JP2017037695A - 磁気記録ヘッドの製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】主磁極とマイクロ波発振素子の端部が揃い、安定した特性を有するマイクロ波アシスト方式の磁気記録ヘッドを製造することが可能な製造方法を提供する。【解決手段】実施形態によれば、記録磁界を印加する主磁極と、前記主磁極とライトギャップを挟んで対向するライトシールドと、主磁極の幅方向の横側にサイドギャップを置いて配置されたサイドシールドと、ライトギャップ内で前記主磁極とライトシールドとの間に設けられたマイクロ波発振子と、を備える磁気記録ヘッドの製造方法は、主磁極６０とサイドシールド６３に被せて、更に、サイドギャップＳＧの少なくとも一部を横切るようにマイクロ波発振子６５を形成し、主磁極とサイドシールドとの間の電気抵抗をモニタリングしながら、主磁極、サイドシールド、およびマイクロ波発振子を高さ方向にラッピングし、前記電気抵抗が所定値を越えた時点でラッピングを停止する。【選択図】図９

Description

この発明の実施形態は、マイクロ波発振子を有する磁気記録ヘッドの製造方法に関する。

近年、磁気ディスク装置の高記録密度化、大容量化あるいは小型化を図るため、垂直磁気記録用の磁気ヘッドが提案されている。このような磁気ヘッドにおいて、記録ヘッドは、垂直方向磁界を発生させる主磁極と、その主磁極のトレーリング側にライトギャップを挟んで配置されて磁気ディスクとの間で磁路を閉じるライトシールドと、主磁極に磁束を流すためのコイルとを有している。更に、主磁極とライトシールドとの間（ライトギャップ）にマイクロ波発振子（高周波発振子）を配置したマイクロ波アシスト方式の磁気記録ヘッドが提案されている。

このような磁気記録ヘッドの製造方法として、主磁極の段差に被るようにマイクロ波発振素子を形成し、その段差を利用してマイクロ波発振素子を２つの領域に分け、そのうちの主磁極上にないマイクロ波発振素子の部分を一部削り取ることで、主磁極とマイクロ波発振素子の端部が揃うようにセルフアラインする方法が提案されている。

特開２０１４−４９１５５号公報

しかしながら、上記のような製造方法では、主磁極の段差部に歪んだマイクロ波発振素子が形成されることになり、その歪部分は段差部の主磁極側の端部に残ってしまう。このマイクロ波発振素子の歪んだ部分が発振特性の劣化を引き起こし、マイクロ波発振子の良好な発振特性を得ることが困難となる。

ここで述べる実施形態の課題は、主磁極とマイクロ波発振素子の端部が揃い、安定した特性を有するマイクロ波アシスト方式の磁気記録ヘッドを製造することが可能な製造方法を提供することにある。

実施形態によれば、記録磁界を印加する主磁極と、前記主磁極とライトギャップを挟んで対向するライトシールドと、前記主磁極の幅方向の横側にサイドギャップを置いて配置されたサイドシールドと、前記ライトギャップ内で前記主磁極とライトシールドとの間に設けられたマイクロ波発振子と、を備える磁気記録ヘッドの製造方法であって、前記主磁極とサイドシールドに被せて、更に、前記サイドギャップの少なくとも一部を横切るようにマイクロ波発振子を形成し、前記主磁極とサイドシールドとの間の電気抵抗をモニタリングしながら、前記主磁極、サイドシールド、およびマイクロ波発振子を高さ方向にラッピングし、前記電気抵抗が所定値を越えた時点で前記ラッピングを停止する磁気記録ヘッドの製造方法である。

図１は、ハードディスクドライブ（以下、ＨＤＤ）に搭載された磁気ヘッドおよび磁気ディスクの一例を示す側面図。 図２は、前記磁気ヘッドのヘッド部を拡大して示す断面図。 図３は、前記ヘッド部の記録ヘッドをトラッキングセンタに沿って破断して示す斜視図。 図４は、前記記録ヘッドのＡＢＳ側端部を拡大して示すＡＢＳ側から見た平面図。 図５は、前記記録ヘッドのＡＢＳ側端部を拡大して示すトラックセンターに沿った断面図。 図６は、前記記録ヘッドの主磁極、サイドシールド、ＳＴＯを、記録ヘッドのトレーリング側（ウェハ面側）から見た状態を模式的に示す側面図。 図７は、第１の実施形態において、多数の磁気ヘッドが形成されたヘッドウェハを概略的に示す平面図。 図８は、前記ヘッドウェハから切り出した棒状小片を拡大して示す平面図。 図９は、第１の実施形態に係る製造方法において、製造過程の磁気記録ヘッドの一部を概略的に示すウェハ面側から見た平面図。 図１０は、磁気記録ヘッドに対応するモニタ用の主磁極パターン、サイドシールドパターンおよびＳＴＯパターンを概略的に示す平面図。 図１１は、ラッピング時間とモニター抵抗との関係を示す図。 図１２は、第１の実施形態において、ＳＴＯが主磁極の幅方向端側にずれて形成された状態を概略的に示すウェハ面側から見た磁気記録ヘッドの平面図。 図１３は、図１２に示す磁気記録ヘッドをラッピングして形成された磁気記録ヘッドをＡＢＳ側から見た平面図。 図１４は、第２の実施形態に係る製造方法において、製造過程の磁気記録ヘッドの一部を概略的に示すウェハ面側から見た平面図。 図１５は、図１４に示す磁気記録ヘッドを高さ方向にラッピングして得られた磁気記録ヘッドをＡＢＳ側から見た平面図。

以下図面を参照しながら、実施形態に係る磁気記録ヘッドの製造方法ついて説明する。
（第１の実施形態）
初めに、本実施形態の製造方法を適用する磁気記録ヘッドの構成について説明する。図１は、ハードディスクドライブ（磁気記録装置）の磁気ヘッドおよび磁気ディスクを概略的に示す側面図である。

図１に示すように、磁気ヘッド１６は浮上型のヘッドとして構成され、ほぼ直方体状に形成されたスライダ４２と、スライダの流出端（トレーリング）側の端部に形成された記録再生用のヘッド部４４とを有している。スライダ４２は、例えば、アルミナとチタンカーバイドの焼結体（アルチック）で形成され、ヘッド部４４は薄膜を積層することにより形成されている。磁気ヘッド１６は、サスペンション３０の先端部に設けられたジンバルばね４１に固定されている。磁気ヘッド１６は、サスペンション３０上に固定された配線部材３５に電気的に接続されている。

一方、磁気ディスク１２は、円板状に形成され非磁性体からなる基板１０１を有している。基板１０１の各表面には、下地層として軟磁気特性を示す材料からなる軟磁性層１０２と、その上層部に、ディスク面に対して垂直方向に磁気異方性を有する磁気記録層１０３と、その上層部に保護膜層１０４が順に積層されている。

スライダ４２は、磁気ディスク１２の表面に対向する矩形状のディスク対向面（エア・ベアリング・サーフェース（ＡＢＳ））４３を有している。スライダ４２は、磁気ディスク１２の回転によってディスク表面とＡＢＳ４３との間に生じる空気流Ｃにより浮上する。空気流Ｃの方向は、磁気ディスク１２の回転方向Ｂと一致している。
スライダ４２は、空気流Ｃの流入側に位置するリーディング端４２ａおよび空気流Ｃの流出側に位置するトレーリング端４２ｂを有している。スライダ４２のディスク対向面４３には、図示しないリーディングステップ、トレーリングステップ、サイドステップ、負圧キャビティ等が形成されている。

図２は、磁気ヘッド１６のヘッド部４４および磁気ディスク１２を拡大して示す断面図である。ヘッド部４４は、スライダ４２に薄膜プロセスで形成されたリードヘッド５４および記録ヘッド（磁気記録ヘッド）５８を有し、分離型の磁気ヘッドとして形成されている。リードヘッド５４および記録ヘッド５８は、スライダ４２のディスク対向面４３に露出する部分を除いて、保護絶縁膜７３により覆われている。保護絶縁膜７３は、ヘッド部４４の外形を構成している。

リードヘッド５４は、磁気抵抗効果を示す磁性膜５５と、この磁性膜のトレーリング側およびリーディング側に磁性膜５５を挟むように配置されたシールド膜５６、５７と、で構成されている。これら磁性膜５５、シールド膜５６、５７の下端は、スライダ４２のディスク対向面４３に露出している。

記録ヘッド５８は、リードヘッド５４に対して、スライダ４２のトレーリング端４２ｂ側に設けられている。図３は、磁気ディスク１２上のトラックセンターに沿って記録ヘッド５８を破断して模式的に示す斜視図、図４は、記録ヘッドの記録媒体側の先端部をディスク対向面（ＡＢＳ）側から見た平面図、図５は、記録ヘッドのＡＢＳ側端部を拡大して示すトラックセンターに沿った断面図、図６は、記録ヘッドの主磁極、サイドシールド、ＳＴＯを、記録ヘッドのトレーリング側から見た状態を模式的に示す図である。

図２ないし図４に示すように、記録ヘッド５８は、磁気ディスク１２の表面に対して垂直方向の記録磁界を発生させる高飽和磁束密度材料からなる主磁極６０、主磁極６０のトレーリング側にライトギャップＷＧ（ダウントラック方向Ｄのギャップ長）を置いて配置され、主磁極６０直下の軟磁性層１０２を介して効率的に磁路を閉じるために設けられた軟磁性材料からなるトレーリングシールド（ライトシールド）６２と、主磁極６０のトラック幅方向ＴＷに両側にそれぞれサイドギャップＳＧを置いて対向配置された一対のサイドシールド６３と、主磁極６０のリーディング側にギャップを置いて配置されたリーディングシールド６４と、主磁極６０のＡＢＳ４３側の先端部６０ａとトレーリングシールド６２との間で、かつ、ＡＢＳ４３に面する部分に配置されたマイクロ波発振子（高周波発振子）、例えば、スピントルク発振子（ＳＴＯ）６５と、を備えている。本実施形態において、サイドシールドおよびリーディングシールドは、軟磁性材料により一体に形成してもよい。

トレーリングシールド６２は、ほぼＬ字形状に形成され、主磁極６０に接続される第１接続部５０を有している。第１接続部５０は非導電体５２を介して主磁極６０の上部、すなわち、ディスク対向面４３から離れた上部（バックギャップ）に接続されている。リーディングシールド６４は、磁気ディスク１２から離間した位置（バックギャップ）で非導電体（絶縁体）６９を介して主磁極６０に接合された第１接続部６８を有している。この第１接続部６８は、例えば、軟磁性体で形成され、主磁極６０およびリーディングシールド６４とともに磁気回路を形成している。また、第１接続部６８の位置で、主磁極６０とリーディングシールド６４とは絶縁体６９により電気的に絶縁されている。

記録ヘッド５８は、主磁極６０に磁束を流すための第１記録コイル７０および第２記録コイル７２を有している。第１記録コイル７０は、主磁極６０およびトレーリングシールド６２を含む第１磁気コアに巻き付くように配置され、第２記録コイル７２は、主磁極６０およびリーディングシールド６４を含む第２磁気コアに巻き付くように配置されている。第１記録コイル７０および第２記録コイル７２にはそれぞれ端子９５、９６が接続され、これらの端子９５、９６に記録電流回路９７が接続されている。また、第２記録コイル７２は、第１記録コイル７０と直列に接続されている。磁気ディスク１２に信号を書き込む際、記録電流回路９７から第１記録コイル７０および第２記録コイル７２に所定の電流が供給され、主磁極６０に磁束を流し磁界を発生させる。

図３ないし図６に示すように、主磁極６０は、磁気ディスク１２の表面およびＡＢＳ４３に対してほぼ垂直に延びている。主磁極６０のＡＢＳ４３側の先端部６０ａは、ＡＢＳ４３に向かって先細に（ロート状に）絞り込まれている。主磁極６０の先端部６０ａは、トレーリング端側に位置したトレーリング側端面６０ｃ、トレーリング側端面と対向してリーディング側端面６０ｄ、および両側面６０ｅを有している。主磁極６０の先端面は、スライダ４２のＡＢＳ４３に露出している。両側面６０ｅは、主磁極６０の中心軸線Ｃに対して、すなわち、ＡＢＳ４３に垂直な方向に対して、傾斜して延びている。

トレーリングシールド６２の先端部６２ａは、細長い矩形状に形成されている。トレーリングシールド６２の下端面は、スライダ４２のＡＢＳ４３に露出している。先端部６２ａのリーディング側端面（主磁極側端面）６２ｂは、ＡＢＳ４３に対してほぼ垂直に延びているとともに、トラック幅方向ＴＷに沿って延びている。このリーディング側端面６２ｂは、主磁極６０の先端部６０ａにおいて、主磁極６０のトレーリング側端面６０ｃとライトギャップＷＧを置いてほぼ平行に対向している。

本実施形態において、一対のサイドシールド６３は、軟磁性体によりリーディングシールド６４と一体に形成され、リーディングシールドからトレーリングシールド６２側に延出している。一対のサイドシールド６３は、主磁極６０のトラック幅方向両側に主磁極６０から物理的に分断し、かつ、リーディングシールド６４と磁気的かつ電気的に接続している。各サイドシールド６３の側面６３ｂは、主磁極６０の側面６０ｅにギャップＳＧを置いてほぼ平行に対向している。サイドシールド６３の先端面は、ＡＢＳ４３に露出している。主磁極の側面６０ｅとサイドシールド６３との間のギャップＳＧは、ライトギャップＷＧのギャップ長とほぼ同一に設定されている。

主磁極６０とトレーリングシールド６２の先端部６２ａとの間、主磁極６０とリーディングシールド６４との間、および主磁極６０とサイドシールド６３との間、のスペースには、絶縁体、例えば、アルミナ、酸化シリコン等からなる保護絶縁膜７３が設けられている。

図４ないし図６に示すように、ＳＴＯ６５は、ライトギャップＷＧ内において、主磁極６０の先端部６０ａとトレーリングシールド６２との間に設けられ、その一部は、ＡＢＳ４３に露出している。ＳＴＯ６５は、スピン注入層（ＳＩＬ）６５ａ、中間層（非磁性導電層）６５ｂ、発振層（ＦＧＬ）６５ｃを有し、これらの層を主磁極６０側からトレーリングシールド６２側に順に積層して、すなわち、ダウントラック方向Ｄに沿って順に積層して、構成されている。スピン注入層６５ａは、非磁性導電層（下地層）６７ａを介して主磁極６０のトレーリング側端面６０ｃに接合されている。発振層６５ｃは、非磁性導電層（キャップ層）６７ｂを介してトレーリングシールド６２のリーディング側端面６２ｂに接合されている。なお、スピン注入層６５ａ、中間層６５ｂ、発振層６５ｃの積層順は、上記と逆でもよく、すなわち、トレーリングシールド６２側から主磁極６０側に順に積層してもよい。

スピン注入層６５ａ、中間層６５ｂ、発振層６５ｃは、ＡＢＳ４３と交差する方向、例えば、直交する方向に延びる積層面あるいは膜面をそれぞれ有している。ＳＴＯ６５の下端面は、ＡＢＳ４３に露出し、このＡＢＳ４３と面一に形成されている。ＳＴＯ６５の幅は、主磁極６０のトラック幅方向ＴＷの幅よりも小さく形成されている。本実施形態において、ＳＴＯ６５は、主磁極６０の中心軸線Ｃに対して、主磁極６０のトラック幅方向の一端側にずれて配置されている。

図２および図３に示すように、主磁極６０とトレーリングシールド６２とに端子９０、９１が接続され、これらの端子９０、９１はＳＴＯ駆動電流回路９４に接続されている。このＳＴＯ駆動電流回路９４から主磁極６０、ＳＴＯ６５、トレーリングシールド６２を通してＳＴＯの駆動電流Ｉｏｐを直列に通電できる。

次に、上記のように構成された磁気ヘッド、特に、磁気記録ヘッドの製造方法の一例を説明する。図７は、薄膜積層により多数の磁気ヘッドが形成されたヘッドウェハを示す平面図、および図８は、前記ヘッドウェハから切り出された棒状小片を拡大して示す平面図である。

図７に示すように、磁気ヘッドの製造工程では、それぞれスライダ、リードヘッド、記録ヘッド、記録コイル、およびＳＴＯを有する多数の磁気ヘッド１６を、薄膜積層プロセスにより、ヘッドウェハ８０上に複数列８２に連続的に並べて形成する。各磁気ヘッドは、前述した磁気ヘッド１６と同様に構成されている。次いで、図８に示すように、各列８２の磁気ヘッドをヘッドウェハ８０から切り出し、それぞれ複数の連続した磁気ヘッド１６を含む複数の棒状小片８４に分離する。

各磁気ヘッド１６の製造においては、図９に示すように、主磁極６０およびサイドシールド６３を形成し、更に、主磁極６０と一方のサイドシールド６３に被せて、サイドギャップＳＧの少なくとも一部を横切るようにＳＴＯ６５を形成する。すなわち、主磁極６０とサイドシールド６３をＳＴＯ６５により電気的に接続するように、ＳＴＯ６５を形成する。本実施形態では、ＳＴＯ６５は、高さ方向において、主磁極６０の中心軸線Ｃとほぼ平行に延びるように形成し、更に、主磁極６０の幅方向一端側にずれた位置に形成する。これにより、ＳＴＯ６５は、主磁極６０の傾斜した側面６０ｅとサイドシールド６３の側面６３ｂとの間のギャップＳＧを横切って延びている。ＳＴＯ６５はイオンミリングでパターニングされ、断面が略台形状となっている。ＳＴＯ６５は、特に台形の下辺でサイドシールド６３とも、Ｌ−Ｌ‘線よりも下側の領域で接続されるように形成してある。これにより、ＳＴＯ６５は、Ｌ−Ｌ‘線よりも下側の領域で、主磁極６０とサイドシールド６３とを電気的に接続している。
また、図８に示すように、各磁気ヘッド１６のトレーリング側端面上に、それぞれリードヘッド、記録ヘッド、ＳＴＯに導通する複数の電極パッド８７を形成する。

続いて、図８および図９に示すように、検査装置８６により主磁極２０と一方のサイドシールド６３との間の電気抵抗をモニタリングしながら、各磁気ヘッド１６のＡＢＳ４３を所定の高さまでラッピング（研磨）する。磁気ヘッド１６を直接、モニタリングすることも可能であるが、本実施形態では、より容易にモニタリングできるように、棒状小片８４の切除領域ＣＲに形成したモニタ用のパターンを用いて電気抵抗をモニタリングする。すなわち、図８および図１０に示すように、磁気ヘッド１６の主磁極６０、サイドシールド６３、およびＳＴＯ６５とそれぞれ同様および同時の製造工程で、これらに対応するモニタ用の主磁極パターン６０Ｍ、サイドシールドパターン６３Ｍ、およびＳＴＯパターン６５Ｍを予め切除領域ＣＲ上に形成する。主磁極パターン６０Ｍおよびサイドシールドパターン６３Ｍは、主磁極６０およびサイドシールド６３とほぼ同様の形状および構成を有し、傾斜したサイドギャップを置いて互いに対向している。ＳＴＯパターン６５Ｍは、主磁極パターン６０Ｍとサイドシールドパターン６３Ｍとに跨るように、かつ、傾斜したサイドギャップを横切るように、形成している。また、切除領域ＣＲ上に、それぞれ主磁極パターン６０Ｍおよびサイドシールドパターン６３Ｍに導通する一対の検査用電極パッド８８を形成する。

これらモニタ用のパターンおよび検査パッド８８は、例えば、５つの磁気ヘッド１６置きに、切除領域ＣＲに形成してもよい。検査用電極パッド８８を介して主磁極パターン６０Ｍおよびサイドシールドパターン６３Ｍに検査装置８６のプローブ（検査電極）を接触させ、これらの間の電気抵抗を測定する。なお、製造工程において、モニタ用のパターン上には、保護膜以外の他の膜を積層形成しないことが望ましい。

図９および図１０に示すように、主磁極２０とサイドシールド６３との間の電気抵抗をモニタリングしながら、磁気ヘッド１６およびモニタ用のパターンを高さ方向にハイトラッピングし、ほぼＬ−Ｌ‘線の位置まで加工する。そして、モニタリングにより電気抵抗が所定値を越えた時点でラッピングを停止する。

図１１は、ラッピング時間（ラッピング量）と検査装置（モニタ）で測定した電気抵抗値との関係を示している。この図から分かるように、ハイトラッピングの開始前の状態では、主磁極パターン６０Ｍとサイドシールドパターン６３ＭとがＳＴＯパターン６５Ｍを介して接続されているため、測定した電気抵抗値は低い値を示す。この状態からラッピングを開始すると、徐々にＳＴＯパターン６５Ｍとサイドシールドパターン６３Ｍとの接触面積が小さくなり、電気抵抗が上昇していく。更にラッピングを進め、Ｌ−Ｌ‘断面付近までくると、すなわち、ＳＴＯパターン６５Ｍのラッピング面がサイドギャップＳＧの位置まで来ると、ＳＴＯパターン６５Ｍとサイドシールドパターン６３Ｍとの接触面積がかなり狭くなることで、モニタリングした電気抵抗は急激に上昇し始める。

そして、Ｌ−Ｌ‘断面を通り過ぎるところまでラッピングを進めると、ＳＴＯパターン６５Ｍとサイドシールドパターン６３Ｍとの間の接続が絶たれる。そのため、この状態での電気抵抗は実質無限大となる。ただし、図示はしていないが主磁極およびサイドシールドは、それぞれ例えば１０ｋΩの抵抗を介して磁気ヘッドスライダのグランドに接続されているため、主磁極パターン６０Ｍとサイドシールドパターン６３Ｍとの間の測定電気抵抗は、この時点で約２０ｋΩとなる。このように、モニタリングしている電気抵抗が所定値、ここでは、約２０ｋΩに到達した時点で、ハイトラッピングを停止する。

実際に図１１で示した１１分のラッピング時間でラッピングを終了した場合の磁気記録ヘッドは、図４および図６に示した形状となる。ＳＴＯ６５の端部と主磁極２０の端部が揃った形で形成されていることがわかる。上記のように、複数の磁気ヘッド１６のヘッド部をラッピングした後、各磁気ヘッドにＡＢＳ４３を加工する。その後、切除領域ＲＣの部分で棒状小片８４を切断し、複数の磁気ヘッド１６を切り出す。これにより、磁気ヘッド１６が得られる。

図１２は、ＳＴＯの主磁極に対する位置合わせが、図９の場合と比べて主磁極のトラック幅方向の端側にずれて作成された場合のウェハ面から見た平面図である。この場合でも主磁極６０およびサイドシールド６３からそれぞれ引き出した電極間の電気抵抗をモニタリングしながらラッピングを行う。図９の場合と同様に、モニタリングしている電気抵抗が急上昇し、約２９ｋΩとなったところを終点としてラッピングを終了する。

図１３は、このようにラッピングした磁気記録ヘッドをＡＢＳ４３から見た平面図である。この場合も、ＳＴＯ６５の端部と主磁極６０の端部とが揃った形で磁気記録ヘッドを形成できていることがわかる。ただし、ＳＴＯ６５が位置ずれした分、主磁極６０のトラック幅方向ＴＷの幅が大きくなる。しかし、通常のフォトリソグラフィでの位置ずれ精度であれば、主磁極６０の幅のずれもそれほど大きくはならず、特に、シングル記録を前提にした記録ヘッドでは、大きな問題とならない。
製造工程において、ＳＴＯ６５が大きく位置ずれしてしまった場合は、エッチング前のレジストの状態で、ＳＴＯ６５の形成をやり直し、位置ずれの程度を許容範囲内に収め直すことも可能である。

以上のように、本実施形態に係る磁気ヘッドの製造方法によれば、ＳＴＯの発振特性を著しく劣化させることなく、主磁極とＳＴＯの端部を揃えて形成することができる。また、電気抵抗をモニタリングしながらラッピングすることにより、マイクロ波発振素子のハイト方向を規定するためのラッピングの終点を精度よく検出できる。これにより、安定した特性の、主磁極とマイクロ波発振素子の端部が揃ったマイクロ波アシスト方式の磁気記録ヘッドを形成することが可能となる。また、それぞれの端部が揃った形でＳＴＯおよび主磁極を形成できるため、通常のマイクロ波アシスト記録はもちろん、シングル記録でマイクロ波アシスト記録を行う場合に好適な磁気記録ヘッドを得ることができる。

次に、他の実施形態に係る磁気ヘッドの製造方法について説明する。なお、以下に説明する他の実施形態において、前述した第１の実施形態と同一の部分には、同一の参照符号を付してその詳細な説明を省略し、第１の実施形態と異なる部分を中心に詳しく説明する。
（第２の実施形態）
図１４は、第２の実施形態に係る製造方法において、製造過程のマイクロ波アシスト磁気記録ヘッドをウェハ面から見た概略図、図１５は、ラッピング後の磁気記録ヘッドをＡＢＳ側から見た磁気記録ヘッドの平面図である。
図１４に示すように、製造工程において、ＳＴＯ６５は、主磁極６０と一方のサイドシールド６３に被せて、更に、サイドギャップＳＧの少なくとも一部を横切るように形成する。すなわち、主磁極６０とサイドシールド６３をＳＴＯ６５により電気的に接続するように、ＳＴＯ６５を形成する。第２の実施形態では、ＳＴＯ６５は、高さ方向において、主磁極６０の中心軸線Ｃに対して傾斜して、例えば、角度θ（約３０度）だけ傾けて形成し、更に、中心軸線Ｃから主磁極６０のトラック幅方向一端側にずれた位置に形成する。これにより、ＳＴＯ６５は、主磁極６０の傾斜した側面６０ｅとサイドシールド６３の側面６３ｂとの間のギャップＳＧに重なって延びている。ＳＴＯ６５はイオンミリングでパターニングされ、断面が略台形状となっている。ＳＴＯ６５は、ラッピングの終了位置（Ｌ−Ｌ‘線）よりも下側の領域で、主磁極６０とサイドシールド６３とを電気的に接続している。また、第２の実施形態において、サイドギャップＳＧは、前述した第１の実施形態によりも広く設定している。

続いて、検査装置により主磁極２０と一方のサイドシールド６３との間の電気抵抗をモニタリングしながら、磁気ヘッドのＡＢＳ４３を高さ方向にハイトラッピングし、ほぼＬ−Ｌ‘線の位置まで加工する。そして、モニタリングしている電気抵抗が所定値、例えば、２０ｋΩに急上昇した時点から数１０秒後にラッピングを終了する。このようなラッピングにより、図１５に示す磁気ヘッドが得られる。ＳＴＯ６５の端部と主磁極６０の端部が揃った形で形成できていることがわかる。高周波磁界の広がりもそれほど大きなものではなく、十分なマイクロ波磁界強度が得られるものであった。

上記のように、主磁極６０とサイドシールド６３との間のサイドギャップＳＧが広い場合、ＳＴＯ６５を主磁極６０の高さ方向（中心軸線Ｃと平行な方向）と平行に形成しようとすると、ＳＴＯ６５を主磁極６０とサイドシールド６３にまたがって形成するためには、ＳＴＯ６５の素子幅が広くなければ、極めて高い位置合わせ精度が要求される。すなわち、主磁極かサイドシールドのどちらかにＳＴＯが接続しないリスクが高まることになる。そこで、上述した第２の実施形態のように、ＳＴＯ６５を主磁極６０の高さ方向から角度θだけ傾けて形成すると、ＳＴＯ６５を主磁極６０とサイドシールド６３にまたがって形成することが容易となる。主磁極６０の高さ方向に対するＳＴＯ６５の傾斜角度θは、サイドギャップＳＧの広さに対してＳＴＯ６５の幅がどれくらいかによって変えればよい。すなわち、ＳＴＯ６５の幅が大きい程、傾斜角度θを小さく設定することができる。傾斜角度θをあまり大きくすると、発生するマイクロ波磁界の分布が悪化するため、傾斜角度θは５〜４５度程度の範囲で設定することが望ましい。

以上のように、第２の実施形態に係る磁気ヘッドの製造方法によれば、ＳＴＯの発振特性を著しく劣化させることなく、主磁極とＳＴＯの端部を揃えて形成することができる。また、電気抵抗をモニタリングしながらラッピングすることにより、マイクロ波発振素子のハイト方向を規定するためのラッピングの終点を精度よく検出できる。これにより、安定した特性の、主磁極とマイクロ波発振素子の端部が揃ったマイクロ波アシスト方式の磁気記録ヘッドを形成することが可能となる。また、通常のマイクロ波アシスト記録はもちろん、シングル記録でマイクロ波アシスト記録を行う場合に好適な磁気記録ヘッドを得ることができる。

本発明は上記実施形態そのままに限定されるものではなく、実施段階ではその要旨を逸脱しない範囲で構成要素を変形して具体化できる。また、上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合わせにより、種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。さらに、異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。

本製造方法は、主磁極、ライトシールド、サイドシールド、およびマイクロ波発振子を有する磁気記録ヘッドであれば適用でき、リーディングシールドを持たない磁気記録ヘッドの製造にも適用可能である。ヘッド部を構成する要素の材料、形状、大きさ等は、必要に応じて変更可能である。

１２…磁気ディスク、１６…磁気ヘッド、４２…スライダ、
４３…空気支持面（ＡＢＳ）、４４…ヘッド部、５４…リードヘッド、
５８…記録ヘッド、６０…主磁極、６２…トレーリングシールド、
６３…サイドシールド、６４…リーディングシールド、
６５…スピントルク発振子（ＳＴＯ）、ＳＧ…サイドギャップ

Claims (7)

1. 記録磁界を印加する主磁極と、前記主磁極とライトギャップを挟んで対向するライトシールドと、前記主磁極の幅方向の横側にサイドギャップを置いて配置されたサイドシールドと、前記ライトギャップ内で前記主磁極とライトシールドとの間に設けられたマイクロ波発振子と、を備える磁気記録ヘッドの製造方法であって、
   前記主磁極とサイドシールドに被せて、更に、前記サイドギャップの少なくとも一部を横切るようにマイクロ波発振子を形成し、
   前記主磁極とサイドシールドとの間の電気抵抗をモニタリングしながら、前記主磁極、サイドシールド、およびマイクロ波発振子を高さ方向にラッピングする
   磁気記録ヘッドの製造方法。
2. 前記電気抵抗が所定値を越えた時点または、前記電気抵抗が所定値を超えた後、所定時間経過後に前記ラッピングを停止する請求項１に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。
3. 前記主磁極の高さ方向と平行な方向に沿って前記マイクロ波発振子を形成する請求項１又は２に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。
4. 前記主磁極の高さ方向に対して傾斜した方向に沿って前記マイクロ波発振子を形成する請求項１又は２に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。
5. 前記主磁極は、この主磁極の高さ方向に対して傾斜して延びる側面を有し、前記サイドシールドはサイドギャップを置いて前記側面に対向する傾斜した側面を有し、
   前記傾斜したサイドギャップを横切って前記主磁極とサイドシールドに被せて前記マイクロ波発振子を形成する請求項１から４のいずれか１項に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。
6. 前記マイクロ波発振子は、前記主磁極の中心軸線に対して、前記主磁極の幅方向端側にずらして形成する請求項１から５のいずれか１項に記載の磁気記録ヘッドの製造方法。
7. 記録磁界を印加する主磁極と、前記主磁極とライトギャップを挟んで対向するライトシールドと、前記主磁極の幅方向の横側にサイドギャップを置いて配置されたサイドシールドと、前記ライトギャップ内で前記主磁極とライトシールドとの間に設けられたマイクロ波発振子と、を備える磁気記録ヘッドの製造方法であって、
   前記主磁極およびサイドシールドを形成し、
   前記主磁極とサイドシールドに被せて、更に、前記サイドギャップの少なくとも一部を横切るようにマイクロ波発振子を形成し、
   前記主磁極、サイドシールド、およびマイクロ波発振子とそれぞれ同時にモニタ用の主磁極パターン、サイドシールドパターンおよびマイクロ波発振子パターンを形成し、
   前記主磁極パターンとサイドシールドパターンとの間の電気抵抗をモニタリングしながら、前記主磁極、サイドシールド、およびマイクロ波発振子を高さ方向にラッピングする
   磁気記録ヘッドの製造方法。

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