JP2006048806A - 磁気ヘッドとその製造方法 - Google Patents

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Abstract

【課題】 単磁極ヘッドのスロートハイトを高精度に狭小化する。
【解決手段】 記録ヘッドのスロートハイトを浮上面加工のときに制御するための加工検知パターン15を設けたヘッドを作製し、その加工検知パターンを用いて浮上面加工を行う。このとき、再生ヘッドの加工については、再生ヘッド自身または再生ヘッド用加工検知パターン16を用いて加工することにより、記録ヘッドのスロートハイト及び再生ヘッドの素子高さの両方を制御したヘッドを得る。
【選択図】 図11

Description

本発明は、磁気記録媒体の記録・再生に用いられる磁気ヘッド及びその製造方法に関するものである。
磁気ディスク装置では、記録媒体上のデータは磁気ヘッドによって読み書きされる。磁気ディスクの単位面積当たりの記録容量を大きくするためには、面記録密度を高密度化する必要がある。しかしながら、現状の面内記録方式では、記録されるビット長が小さくなると、媒体の磁化の熱揺らぎのために面記録密度があげられない問題がある。この問題を解決できる方法として、媒体に垂直な方向に磁化信号を記録する垂直記録方式がある。垂直記録方式においても、再生には巨大磁気抵抗効果型ヘッド(GMRヘッド)及び、更に再生出力が大きいトンネル型巨大磁気抵抗効果型ヘッド(TMRヘッド)や膜面に垂直に電流を流すCPP型GMRヘッドを用いることができる。
垂直記録方式においても、面記録密度の向上のためには、トラック密度と線記録密度を向上する必要がある。線記録密度向上のためには、記録ヘッドの記録磁界勾配を向上させる必要がある。そのための一つの方法としては、記録媒体を2層化し、下層に軟磁性層を設ける構造とし、記録ヘッドとして主磁極と補助磁極を備える単磁極ヘッドを用いる方法がある。しかしながら、200Gb/in2を超える高記録密度達成のためには、記録ヘッドからの磁界強度向上も必要とされている。
磁界強度向上のためには、(1)主磁極の浮上面での断面積を大きくする、(2)スロートハイトを狭小化する等の方法がある。このうち、主磁極の断面積は、トラック幅と主磁極の高さの積になるが、トラック幅は、高密度化を達成するためには小さくせざるを得ない。主磁極の高さについては、垂直記録特有の問題として、ヘッドにスキュー角があるとき主磁極の側面でデータを書き込んでしまう問題が発生する。このため、高さが、トラック幅と同程度に制限される。一方、スロートハイトを小さくすることには、これらの制限がないが、スロートハイトは、ウエハ上での合わせ精度と浮上面の加工精度に依存するため、狭小化とともに高精度化が難しい問題がある。現在、求められるスロートハイトは、約300nm以下であり、加工精度としては±50nmが必要である。
ヘッドの浮上面加工は、加工検知パターンとしてELG(ELG;Electro Lapping Guide)素子を用いて行われる。ELGを用いた磁気ヘッドの製造方法として、例えば、特開2000−67408号公報公報には2つのELGを用いる方法が開示されている。
特開2000−67408号公報
上記文献には、通常の面内記録用磁気ヘッドの製造工程で、第一及び第二のELGを設け、第二のELGは再生ヘッドと同一形状をしている方法が開示されている。しかしながら、上記文献は高精度に再生ヘッドの素子高さを制御しようとするもので、ELGは再生ヘッド側に配置されているのみである。
上述のように、垂直記録ヘッドは、記録磁界強度を高めるためには、高精度にスロートハイトを狭小化する必要がある。しかしながら、ウエハ製造工程でのアライメント精度は±100nm程度であり、これに更に浮上面加工精度±50nmが重畳されるため、垂直ヘッドのスロートハイトの要求仕様である±50nmを達成することは困難である。
そこで、本発明は、垂直記録ヘッドのスロートハイトを高精度に狭小化する製造方法を提供し、高精度に狭小化したスロートハイトを持つ垂直記録用磁気ヘッドを提供することを目的とする。
図1に、垂直記録ヘッド(単磁極ヘッド)の主磁極からの記録磁界強度とスロートハイトとの関係を示す。ここでスロートハイトとは図5に示すように、浮上面から、主磁極のトラック幅部分の幅が広がる部分(フレアポイント)までの長さHを指す。図から、大きな記録磁界を得るためには、スロートハイトを狭小化する必要があることが分かる。現状のウエハ製造工程でのアライメント精度は±100nm程度であり、これに更に浮上面加工精度±50nmが重畳されるため、スロートハイトの加工精度は±112nm程度となる。一方、求められるスロートハイトの精度は±50nm以下なので、現状では、スロートハイトの加工精度は未達成である。一方、ELGを利用して加工している再生ヘッドのセンサーハイトは、加工精度±50nm以下で制御されており、ELGを用いればスロートハイトの加工精度も達成可能である。
ヘッドの浮上面加工方法としては、ウエハから切り出したバー状態のまま浮上面加工を完遂する方法と、スライダーをバーから切り出し、単品で浮上面加工を行う方法とがある。バー状態で加工を行う方法では、加工検知パターンがヘッド素子とヘッド素子の間に配置される場合があるが、この場合、従来のヘッド加工と同様に、2つ以上の加工検知パターン間で内挿すれば良い。また、スライダー単品での浮上面加工の場合には、浮上面加工用加工検知パターンをスライダー(ヘッド素子)内に入れ込めばよい。
また、本方法の別の利点は、浮上面加工用加工検知パターンを用いて記録ヘッドのスロートハイト加工を行うため、スロートハイト高さが保証されることである。浮上面加工後の再生ヘッドの検査は、例えばGMRヘッドのトランスファーカーブ(磁界をかけながらGMRヘッドの出力を測定する方法)を測定すれば観測可能で、それによるヘッド単体での保証ができるが、記録ヘッドの場合は、媒体を用いて記録再生特性を評価しなければならない。本発明の方法を用いれば、浮上面加工用加工検知パターンでスロートハイトが保証されるので、ヘッドの評価としては、再生ヘッドの評価を、例えばトランスファーカーブで評価すればよいことになる。
本発明による磁気ヘッドは、磁気抵抗効果素子を備える再生ヘッドと、主磁極と補助磁極とを有する記録ヘッド(単磁極ヘッド)を備え、記録ヘッド専用の浮上面加工用加工検知パターンを有する。記録ヘッド専用の浮上面加工用加工検知パターンの他に再生ヘッド専用の浮上面加工用加工検知パターンを有していてもよい。そして、これら記録ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンと再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンの両方を使用して浮上面加工してもよい。また、再生ヘッドの加工のモニタリングには再生素子(磁気抵抗効果素子)自身を用いることもできる。記録ヘッド専用の浮上面加工用加工検知パターンは、主磁極のレジストパターン形成時に、同時にレジストパターンを形成する方が精度の上で有利である。
また、本発明による磁気ヘッドは、主磁極と、補助磁極と、更に主磁極近傍にシールドを有する垂直記録用磁気ヘッドにおいて、主磁極近傍のシールドのレジストパターン形成時に、同時にレジストパターン形成をした浮上面加工用加工検知パターンを有し、更に再生ヘッド専用の浮上面加工用加工検知パターンを有していてもよい。これら、主磁極近傍のシールドのレジストパターン形成時にレジストパターン形成をした浮上面加工用加工検知パターンと再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンの両方を使用して浮上面加工してもよく、別の方法として、再生ヘッドの加工のモニタリングには再生素子自身を用いてもよい。
本発明によれば、高精度なスロートハイト加工を実現できる。再生ヘッドのELGまたは再生ヘッド自身の抵抗をモニターしながら加工すれば、再生ヘッドの素子高さと記録ヘッドのスロートハイトの両方を最適化することができる。また、主磁極近傍にシールド(トレーリングシールド等々)を配置する場合、同様に浮上面加工用加工検知パターンを設ければ、トレーリングシールドの浮上面からの厚みを制御することも可能である。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。理解を容易にするため、以下の図において同様の機能部分には同じ符号を付して説明する。
図2は磁気記録再生装置の概念図であり、図2(a)は平面図、図2(b)は断面図である。磁気記録再生装置は、モータによって回転駆動される磁気ディスク1上に、アーム2の先端に固定された磁気ヘッド3によって磁化信号の記録、再生を行う。アーム2は、アクチュエータ5によってディスク半径方向に駆動され、記録あるいは再生されるトラック上に位置決めされる。磁気ヘッド3を駆動する記録信号あるいは磁気ヘッドから送出される再生信号は信号処理回路24によって処理される。
図3に、アーム2を振ることによって、磁気ヘッド3を磁気ディスク1上で動かしたときの概略図を示す。このとき、図に示すようにスキュー角が発生する。スキュー角の範囲は±20°程度である。
図4は、垂直記録の概略図を示す図である。磁気ヘッドは記録ヘッドと再生ヘッドからなる。記録ヘッドは磁気ディスク1の記録層に記録するための磁界を発生するヘッドであり、主磁極12、補助磁極11、及び主磁極と補助磁極が作る磁気回路に鎖交する薄膜コイル9を備える単磁極ヘッドである。再生ヘッドは磁気ディスク1の記録層に書き込まれた情報を読み取るためのヘッドであり、一対の再生シールド6,7に挟まれたGMR素子等の再生素子8を備える。記録ヘッドの主磁極12から出た磁界は磁気ディスク1の記録層、軟磁性裏打ち層を通り、補助磁極11に入る磁気回路を形成し、記録層に磁化パターン4を記録する。このとき、ディスク回転方向との関係から、主磁極12が磁気ディスクのある点から最後に離れる部分即ち主磁極の上面(トレーリング側)及び側面の形状が磁化パターンの形状に大きな影響を及ぼす。
図5に、垂直記録ヘッドの概略図を示す。図に示すスロートハイト(主磁極の浮上面からフレアポイントまでの高さ)H、再生ヘッド素子高さ(再生素子8の浮上面からの高さ)Lを制御することが、良好な記録再生特性を得るために必要である。図6には、記録ヘッドと再生ヘッドの両方に浮上面加工用加工検知パターン(ELG)15,16を配置した概略を示す。
図7は、本発明の実施例を示す概念図である。本実施例は、スライダーになる部分それぞれに、記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターン(ELG)15と、再生ヘッドの浮上面加工用加工検知パターン(ELG)16を設けた例である。記録ヘッド側の浮上面加工用加工検知パターンを用いて、記録ヘッドのスロートハイトをモニターしながら、浮上面加工を行う。この際、再生ヘッドの浮上面加工用加工検知パターン16もモニターすることによって、記録ヘッドのスロートハイトH及び再生ヘッドのセンサーハイトLの両方をコントロールすることができる。現在、求められるスロートハイトHは300nm以下で、加工精度は±50nm以下である。ELGを用いれば±50nm以下の加工精度での加工が可能であり、記録ヘッドのスロートハイトの加工精度を制御することができる。
図8は、本発明の他の実施例を示す概念図である。本実施例は、スライダーになる部分それぞれに、記録ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターン15だけを配置した例である。再生ヘッドについては、再生ヘッドのセンサ膜自身を浮上面加工用加工検知パターンとして利用する。
図9は、本発明の他の実施例を示す概念図である。本実施例は、各ヘッドとヘッドの間に記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターン18を配置し、バー状態で浮上面の加工を行う場合の例である。加工検知パターン18の全てを記録ヘッド用とし、記録ヘッドのスロートハイトを最適化するように加工し、再生ヘッドはスライダーに加工後の、トランスファーカーブの測定により、選別するようにする。あるいは、全ての浮上面加工用加工検知パターンを記録ヘッド用とし、再生ヘッド加工用としては浮上面加工用加工検知パターンの代わりに、再生ヘッド自身を用いて、再生ヘッド素子高さLと記録ヘッドのスロートハイトHのそれぞれが最適になるように加工を行う。
図10は、本発明による別の加工検知パターンの配置例を示す概念図である。本実施例は、浮上面加工用加工検知パターンとして、記録ヘッド用の加工検知パターン18と再生ヘッド用の加工検知パターン17の両方を交互に配置し、バー状態で浮上面の加工を行う場合の例である。このときは、それぞれの加工検知パターンを用いて、再生ヘッド素子高さLと記録ヘッドのスロートハイトHのそれぞれが最適になるように加工を行うことができる。
図11は、記録ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンと再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンを用いた浮上面加工の概念図である。図11(a)は斜視図、図11(b)は断面図である。ヘッドの浮上面研磨加工の途中で、記録ヘッド及び再生ヘッド用の加工検知パターンの抵抗をチェックし、例えば、再生ヘッドのセンサーハイトに比較して、記録ヘッドのスロートハイトが大きいことが分かれば、図11(a)に矢印で示すように、記録ヘッドのスロートハイトが小さくなるように、傾けて研磨加工する。こうして、再生ヘッドのセンサーハイトとともに記録ヘッドのスロートハイトが所望の値となるように加工を制御する。なお、再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンを設けず、再生ヘッドのセンサ素子自身を加工検知パターンとして利用しても、同様の加工が可能である。このときはセンサ素子の抵抗を測定することによってセンサーハイトを知る。
加工検知パターン(ELG)の形成は、フォトリソグラフィー工程での合わせずれを防ぐため、狙いとなる工程(記録ヘッド部の場合は、主磁極のフォトリソグラフィー工程)で、加工検知パターンのフォトリソグラフィーを行う必要がある。更に詳しく言えば、主磁極加工用のパターンを形成したマスク(またはレチクル)上に、主磁極自身のパターンの浮上面加工用加工検知パターンを配置する必要がある。また、記録ヘッドの主磁極の膜厚は200〜300nm程度で、約30nmである再生ヘッドのGMR膜の膜厚に比較すると厚く、膜の電気抵抗が低い。そのため、加工検知パターン(ELG)を作製したときに、研磨による加工検知パターンの高さの変化に対する抵抗の変化が小さく、スロートハイトのコントロールにおける感度が低くなる。そのための対策としては、加工検知部の膜のみを、再生ヘッド部の加工検知に使用されている膜と同等の抵抗を持つ膜に変更すればよい。このような膜としては、例えば、NiFe,Ta,NiCr,Cr膜等が使用可能である。この変更により加工検知の精度が向上し、スロートハイトの加工精度が向上する。更に、再生ヘッドの加工検知に使用されている膜と同等の抵抗の膜を使用すること、すなわち、再生ヘッドの加工検知と同等の加工特性を持つ膜を利用することによって、浮上面の加工量と加工検知パターンの抵抗変化率の関係が再生ヘッドと記録ヘッドで同じになり、再生ヘッドのセンサーハイトと記録ヘッドのスロートハイトの加工制御性が向上する。
図12−1及び図12−2は、浮上面加工用加工検知パターンの形成工程を説明する図である。(a)は、予め加工検知パターンの電極20を形成したところを示す。(b)は、電極パターン20の上に記録ヘッドの主磁極用膜22が成膜されたところを示している。(c)は、加工検知パターンを形成する部位にリフトオフパターン34を形成し、ミリングによって、主磁極用膜を除去したとことを示す。(d)は、加工検知パターン用膜としてスパッタリングによってNiFeを20nm形成したところを示す。なお、電極20は加工検知パターン用膜21の下にあるが、理解を容易にするため図示した。
次に、(e)は、リフトオフにより不要部のマスク材とNiFe膜を除去し、主磁極用膜22を、加工検知パターン用膜21に部分的に置き換えたところを示す。この加工検知用膜としては、NiFeの他にTa,NiCr,Cr等の膜が適用可能である。(f)は、加工検知用フォトレジストパターン23を、主磁極パターン形成時に、形成したところを示す。最後に、(g)に示すように、(f)で形成したフォトレジストパターンをマスクにイオンミリングでエッチングし、加工検知パターンを作製する。この方法で作製した加工検知パターンを用いて、浮上面加工を行うことにより、スロートハイトの加工精度±30nmが達成できた。
図13及び図14は、主磁極からの磁界勾配や磁界分布の改善ために、トレーリングシールドやサイドシールドを形成したヘッドの例を示す図である。図13はトレーリングシールド30を形成した例を示し、図14はサイドシールド31を形成したヘッドの例を示している。
これらのトレーリングシールド30やサイドシールド31の浮上面からの厚みGdも、スロートハイトHと同様に重要である。それは、トレーリングシールド30やサイドシールド31の浮上面からの厚みGdがスロートハイトHに比較して厚い場合、主磁極から媒体に印加される磁界強度が低下するからである。反対に薄い場合は、十分な磁界勾配向上の効果や磁界分布改善の効果が見られない。そのため、トレーリングシールド30やサイドシールド31の浮上面からの厚みGdの高精度な制御が求められる。
このため、トレーリングシールドやサイドシールド用の加工検知パターンを設けて、浮上面加工することにより浮上面からの厚みの高精度化が達成できる。このとき、トレーリングシールドやサイドシールドのウエハプロセスでの厚み(膜厚)は1〜2μmあり、主磁極の厚さ(膜厚)と比較しても厚い。主磁極や再生ヘッドの形成プロセスであるミリングプロセスと異なり、めっきプロセスをとる場合もある。この場合も、トレーリングシールドやサイドシールドのフォトリソグラフィーを行うときに、同時に加工検知パターン用のフォトレジストパターンを形成する必要がある。
図15−1及び図15−2は、トレーリングシールドやサイドシールド用の浮上面加工用加工検知パターンの形成工程を説明する図である。加工検知パターン部の断面図、上面図とともに、主磁極部の上面図も合わせて示す。
最初に(a)は、加工検知パターンの電極20を形成したところを示している。(b)は、電極パターン20の上に、主磁極用膜22を成膜したところを示している。(c)は、加工検知パターンを形成する部位にリフトオフパターン34を形成し、ミリングによって主磁極用膜を除去したところを示す。(d)は、加工検知パターン用膜としてスパッタリングによってNiFeを20nm形成したところを示す。なお、電極20は加工検知パターン用膜21の下にあるが、理解を容易にするため、図示している。(e)は、リフトオフにより不要部のマスク材とNiFe膜を除去し、主磁極用膜22を加工検知パターン用膜21に部分的に置き換えたところを示す。この加工検知用膜としては、NiFeの他にもTa,NiCr,Cr等の膜が適用可能である。なお、電極20は加工検知パターン用膜21の下にあるが、理解しやすくするため、図示している。
次に、(f)は、その上に、アルミナまたはシリカのような絶縁膜24を積層したところを示す。なお、本来は、電極20が加工検知パターン用膜21の下にあるが、理解しやすくするため、図示している。(g)は、その絶縁膜24上に、めっき下地膜を形成した後、トレーリングシールドまたはサイドシールド用のめっきフレームを形成する際に、同時に加工検知パターン用のレジストパターン25を形成したところを示す。なお、本来は、フォトレジストパターン25があり、電極20及び主磁極は見えないが、理解を容易にするために、示している。(h)の工程で、トレーリングまたはサイドシールドのめっき時に加工検知パターン部にも、めっきパターン26を形成する。次に(i)のように、フォトレジストパターン及びめっき下地膜を除去後、絶縁膜24に、例えばイオンミリングでパターンを転写し、それをマスクに加工検知パターン用膜21にパターンを例えばイオンミリングで転写し、トレーリングシールド用加工検知パターンを得る。
上述の方法で作製したトレーリングシールド用加工検知パターンを用いて、浮上面加工を行うことにより、トレーリングシールドの浮上面からの厚みの加工精度±30nmが達成できた。
図16は、スライダーにヒーター33を内蔵し、加熱によって浮上面の記録ヘッド、再生ヘッド部を突出させることによって、記録再生ヘッドと磁気ディスク面との距離を近づける機構を設けた磁気ヘッドの例を示す図である。このようなヘッドであっても、本発明の方法によってスロートハイトのコントロールを行うことができる。
この垂直記録用磁気ヘッドを搭載することにより、トラック密度及び線密度を向上させることができ、面記録密度200Gbit/in2の磁気記録再生装置を作製できた。
垂直記録用ヘッドの記録磁界とスロートハイトとの関係を示す図。 磁気記録再生装置の概念の概略図。 磁気記録再生装置動作時の概略図。 垂直記録の動作概略図。 垂直記録用磁気ヘッドの概略図。 記録ヘッドと再生ヘッドの両方に加工検知パターンを配置した場合の概略図。 記録ヘッドと再生ヘッドの両方に加工検知パターンを配置したヘッドの概略図。 記録ヘッドに加工検知パターンを配置したヘッドの概略図。 記録ヘッド用加工検知パターンを配置した場合のバーの概略図。 記録ヘッド用加工検知パターンと再生ヘッド用加工検知パターンを配置した場合のバーの概略図。 記録ヘッド用及び再生ヘッド用加工検知パターンを配置し、浮上面加工を行う場合の概略図。 記録ヘッド用加工検知パターン形成工程の概略図。 記録ヘッド用加工検知パターン形成工程の概略図。 トレーリングシールド付きヘッドの概略図。 サイドシールド付きヘッドの概略図。 トレーリングシールド、サイドシールド付きヘッド付きヘッドでの記録ヘッド用加工検知パターン形成工程の概略図。 トレーリングシールド、サイドシールド付きヘッド付きヘッドでの記録ヘッド用加工検知パターン形成工程の概略図。 浮上面の一部(ヘッド部)を突出させるためのヒーターを設けたスライダーの概略図。
符号の説明
1…磁気ディスク、2…アーム、3…磁気ヘッド、4…磁化信号、5…アクチュエータ、6,7…再生シールド、8…再生素子、9…導体コイル、11…補助磁極、12…主磁極、15…記録ヘッド用加工検知パターン、16…再生ヘッド用加工検知パターン、17…再生ヘッド用加工検知パターン、18…記録ヘッド用加工検知パターン、20…電極、21…加工検知パターン用膜、22…主磁極膜、23…フォトレジストパターン、24…無機絶縁膜、25…フォトレジストパターン、26…めっきパターン、30…トレーリングシールド、31…サイドシールド、33…ヒーター、34…リフトオフ用マスク材、H…スロートハイト、L…再生素子高さ

Claims (22)

  1. 磁気抵抗効果膜を備える再生ヘッドと、主磁極と補助磁極を有する記録ヘッドとを備える磁気ヘッドにおいて、
    前記主磁極のスロートハイトの制御に用いられる前記記録ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンを有することを特徴とする磁気ヘッド。
  2. 請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、前記主磁極の膜厚方向の一方の面は、前記浮上面加工用加工検知パターンの一方の面と略同一平面に形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
  3. 請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、前記浮上面加工用加工検知パターンの膜厚は前記主磁極の膜厚よりも薄いことを特徴とする磁気ヘッド。
  4. 請求項1記載の磁気ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効果膜の浮上面からの高さの制御に用いられる再生ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンを有することを特徴とする磁気ヘッド。
  5. 請求項4記載の磁気ヘッドにおいて、前記記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンと前記再生ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンは膜の電気抵抗が略同等の材料からなることを特徴とする磁気ヘッド。
  6. 請求項4記載の磁気ヘッドにおいて、前記記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンと前記再生ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンは加工特性が略同等の材料からなることを特徴とする磁気ヘッド。
  7. 磁気抵抗効果膜を備える再生ヘッドと、主磁極と補助磁極と前記主磁極近傍に形成されたシールドを有する記録ヘッドとを備える磁気ヘッドにおいて、
    前記シールドの浮上面からの厚さの制御に用いられる記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンを有することを特徴とする磁気ヘッド。
  8. 請求項7記載の磁気ヘッドにおいて、前記主磁極の膜厚方向の一方の面は、前記浮上面加工用加工検知パターンの一方の面と略同一平面に形成されていることを特徴とする磁気ヘッド。
  9. 請求項7記載の磁気ヘッドにおいて、前記浮上面加工用加工検知パターンの膜厚は前記主磁極の膜厚よりも薄いことを特徴とする磁気ヘッド。
  10. 請求項7記載の磁気ヘッドにおいて、前記磁気抵抗効果膜の浮上面からの高さの制御に用いられる再生ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンを有することを特徴とする磁気ヘッド。
  11. 主磁極と補助磁極を有する記録ヘッドを備える磁気ヘッドの製造方法において、
    前記記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンを、当該パターンの一方の面を前記主磁極の膜厚方向の一方の面と略同一平面にして形成する工程と、
    前記磁気ヘッドの浮上面を研磨加工する浮上面加工工程とを有し、
    前記浮上面加工工程では前記浮上面加工用加工検知パターンを用いて前記主磁極のスロートハイトを制御することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  12. 請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンの形成工程では、加工検知パターン形成用レジストパターンを、主磁極形成用レジストパターン形成時に同時に形成することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  13. 請求項12記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記加工検知パターン形成用レジストパターン及び前記主磁極形成用レジストパターンはフォトリソグラフィー用のパターンであることを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  14. 請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記磁気ヘッドは更に磁気抵抗効果膜を有する再生ヘッドと、再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンとを有し、前記浮上面加工工程では前記再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンも用いて前記磁気ヘッドの浮上面加工を制御することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  15. 請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記磁気ヘッドは更に磁気抵抗効果膜を有する再生ヘッドを有し、前記浮上面加工工程では前記磁気抵抗効果膜を浮上面加工用加工検知パターンとして用いて前記磁気抵抗効果膜の素子高さも制御することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  16. 請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記浮上面加工工程において、浮上面の研磨加工をバー状態で行うことを特徴する磁気ヘッドの製造方法。
  17. 請求項11記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンをスライダー毎に有し、前記浮上面加工工程において、浮上面の研磨加工を単品のスライダー状態で行うことを特徴する磁気ヘッドの製造方法。
  18. 主磁極と補助磁極と前記主磁極近傍に設けられたシールドを有する記録ヘッドを備える磁気ヘッドの製造方法において、
    前記シールド加工用のレジストパターン形成時に同時に浮上面加工用加工検知パターン用のレジストパターンを形成するステップと、
    前記レジストパターンを用いて前記浮上面加工用加工検知パターンを形成する工程と、
    前記磁気ヘッドの浮上面を研磨加工する浮上面加工工程とを有し、
    前記浮上面加工工程では、前記浮上面加工用加工検知パターンを用いて前記シールドの素子高さ方向の厚さを制御することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  19. 請求項18記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記磁気ヘッドは更に磁気抵抗効果膜を有する再生ヘッドと、再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンとを有し、前記浮上面加工工程では前記再生ヘッド用の浮上面加工用加工検知パターンも用いて前記磁気ヘッドの浮上面加工を制御することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  20. 請求項18記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記磁気ヘッドは更に磁気抵抗効果膜を有する再生ヘッドを有し、前記浮上面加工工程では前記磁気抵抗効果膜を浮上面加工用加工検知パターンとして用いて前記磁気抵抗効果膜の素子高さも制御することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
  21. 請求項18記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記浮上面加工工程において、浮上面の研磨加工をバー状態で行うことを特徴する磁気ヘッドの製造方法。
  22. 請求項18記載の磁気ヘッドの製造方法において、前記記録ヘッドの浮上面加工用加工検知パターンをスライダー毎に有し、前記浮上面加工工程において、浮上面の研磨加工を単品のスライダー状態で行うことを特徴する磁気ヘッドの製造方法。
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006073088A (ja) * 2004-09-01 2006-03-16 Shinka Jitsugyo Kk 薄膜磁気ヘッド構造体およびその製造方法、ならびに薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2006172691A (ja) * 2004-11-16 2006-06-29 Shinka Jitsugyo Kk 磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッド、角度設定装置、およびラッピング装置
JP2008059714A (ja) * 2006-09-01 2008-03-13 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッドスライダの製造方法
US7369361B2 (en) 2005-02-07 2008-05-06 Headway Technologies, Inc. Magnetic head and magnetic head substructure including resistor element whose resistance corresponds to the length of the track width defining portion of the pole layer
JP2009076122A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Shinka Jitsugyo Kk 磁気ヘッドおよびその製造方法
JP2009217883A (ja) * 2008-03-10 2009-09-24 Sae Magnetics (Hk) Ltd 薄膜磁気ヘッドの製造方法
US7634850B2 (en) 2006-07-21 2009-12-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of manufacturing magnetic head slider
US7832085B2 (en) 2007-03-16 2010-11-16 Tdk Corporation Method of manufacturing magnetic head and method of manufacturing magnetic head substructure
US7854060B2 (en) 2007-12-06 2010-12-21 Tdk Corporation Magnetic head substructure for use for manufacturing a magnetic head
US7874063B2 (en) 2005-08-23 2011-01-25 Tdk Corporation Thin film magnetic head integrated structure
CN101972952A (zh) * 2010-07-13 2011-02-16 厦门大学 轴对称可变磁场抛光轮
US7903378B2 (en) 2006-09-22 2011-03-08 Tdk Corporation Magnetic head structure and method for manufacturing magnetic head structure
US8254057B1 (en) 2012-02-08 2012-08-28 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Detecting wedge angle with a third electric lapping guide (ELG) during manufacture of a magnetic head

Families Citing this family (40)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006048806A (ja) * 2004-08-03 2006-02-16 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッドとその製造方法
JP2006209905A (ja) * 2005-01-31 2006-08-10 Toshiba Corp 垂直磁気ヘッドが形成されたローバーのラッピング方法およびラッピング装置
US8390962B2 (en) * 2005-09-29 2013-03-05 HGST Netherlands B.V. Lapping method and station to achieve tight dimension controls for both read and write elements of magnetic recording heads and magnetic storage device formed thereby
US20080273265A1 (en) * 2007-05-03 2008-11-06 Gee Glenn P Determining smear of a hard disk drive slider
US8099855B2 (en) * 2007-12-16 2012-01-24 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Methods for fabricating perpendicular recording heads with controlled separation regions
US8082658B2 (en) * 2008-02-25 2011-12-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Controlled lapping for an ABS damascene process
US8151441B1 (en) 2008-03-27 2012-04-10 Western Digital (Fremont), Llc Method for providing and utilizing an electronic lapping guide in a magnetic recording transducer
US8161627B2 (en) * 2008-04-28 2012-04-24 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of making a write head lapping guide about aligned to a non-magnetic layer surrounding a write pole
US8089724B2 (en) * 2008-05-19 2012-01-03 Seagate Technology Llc Self-aligned perpendicular writer pole and front shield
JP2010003332A (ja) * 2008-06-18 2010-01-07 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 垂直磁気記録ヘッドの製造方法
US8018678B1 (en) 2008-11-26 2011-09-13 Western Digital (Fremont), Llc Method for simultaneous electronic lapping guide (ELG) and perpendicular magnetic recording (PMR) pole formation
US8008912B1 (en) 2008-12-16 2011-08-30 Western Digital (Fremont), Llc Method and system for testing P2 stiffness of a magnetoresistance transducer at the wafer level
US8254066B2 (en) * 2008-12-30 2012-08-28 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Technique for measuring process induced magnetic anisotropy in a magnetoresistive sensor
US8082657B2 (en) * 2008-12-30 2011-12-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for manufacturing an electrical lapping guide for magnetic write head core width optimization
US8065788B2 (en) * 2008-12-30 2011-11-29 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for manufacturing a slider for a perpendicular magnetic recording head
US8165709B1 (en) 2009-02-26 2012-04-24 Western Digital (Fremont), Llc Four pad self-calibrating electronic lapping guide
US8291743B1 (en) 2009-05-27 2012-10-23 Western Digital (Fremont), Llc Method and system for calibrating an electronic lapping guide for a beveled pole in a magnetic recording transducer
US8443510B1 (en) 2009-05-28 2013-05-21 Western Digital (Fremont), Llc Method for utilizing an electronic lapping guide for a beveled pole in a magnetic recording transducer
US8307539B1 (en) 2009-09-30 2012-11-13 Western Digital (Fremont), Llc Method for modeling devices in a wafer
US8449752B2 (en) * 2009-09-30 2013-05-28 HGST Netherlands B.V. Trailing plated step
US20110075299A1 (en) * 2009-09-30 2011-03-31 Olson Trevor W Magnetic write heads for hard disk drives and method of forming same
US8724258B2 (en) * 2009-09-30 2014-05-13 HGST Netherlands B.V. Slanted bump design for magnetic shields in perpendicular write heads and method of making same
US8375565B2 (en) 2010-05-28 2013-02-19 Western Digital (Fremont), Llc Method for providing an electronic lapping guide corresponding to a near-field transducer of an energy assisted magnetic recording transducer
US8343364B1 (en) 2010-06-08 2013-01-01 Western Digital (Fremont), Llc Double hard-mask mill back method of fabricating a near field transducer for energy assisted magnetic recording
US8453317B2 (en) * 2010-10-14 2013-06-04 HGST Netherlands, B.V. Magnetic write head fabrication with integrated electrical lapping guides
US8749790B1 (en) 2011-12-08 2014-06-10 Western Digital (Fremont), Llc Structure and method to measure waveguide power absorption by surface plasmon element
US9286930B2 (en) 2013-09-04 2016-03-15 Seagate Technology Llc In-situ lapping plate mapping device
US9441938B1 (en) 2013-10-08 2016-09-13 Western Digital (Fremont), Llc Test structures for measuring near field transducer disc length
US8988835B1 (en) * 2013-10-14 2015-03-24 International Business Machines Corporation Contact recording tunnel magnetoresistive sensor with layer of refractory metal
US9129660B2 (en) 2013-12-04 2015-09-08 HGST Netherlands B.V. Transducer resistor shunt structure for low-cost probing
US9361916B1 (en) * 2014-03-13 2016-06-07 Western Digital (Fremont) Electrical lapping guide for dimensional control of back side of heat assisted magnetic recording device
US9721595B1 (en) 2014-12-04 2017-08-01 Western Digital (Fremont), Llc Method for providing a storage device
JP2017037695A (ja) * 2015-08-12 2017-02-16 株式会社東芝 磁気記録ヘッドの製造方法
CN205845513U (zh) * 2016-07-19 2016-12-28 新科实业有限公司 用于形成磁头的长形条及晶圆
US9704514B1 (en) 2016-10-07 2017-07-11 International Business Machines Corporation High accuracy bearing surface slotting process for tape head fabrication
US9799355B1 (en) 2016-10-18 2017-10-24 International Business Machines Corporation High accuracy tape bearing surface length definition process for tape head fabrication
US9779766B1 (en) * 2016-10-24 2017-10-03 International Business Machines Corporation High accuracy tape bearing surface length definition process by closure lapping for tape head fabrication
US10290314B1 (en) 2017-06-30 2019-05-14 Seagate Technology Llc Locating electrical contact pads on a slider body, and related row bars that include such slider bodies
US10971176B2 (en) 2019-02-21 2021-04-06 International Business Machines Corporation Tunnel magnetoresistive sensor with adjacent gap having chromium alloy seed layer and refractory material layer
US11823712B2 (en) * 2020-08-19 2023-11-21 Headway Technologies, Inc. Built-in resistance sensor for measuring slider level pole width at point “A” (PWA) for PMR/MAMR writers

Family Cites Families (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4670732A (en) * 1985-08-15 1987-06-02 International Business Machines Electrical lapping guide resistor
US4689877A (en) * 1985-08-29 1987-09-01 International Business Machines Corp. Method and apparatus for controlling the throat height of batch fabricated thin film magnetic transducers
US5175938A (en) * 1988-08-31 1993-01-05 Digital Equipment Corporation Electrical guide for tight tolerance machining
US4914868A (en) 1988-09-28 1990-04-10 International Business Machines Corporation Lapping control system for magnetic transducers
US5210667A (en) * 1991-02-19 1993-05-11 International Business Machines Corporation Magnetic recording heads employing multiple lapping guides
US5579717A (en) * 1994-10-13 1996-12-03 International Business Machines Corporation Method of grinding thin-film magnetic heads using optical grinding markers
US5588199A (en) * 1994-11-14 1996-12-31 International Business Machines Corporation Lapping process for a single element magnetoresistive head
US5749769A (en) * 1994-12-16 1998-05-12 International Business Machines Corporation Lapping process using micro-advancement for optimizing flatness of a magnetic head air bearing surface
US5772493A (en) * 1995-07-31 1998-06-30 Read-Rite Corporation Method and apparatus for controlling the lapping of magnetic heads
US5703740A (en) * 1995-08-24 1997-12-30 Velocidata, Inc. Toroidal thin film head
US5678086A (en) * 1996-07-22 1997-10-14 Eastman Kodak Company Patterned multi-track thin film heads for image area record/reproduce on magnetics-on-film
US5742995A (en) * 1996-05-24 1998-04-28 Seagate Technology, Inc. Method to predict an accurate MR sensor dimension when viewed from abs
JPH10172115A (ja) 1996-12-09 1998-06-26 Sanyo Electric Co Ltd 薄膜磁気ヘッド
US6027397A (en) * 1997-04-25 2000-02-22 International Business Machines Corporation Dual element lapping guide system
US5997381A (en) * 1997-09-29 1999-12-07 Storage Technology Corporation Lapping sensor for thin film recording elements and method for manufacturing same
JP3439129B2 (ja) 1998-08-25 2003-08-25 富士通株式会社 磁気ヘッドの製造方法
JP2000137905A (ja) 1998-10-30 2000-05-16 Nec Corp 磁気抵抗効果ヘッドおよび磁気抵抗効果ヘッドの製造方法
US6193584B1 (en) * 1999-05-27 2001-02-27 Read-Rite Corporation Apparatus and method of device stripe height control
US6347983B1 (en) * 1999-06-09 2002-02-19 Seagate Technology Llc ELG for both MRE sensor height and resistance monitoring
JP3569474B2 (ja) 2000-01-13 2004-09-22 Tdk株式会社 加工用治具
JP2002100005A (ja) 2000-09-25 2002-04-05 Toshiba Corp 磁気ヘッド
JP3875019B2 (ja) 2000-12-26 2007-01-31 アルプス電気株式会社 垂直磁気記録ヘッドおよびその製造方法
JP2002298309A (ja) 2001-01-26 2002-10-11 Alps Electric Co Ltd 磁気ヘッド及びその製造方法
US6950289B2 (en) * 2001-03-16 2005-09-27 Lafe Computer Magnetics Ltd. Embedded lapping guide for a magnetic head cluster
US6954340B2 (en) * 2001-05-23 2005-10-11 Seagate Technology Llc Perpendicular magnetic recording head with nonmagnetic write gap greater than twice side shield gap distance
US6728067B2 (en) * 2001-07-30 2004-04-27 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Slider having integrated lapping guides
JP3650051B2 (ja) * 2001-07-30 2005-05-18 Tdk株式会社 加工モニタ素子、並びに磁気変換素子および加工モニタ素子の集合体、並びに磁気変換素子の製造方法
US6857937B2 (en) * 2002-05-30 2005-02-22 Komag, Inc. Lapping a head while powered up to eliminate expansion of the head due to heating
US7119990B2 (en) * 2002-05-30 2006-10-10 Komag, Inc. Storage device including a center tapped write transducer
US6758722B2 (en) * 2002-07-12 2004-07-06 Sae Magentics, (H.K.) Ltd. Dual-purpose lapping guide for the production of magneto-resistive heads
US6982042B2 (en) * 2003-02-28 2006-01-03 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands, B.V. Ion bombardment of electrical lapping guides to decrease noise during lapping process
US6935923B2 (en) * 2003-03-12 2005-08-30 Seagate Technology Llc Sensor stripe encapsulation layer in a read/write head
US7062838B2 (en) * 2003-09-19 2006-06-20 Hitachi Global Storage Technologies Netherland B.V. Method of forming an embedded read element
US7014530B2 (en) * 2003-09-29 2006-03-21 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Slider fabrication system for sliders with integrated electrical lapping guides
US7116519B2 (en) * 2003-12-15 2006-10-03 International Business Machines Corporation Patterning of integrated closure for implementing pads connected to lapping elements
US7206172B2 (en) * 2004-02-20 2007-04-17 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Electrical lapping guide embedded in a shield of a magnetic head
JP4124753B2 (ja) 2004-04-27 2008-07-23 Tdk株式会社 薄膜磁気ヘッド素子の研磨加工方法、薄膜磁気ヘッド素子のウエハ、および薄膜磁気ヘッド素子の研磨加工装置
US7469465B2 (en) * 2004-06-30 2008-12-30 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of providing a low-stress sensor configuration for a lithography-defined read sensor
US7016143B2 (en) * 2004-07-07 2006-03-21 International Business Machines Corporation Utilization of tape head electronic lapping guides (ELG's) as servo format verifiers
JP2006048806A (ja) * 2004-08-03 2006-02-16 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッドとその製造方法
US7290325B2 (en) * 2004-08-13 2007-11-06 Quantum Corporation Methods of manufacturing magnetic heads with reference and monitoring devices
US7245459B2 (en) * 2004-09-30 2007-07-17 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv Critically exposed lapping of magnetic sensors for target signal output
US7360296B2 (en) * 2004-09-30 2008-04-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for reducing damage to sliders during lapping
US7369361B2 (en) * 2005-02-07 2008-05-06 Headway Technologies, Inc. Magnetic head and magnetic head substructure including resistor element whose resistance corresponds to the length of the track width defining portion of the pole layer
US7788796B2 (en) * 2006-12-15 2010-09-07 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method FPR manufacturing a magnetic write head

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006073088A (ja) * 2004-09-01 2006-03-16 Shinka Jitsugyo Kk 薄膜磁気ヘッド構造体およびその製造方法、ならびに薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP4516386B2 (ja) * 2004-09-01 2010-08-04 新科實業有限公司 薄膜磁気ヘッド構造体およびその製造方法、ならびに薄膜磁気ヘッドの製造方法
JP2006172691A (ja) * 2004-11-16 2006-06-29 Shinka Jitsugyo Kk 磁気ヘッドの製造方法、磁気ヘッド、角度設定装置、およびラッピング装置
US7369361B2 (en) 2005-02-07 2008-05-06 Headway Technologies, Inc. Magnetic head and magnetic head substructure including resistor element whose resistance corresponds to the length of the track width defining portion of the pole layer
US7874063B2 (en) 2005-08-23 2011-01-25 Tdk Corporation Thin film magnetic head integrated structure
US7634850B2 (en) 2006-07-21 2009-12-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method of manufacturing magnetic head slider
JP2008059714A (ja) * 2006-09-01 2008-03-13 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands Bv 磁気ヘッドスライダの製造方法
JP4685734B2 (ja) * 2006-09-01 2011-05-18 ヒタチグローバルストレージテクノロジーズネザーランドビーブイ 磁気ヘッドスライダの製造方法
US7681303B2 (en) 2006-09-01 2010-03-23 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Method for manufacturing a magnetic head slider
US7903378B2 (en) 2006-09-22 2011-03-08 Tdk Corporation Magnetic head structure and method for manufacturing magnetic head structure
US7832085B2 (en) 2007-03-16 2010-11-16 Tdk Corporation Method of manufacturing magnetic head and method of manufacturing magnetic head substructure
JP2009076122A (ja) * 2007-09-19 2009-04-09 Shinka Jitsugyo Kk 磁気ヘッドおよびその製造方法
US7854060B2 (en) 2007-12-06 2010-12-21 Tdk Corporation Magnetic head substructure for use for manufacturing a magnetic head
JP2009217883A (ja) * 2008-03-10 2009-09-24 Sae Magnetics (Hk) Ltd 薄膜磁気ヘッドの製造方法
CN101972952A (zh) * 2010-07-13 2011-02-16 厦门大学 轴对称可变磁场抛光轮
US8254057B1 (en) 2012-02-08 2012-08-28 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Detecting wedge angle with a third electric lapping guide (ELG) during manufacture of a magnetic head

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Publication number Publication date
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