送層中の酸化防止剤の添加量は、バインダー樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上１０質量部以下であることが好ましい。酸化防止剤の添加量がこのような範囲内であると、感光体が酸化されることによる電気特性の低下を抑制し易い。

（３．中間層）
感光体は、中間層を備えることにより、導電性基体及び感光層の密着性を向上させることができる。また、中間層内に所定の微粉末を添加することにより、入射光を散乱させて、干渉縞の発生を抑制し易い。また、干渉縞の発生の抑制と共に、カブリや黒点の原因となる非露光時における導電性基体から感光層への電荷注入を抑制し易い。感光層への電荷注入の抑制により、カブリや黒点の発生を抑制し易い。

中間層に添加する微粉末としては、光散乱性、及び分散性を有するものであれば特に限定されるものではないが、例えば、白色顔料（例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、亜鉛華、硫化亜鉛、鉛白、又はリトポン）、体質顔料としての無機顔料（例えば、アルミナ、炭酸カルシウム、又は硫酸バリウム）、フッ素樹脂粒子、ベンゾグアナミン樹脂粒子、又はスチレン樹脂粒子が挙げられる。

なお、中間層の膜厚は、０．１μｍ以上５０μｍ以下であることが好ましい。

以上のように、感光体が中間層を備えると、導電性基体側からの電荷注入が抑制され、部分的な絶縁破壊を防止する効果を有する。

以上説明したように、第一実施形態に係る感光体では、正孔輸送剤が、スチリルトリアリールアミン構造を有する化合物を含有する。また、電荷輸送層に含まれるシリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１５質量部以下である。そして、シリカ粒子の平均一次粒径は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下である。シリカ粒子の表面は、ヘキサメチルジシラザンで処理されている。こうした構成を有する感光体は、耐摩耗性及び電気特性を両立することができる。このため、第一実施形態に係る感光体は、各種画像形成装置で好適に使用できる。

＜第二実施形態：感光体の製造方法＞
第二実施形態に係る感光体の製造方法は、例えば、感光層形成工程を有する。感光層形成工程は、電荷発生層形成工程と電荷輸送層形成工程とを有する。

（１．電荷発生層形成工程）
電荷発生層形成工程では、まず、電荷発生層を形成するための塗布液（以下、電荷発生層用塗布液と記載することがある）を調製する。次いで、このようにして得られた電荷発生層用塗布液を、導電性基体上に塗布する。その後、適宜な方法で乾燥することによって、塗布した電荷発生層用塗布液に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去する。これにより導電性基体上に所定の膜厚の電荷発生層を形成する。電荷発生層用塗布液は、例えば、電荷発生剤と、ベース樹脂と、溶剤とを含む。このような電荷発生層用塗布液は、電荷発生剤及びベース樹脂を、溶剤に溶解又は分散させることにより調製する。電荷発生層用塗布液は、必要に応じて各種添加剤（例えば、界面活性剤又はレベリング剤）を加えてもよい。

（２．電荷輸送層形成工程）
電荷輸送層形成工程では、まず、電荷輸送層を形成するための塗布液（以下、電荷輸送層用塗布液と記載することがある）を調製する。電荷輸送層用塗布液を電荷発生層上に塗布する。次いで、適宜な方法で乾燥することによって、塗布した電荷輸送層用塗布液に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去する。これにより電荷発生層上に、電荷輸送層を形成する。電荷輸送層用塗布液は、電子輸送剤と、バインダー樹脂と、シリカ粒子と、溶剤とを含む。このような電荷輸送層用塗布液は、電子輸送剤、バインダー樹脂、及びシリカ粒子を、溶剤に溶解又は分散させることにより調製することができる。電荷輸送層用塗布液には、必要に応じて、各種添加剤（例えば、界面活性剤又はレベリング剤）を加えてもよい。

電荷輸送層用塗布液の調製では、超音波分散装置を用いて分散することが好ましい。超音波分散装置を用いて電荷輸送層用塗布液を調製すると、電荷輸送層用塗布液中でシリカ粒子を良好に分散させることができる。その結果、電荷輸送層中にシリカ粒子が適度に分散させることができる。耐摩耗性及び電気特性の両立可能な感光体を製造することができる。このような超音波分散装置の周波数は、１５Ｈｚ以上１，０００Ｈｚ以下であることが好ましい。分散時間は、５分以上３時間以下であることが好ましい。分散温度は、２０℃以上６０℃以下であることが好ましい。

以下、電荷発生層形成工程及び電荷輸送層形成工程を例に挙げ、感光層形成工程の詳細を説明する。

電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液に含有される溶剤は、それぞれ電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液に含まれる各成分を溶解又は分散できれば、特に限定されない。これらの塗布液を調製するための溶剤として、種々の有機溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、又はブタノール）、脂肪族系炭化水素（例えば、ｎ−ヘキサン、オクタン、又はシクロヘキサン）、芳香族系炭化水素（例えば、ベンゼン、トルエン、又はキシレン）、ハロゲン化炭化水素（例えば、ジクロロメタン、ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素、又はクロロベンゼン）、エーテル類（例えば、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、１，３−ジオキソラン、又は１，４−ジオキサン）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、又はシクロヘキサノン）、エステル類（例えば、酢酸メチル、又は酢酸エチル）、ジメチルホルムアルデヒド、ジメチルホルムアミド、又はジメチルスルホキシドが挙げられる。これらの有機溶剤は、１種単独で用いられてもよく、２種以上を組み合わせて用いられてもよい。

更に、電荷輸送層用塗布液に含有される溶剤は、電荷発生層用塗布液に含有される溶剤と、異なることが好ましい。感光体を製造する際、通常、電荷発生層、電荷輸送層の順に形成するため、電荷発生層上に、電荷輸送層用塗布液を塗布することになる。電荷輸送層形成時に、電荷発生層は、電荷輸送層用塗布液の溶剤に溶解しないことが求められるからである。

また、電荷発生層用塗布液は、各成分を混合し、混合物を溶剤に分散させることによって調製される。混合又は分散には、例えば、ビーズミル、ロールミル、ボールミル、アトライター、ペイントシェーカー、又は超音波分散装置を用いることができる。

電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液は、各成分の分散性、又は形成される各々の層の表面平滑性を向上させるために、例えば、界面活性剤又はレベリング剤を含有してもよい。

電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液を塗布する方法としては、電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液を均一に塗布できる方法であれば、特に限定されない。塗布方法としては、例えば、ディップコート法、スプレーコート法、スピンコート法、又はバーコート法が挙げられる。

電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液に含まれる溶剤の少なくとも一部を乾燥する方法としては、電荷発生層用塗布液及び電荷輸送層用塗布液中の溶剤を好適に蒸発させ得る方法であれば、特に限定されない。除去する方法としては、例えば、加熱、加圧、又は加熱と減圧との併用が挙げられる。より具体的には、高温乾燥機又は減圧乾燥機を用いて熱処理（熱風乾燥）する方法が挙げられる。熱処理の条件は、処理温度が４０℃以上１５０℃以下であり、処理時間が３分間以上１２０分間以下であることが好ましい。

なお、感光体の製造方法は、必要に応じて中間層を形成する工程を更に有してもよい。中間層を形成する工程は、公知の方法を適宜選択することができる。

以上説明したように、第二実施形態に係る感光体の製造方法は、超音波分散装置により調製した電荷輸送層用塗布液を用いて電荷輸送層を形成する電荷輸送層形成工程を有する。このため、シリカ粒子が電荷輸送層用塗布液中で適度に分散し、シリカ粒子が適度に分散した電荷輸送層が形成される。こうした構成を有する感光体の製造方法は、耐摩耗性及び電気特性を両立可能な感光体を製造することができる。

以下、実施例を用いて、本発明を更に具体的に説明する。なお、本発明はこの実施例の範囲に限定されるものではない。

＜感光体Ａ−１の作製方法＞
以下、実施例１に係る感光体（Ａ−１）の製造について説明する。

（中間層の形成）
はじめに、表面処理された酸化チタン（テイカ株式会社製「ＳＭＴ−Ａ」、平均一次粒径１０ｎｍ）を準備した。詳しくは、アルミナ及びシリカで表面処理した後、ビーズミルを用いて、湿式分散しながらメチルハイドロジェンポリシロキサンを用いて表面処理したものを準備した。次いで、酸化チタン２質量部と、ポリアミド樹脂であるアミラン（登録商標）（東レ株式会社製「ＣＭ８０００」ナイロン６、ナイロン１２、ナイロン６６、ナイロン６１０四次元共重合ポリアミド樹脂）１質量部とを、メタノール１０質量部、ブタノール１質量部、及びトルエン１質量部を含む溶剤に対して添加した。次いで、ビーズミルを用いて溶剤中の材料を５時間混合し、溶剤中に材料を分散させた。これにより、中間層用塗布液を調製した。

得られた中間層用塗布液を目開き５μｍのフィルターを用いてろ過した。その後、ディップコート法を用いて、アルミニウム製のドラム状支持体（直径３０ｍｍ、長さ２４６ｍｍ）の表面に、中間層用塗布液（ろ過後の中間層用塗布液）を塗布した。続いて、塗布した中間層用塗布液を１３０℃で３０分間乾燥させた。これにより、導電性基体上に中間層（膜厚２μｍ）を形成した。

（電荷発生層の形成）
電荷発生剤としてのチタニルフタロシアニン（ＣＧＭ−１）１．５質量部と、バインダー樹脂としてのポリビニルアセタール樹脂（積水化学工業株式会社製「エスレックＢＸ−５」）１質量部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテル４０質量部及びテトラヒドロフラン４０質量部を含む溶剤に対して添加した。次いで、ビーズミルを用いて溶剤中の材料を２時間混合し、溶剤中に材料を分散させて、電荷発生層用塗布液を調製した。得られた電荷発生層用塗布液を、目開き３μｍのフィルターを用いてろ過した。次いで、得られたろ過液を、上述のようにして形成された中間層上にディップコート法を用いて塗布した。続けて、塗布したろ液を５０℃で５分間乾燥させた。これにより、中間層上に電荷発生層（膜厚０．３μｍ）を形成した。

（電荷輸送層の形成）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を５０質量部と、添加剤としてのヒンダードフェノール系酸化防止剤（ＢＡＳＦ株式会社製「イルガノックス（登録商標）１０１０」）２質量部と、バインダー樹脂としてのポリカーボネート樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）（粘度平均分子量５１，０００）１００質量部と、ヘキサメチルジシラザンで表面処理された平均一次粒径８０ｎｍのシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＶＰ ＲＸ４０Ｓ」）５質量部とを、テトラヒドロフラン３５０質量部及びトルエン３５０質量部を含む溶剤に対して添加した。これを、循環型超音波分散装置（日本精機社製「ホモジナイザー ＵＳ６００ＡＴ」）を用いて、１２時間混合し、各成分を溶剤中に分散させて、電荷輸送層用塗布液を調製した。各成分を分散させる条件は、周波数２０ｋＨｚ及び循環量０．５Ｌ／分であった。得られた電荷輸送層用塗布液を、目開き３μｍのフィルターを用いてろ過した。続けて、ディップコート法を用いて、上述のようにして形成された電荷発生層上に電荷輸送層用塗布液（ろ過後の電荷輸送層用塗布液）を塗布した。その後、塗布した電荷輸送層用塗布液を１２０℃で４０分間乾燥させた。これにより、電荷輸送層（膜厚２０μｍ）を形成した。その結果、感光体（Ａ−１）を作製した。感光体（Ａ−１）は、導電性基体上に、中間層、電荷発生層、及び電荷輸送層が、この順で積層されていた。

（感光体（Ａ−２）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−２）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−２）を作製した。

（感光体（Ａ−３）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−３）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−３）を作製した。

（感光体Ａ−４の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−４）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−４）を作製した。

（感光体（Ａ−５）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−５）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−５）を作製した。

（感光体（Ａ−６）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−６）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−６）を作製した。

（感光体（Ａ−７）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−７）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−７）を作製した。

（感光体（Ａ−８）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−８）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−８）を作製した。

（感光体（Ａ−９）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−９）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−９）を作製した。

（感光体（Ａ−１０）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を正孔輸送剤（ＣＴＭ−１０）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１０）を作製した。

（感光体（Ａ−１１）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）の添加量を５０質量部から５５質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１１）を作製した。

（感光体（Ａ−１２）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）の添加量を５０質量部から４０質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１２）を作製した。

（感光体（Ａ−１３）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）の添加量を５０質量部から３０質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１３）を作製した。

（感光体（Ａ−１４）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）の添加量を５０質量部から１０質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１４）を作製した。

（感光体（Ａ−１５）の作製方法）
バインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）をバインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−２）（粘度平均分子量５０，５００）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１５）を作製した。

（感光体（Ａ−１６）の作製方法）
バインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）を（Ｒｅｓｉｎ−３）（粘度平均分子量５０，０００）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１６）を作製した。

（感光体（Ａ−１７）の作製方法）
バインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）（粘度平均分子量５１，０００）をバインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−４）（粘度平均分子量４０，０００）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１７）を作製した。

（感光体（Ａ−１８）の作製方法）
バインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）（粘度平均分子量５１，０００）をバインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−５）（粘度平均分子量３２，５００）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１８）を作製した。

（感光体（Ａ−１９）の作製方法）
シリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＲＸ２００」）（平均一次粒径９０ｎｍ）からシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＮＡＸ ５０」）（平均一次粒径５０ｎｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−１９）を作製した。

（感光体（Ａ−２０）の作製方法）
シリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＲＸ２００」）（平均一次粒径９０ｎｍ）からシリカ粒子（試作品）（平均一次粒径１４５ｎｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−２０）を作製した。

（感光体（Ａ−２１）の作製方法）
シリカ粒子の添加量を５質量部から０．５質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−２１）を作製した。

（感光体（Ａ−２２）の作製方法）
シリカ粒子の添加量を５質量部から２質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−２２）を作製した。

（感光体（Ａ−２３）の作製方法）
シリカ粒子の添加量を５質量部から１０質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−２３）を作製した。

（感光体（Ａ−２４）の作製方法）
シリカ粒子の添加量を５質量部から１５質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−２４）を作製した。

（感光体（Ａ−２５）の作製方法）
シリカ粒子の分散方法を超音波からビーズミル（直径：２ｍｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ａ−２５）を作製した。

（感光体（Ｂ−１）の作製方法）
シリカ粒子の添加量を５質量部から０質量部に代えた以外（シリカ粒子を電荷輸送層用塗布液に添加しなかった以外）は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−１）を作製した。

（感光体（Ｂ−２）の作製方法）
正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）の添加量を５０質量部から６０質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−２）を作製した。

（感光体（Ｂ−３）の作製方法）
ヘキサメチルジシラザンで表面処理されたシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＶＰ ＲＸ４０Ｓ」）（平均一次粒径８０ｎｍ）から表面処理をしなかったシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＲＸ ２００」）（平均一次粒径１２ｎｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−３）を作製した。

（感光体（Ｂ−４）の作製方法）
ヘキサメチルジシラザンで表面処理されたシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＶＰ ＲＸ４０Ｓ」）（平均一次粒径８０ｎｍ）からジメチルジクロロシランで表面処理されたシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＲＸ ２００」）（平均一次粒径１２ｎｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−４）を作製した。

（感光体（Ｂ−５）の作製方法）
ヘキサメチルジシラザンで表面処理されたシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＶＰ ＲＸ４０Ｓ」）（平均一次粒径８０ｎｍ）からポリジメチルシロキサンで表面処理されたシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＲＸ ２００」）（平均一次粒径１２ｎｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−５）を作製した。

（感光体（Ｂ−６）の作製方法）
ヘキサメチルジシラザンで表面処理されたシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＶＰ ＲＸ４０Ｓ」）（平均一次粒径８０ｎｍ）から表面処理されていないシリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＲＸ２００」）（平均一次粒径１２ｎｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−６）を作製した。

（感光体（Ｂ−７）の作製方法）
シリカ粒子の添加量を５質量部から２０質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−７）を作製した。

（感光体（Ｂ−８）の作製方法）
シリカ粒子の添加量を５質量部から０．２質量部に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−８）を作製した。

（感光体（Ｂ−９）の作製方法）
シリカ粒子（日本アエロジル株式会社製「アエロジル（登録商標）ＲＸ２００」）からシリカ粒子（試作品）（平均一次粒径１７０ｎｍ）に代えた以外は、感光体（Ａ−１）と同様の操作を行って、感光体（Ｂ−９）を作製した。

表１、表２及び表３は、感光体（Ａ−１）〜（Ａ−２５）及び感光体（Ｂ−１）〜（Ｂ−９）の電荷輸送層に含有される各材料及びシリカ粒子の分散方法を示す。表１〜３中、シリカ粒子の平均一次粒径は、実施形態で述べたＮ₂吸着等温線を測定する方法により測定した。

＜感光体の性能評価＞
（１）電気特性（繰り返し特性）評価
感光体（Ａ−１）〜（Ａ−２５）及び感光体（Ｂ−１）〜（Ｂ−９）のうちの何れかを、ドラム感度試験機（ジェンテック株式会社製）を用いて、回転数３１ｒｐｍで感光体の表面電位を測定した。得られた表面電位を初期の帯電電位Ｖ₀とした。また、感光体を−５００Ｖになるように帯電させた。次いで、単色光（波長：７８０ｎｍ、露光量：１．０μＪ／ｃｍ²）をハロゲンランプの光からバンドパスフェルターを用いて取り出し、感光体の表面に照射した。単色光の照射後から５０ミリ秒が経過した後のドラム流れ込み電流−１０μＡの時の明部電位を測定した。得られた明部電位を初期の感度電位Ｖ_Lとした。感光体ドラムを回転速度２２２ｒｐｍで１万回転させた後に、初期の感度電位Ｖ_Lの測定方法と同様に、明部電位を測定した。得られた明部電位を１万回転後の感度電位Ｖ_Lとした。測定環境は、温度３０℃かつ湿度８５％ＲＨとした。

初期の感度電位Ｖ_Lと１万回転後の感度電位Ｖ_Lとの差をΔＶ_L（＝（初期の感度電位Ｖ_L）−（１万回転後の感度電位Ｖ_L））とした。得られたΔＶ_Lから感光体の電気特性（繰り返し特性）を評価した。ΔＶ_Lが＋５０Ｖを超えると、感光体の電気特性は不十分であった。ΔＶ_Lが＋５０Ｖ以下であると、感光体の電気特性は良好であった。

（２）耐摩耗性評価
感光体（Ａ−１）〜（Ａ−２５）及び感光体（Ｂ−１）〜（Ｂ−９）のうちの何れかの作製にて調製した電荷輸送層用塗布液を、アルミパイプ（直径：７８ｍｍ）に巻きつけたポリプロピレンシート（厚さ：０．３ｍｍ）に塗布した。これを、１２０℃で４０分間乾燥した。これにより、膜厚３０μｍの電荷輸送層が形成された摩耗評価試験用のシートを作製した。

このポリプロピレンシートから、電荷輸送層を剥離した。剥離した電荷輸送層を、ウィールＳ−３６（テーバー社製）に貼り付け、サンプルを作製した。作製したサンプルをロータリーアブレージョンテスタ（株式会社東洋精機製作所製）にセットし、摩耗輪ＣＳ−１０（テーバー社製）を用いて、荷重６００ｇｆかつ回転速度６０ｒｐｍの条件で１，０００回転させ、耐摩耗性評価試験を実施した。耐摩耗性評価試験前後のサンプルの質量変化である摩耗減量を測定し、この摩耗減量に基づいて、感光体の耐摩耗性を評価した。摩耗減量が７．０ｍｇを超えると、感光体の耐摩耗性が不十分であったが、摩耗減量が７．０ｍｇ以下であると、感光体の耐摩耗性が良好であった。

感光体（Ａ−１）〜（Ａ−２５）及び感光体（Ｂ−１）〜（Ｂ−９）の電気特性評価、及び耐摩耗性評価の結果を表４及び表５に示す。

表１及び表２に示すように、感光体（Ａ−１）〜（Ａ−２５）では、電荷輸送層は、正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）〜（ＣＴＭ−１０）の何れかを１０質量部以上５５質量部以下含有していた。また、電荷輸送層は、平均一次粒径５０ｎｍ以上１４５ｎｍ以下のシリカ粒子を０．５質量部以上１５質量部以下含有していた。これらのシリカ粒子の表面は、ヘキサメチルシラザンで処理されていた。

表３に示すように、感光体（Ｂ−１）では、電荷輸送層はシリカ粒子を含有していなかった。感光体（Ｂ−２）では、電荷輸送層は正孔輸送剤（ＣＴＭ−１）を６０質量部含有していた。感光体（Ｂ−３）〜（Ｂ−６）では、シリカ粒子の平均一次粒径は１２ｎｍであった。感光体（Ｂ−４）〜（Ｂ−５）では、シリカ粒子の表面は、それぞれジメチルジクロロシラン及びポリジメチルシロキサンで処理されていた。感光体（Ｂ−６）では、シリカ粒子の表面は表面処理剤で処理されていなかった。感光体（Ｂ−７）〜（Ｂ−８）では、シリカ粒子の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対してそれぞれ２０質量部及び０．２質量部であった。感光体（Ｂ−９）では、シリカ粒子の平均一次粒径は１７０ｎｍであった。

表４に示すように、感光体（Ａ−１）〜（Ａ−２５）では、感度電位の差ΔＶ_Lは＋２０Ｖ以上＋５４Ｖ以下であった。摩耗減量は１，０００回転に対して３．４ｍｇ以上６．９ｍｇ以下であった。

表５に示すように、感光体（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）及び感光体（Ｂ−６）〜（Ｂ−８）では、摩耗減量は６．２ｍｇ以上７．２ｍｇ以下であった。感光体（Ｂ−４）〜（Ｂ−６）では、感度電位の差ΔＶ_Lは＋１１１Ｖ以上＋１７７Ｖ以下であった。

以上から、感光体（Ａ−１）〜（Ａ−２５）は、感光体（Ｂ−１）〜（Ｂ−９）に比べ、電気特性（繰り返し特性）及び耐摩耗性に優れていた。

感光体（Ａ−１）、及び感光体（Ａ−１５）〜（Ａ−１７）では、バインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）〜（Ｒｅｓｉｎ−４）を含有していた。バインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−１）〜（Ｒｅｓｉｎ−４）の粘度平均分子量は、４０，０００以上５１，０００以下であった。感光体（Ａ−１８）では、電荷輸送層はバインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−５）を含有していた。バインダー樹脂（Ｒｅｓｉｎ−５）の粘度平均分子量は、３２，５００であった。

感光体（Ａ−１）、及び感光体（Ａ−１５）〜（Ａ−１７）では、摩耗減量は３．６ｍｇ以上５．９ｍｇ以下であり、感光体（Ａ−１８）では、摩耗減量は６．９ｍｇであった。

以上から、バインダー樹脂の粘度平均分子量が４０，０００以上である、感光体（Ａ−１）、及び感光体（Ａ−１５）〜（Ａ−１７）は、感光体（Ａ−１８）に比べ、耐摩耗性に優れていた。

表１に示すように、感光体（Ａ−１）では、超音波により電荷輸送層用塗布液を調製した。表２に示すように、感光体（Ａ−２５）では、アルミナビーズを用いて電荷輸送層用塗布液を調製した。

表４に示すように、感光体（Ａ−１）では、感度電位の差ΔＶ_Lは、＋２９Ｖであり、摩耗減量は４．７ｍｇであった。感光体（Ａ−２５）では、感度電位の差ΔＶ_Lは、＋５４Ｖであり、摩耗減量は５．８ｍｇであった。

以上から、電荷輸送層用塗布液を超音波により調製した感光体（Ａ−１）は、感光体（Ａ−２５）に比べ、電気特性（繰り返し特性）及び耐摩耗性に優れる。

表１に示すように、感光体（Ａ−１）、及び感光体（Ａ−１１）〜（Ａ−１３）では、正孔輸送剤の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して３０質量部以上５５質量部であった。感光体（Ａ−１４）では、正孔輸送剤の含有量は、バインダー樹脂１００質量部に対して１０質量部であった。

表１に示すように、感光体（Ａ−１）、及び感光体（Ａ−１１）〜（Ａ−１３）では、初期の感度電位Ｖ_Lが−２５Ｖ以上−１５Ｖ以下であった。感光体（Ａ−１４）では、初期の感度電位ＶＬが−３５Ｖであった。

以上から、正孔輸送剤の含有量が１０質量部を超える感光体（Ａ−１）、及び感光体（Ａ−１１）〜（Ａ−１３）は、感光体（Ａ−１４）に比べ、初期の感度が優れていた。

本発明に係る積層型電子写真感光体は、複合機のような画像形成装置に好適に利用できる。

１０ 積層型電子写真感光体
１１ 導電性基体
１２ 感光層
１３ 電荷発生層
１４ 電荷輸送層
１５ 中間層

Claims (5)

1. 感光層を備える積層型電子写真感光体であって、
   前記感光層は、電荷発生剤を含有する電荷発生層と、正孔輸送剤、バインダー樹脂、及びシリカ粒子を含有する電荷輸送層とを備え、
   前記電荷輸送層は一層であり、
   前記電荷輸送層は、最表面層として配置され、
   前記正孔輸送剤は、スチリルトリアリールアミン構造を有する化合物を含有し、
   前記正孔輸送剤の含有量は、前記バインダー樹脂１００質量部に対して５５質量部以下であり、
   前記シリカ粒子の表面は、ヘキサメチルジシラザンで処理されており、
   前記シリカ粒子の平均一次粒径は、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であり、
   前記シリカ粒子の含有量は、前記バインダー樹脂１００質量部に対して０．５質量部以上１５質量部以下である、積層型電子写真感光体。
   
2. 前記正孔輸送剤は、一般式（２）、（３）、（４）又は（５）で表される化合物である、請求項１に記載の積層型電子写真感光体。
   

   

   前記一般式（２）中、
   Ｒ₁は、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又は炭素原子数１以上８以下のアルキル基で置換されてもよいフェニル基を表し、
   Ｒ₂は、各々独立に、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表し、
   Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表し、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇のうち隣接した二つは、互いに結合して環を形成してもよく、
   ａは、０以上５以下の整数を表し、ａが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ₂は、互いに同一でも異なっていてもよい。
   

   

   前記一般式（３）中、
   Ｒ₈、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃、及びＲ₁₄は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表し、
   Ｒ₉、及びＲ₁₅は、各々独立に、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基、又はフェニル基を表し、
   ｂは、０以上５以下の整数を表し、ｂが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ₉は、互いに同一でも異なっていてもよく、
   ｃは、０以上４以下の整数を表し、ｃが２以上４以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ₁₅は、互いに同一でも異なっていてもよく、
   ｎは、０又は１を表す。
   

   

   前記一般式（４）中、
   Ｒ_a、Ｒ_b、及びＲ_cは、各々独立に、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、フェニル基、又は炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基を表し、
   ｑは、０以上４以下の整数を表し、ｑが２以上４以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ_cは、互いに同一でも異なっていてもよく、
   ｍ及びｋは、各々独立に、０以上５以下の整数を表し、ｍが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ_bは、互いに同一でも異なっていてもよく、ｋが２以上５以下の整数を表す場合、同一のフェニル基に結合する複数のＲ_aは、互いに同一でも異なっていてもよい。
   

   

   前記一般式（５）中、
   Ａｒ₁は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基からなる群から選択される１つ以上の置換基で置換されてもよいアリール基、又は炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基で置換されてもよい複素環基を表し、
   Ａｒ₂は、炭素原子数１以上６以下のアルキル基、フェノキシ基、及び炭素原子数１以上６以下のアルコキシ基からなる群より選択される１以上の置換基で置換されてもよいアリール基を表す。
   
3. 前記一般式（２）中、
   Ｒ₁は、水素原子、又は炭素原子数１以上８以下のアルキル基で置換されたフェニル基を表し、
   Ｒ₂は、炭素原子数１以上８以下のアルキル基を表し、
   Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上８以下のアルキル基、又は炭素原子数１以上８以下のアルコキシ基を表し、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅、Ｒ₆及びＲ₇のうち隣接した二つが互いに結合して環を形成してもよく、
   ａは、０又は１を表し、
   前記一般式（３）中、
   Ｒ₈、Ｒ₁₀、Ｒ₁₁、Ｒ₁₂、Ｒ₁₃及びＲ₁₄は、各々独立に、水素原子、炭素原子数１以上４以下のアルキル基、又はフェニル基を表し、
   ｂ及びｃは、０を表し、
   前記一般式（４）中、
   Ｒ_a及びＲ_bは、各々独立に、炭素原子数１以上８以下のアルキル基を表し、
   ｍ及びｋは、各々独立に、０以上２以下の整数を表し、
   ｑは０を表し、
   前記一般式（５）中、
   Ａｒ₁は、炭素原子数１以上４以下のアルキル基で置換されたフェニル基を表し、
   Ａｒ₂は、フェニル基を表す、請求項２に記載の積層型電子写真感光体。
   
4. 前記バインダー樹脂の粘度平均分子量は、４０，０００以上である、請求項１〜３の何れか１項に記載の積層型電子写真感光体。
   
5. 請求項１〜４の何れか一項に記載の積層型電子写真感光体の製造方法であって、
   電荷輸送層用塗布液を前記電荷発生層上に塗布し、塗布した前記電荷輸送層用塗布液に含まれる溶剤の少なくとも一部を除去して前記電荷輸送層を形成する電荷輸送層形成工程を有し、
   前記電荷輸送層用塗布液は、前記正孔輸送剤、前記バインダー樹脂及び前記シリカ粒子を、超音波分散装置を用いて前記溶剤中に分散させることにより得られる、積層型電子写真感光体の製造方法。

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