JP2017031033A - 塩素バイパス排ガスの処理方法及び塩素バイパスシステム - Google Patents
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Abstract
【課題】設備コストを低く抑えながら、塩素バイパス排ガスを安定して処理する。
【解決手段】セメントキルン2の窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部G1を冷却しながら抽気し、抽気ガスG3、G4から塩素バイパスダストD5を回収した後のガスG5に粉体状の脱硫剤DAを添加し、脱硫剤添加後のガスG6をセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に、脱硫剤添加後のガスから除塵する。除塵ダストD6の一部を、脱硫剤の一部として塩素バイパスダストを回収した後のガスに添加してもよく、セメントに添加してもよい。塩素バイパスダストを回収した後、脱硫剤を添加する前後のガスのSO2濃度を測定し、該両SO2濃度に応じて前記脱硫剤の添加量を制御することができる。
【選択図】図1
【解決手段】セメントキルン2の窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部G1を冷却しながら抽気し、抽気ガスG3、G4から塩素バイパスダストD5を回収した後のガスG5に粉体状の脱硫剤DAを添加し、脱硫剤添加後のガスG6をセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に、脱硫剤添加後のガスから除塵する。除塵ダストD6の一部を、脱硫剤の一部として塩素バイパスダストを回収した後のガスに添加してもよく、セメントに添加してもよい。塩素バイパスダストを回収した後、脱硫剤を添加する前後のガスのSO2濃度を測定し、該両SO2濃度に応じて前記脱硫剤の添加量を制御することができる。
【選択図】図1
Description
本発明は、塩素バイパス排ガスの処理方法及び塩素バイパスシステムに関し、特に、塩素バイパスダストを回収した後のガスのSO2濃度を低減する方法等に関する。
近年、セメント製造工程で処理されるリサイクル廃棄物の増加に伴い、セメント製造装置から排出されるガス中の環境負荷物質の増加が懸念される。例えば、前記排ガス中のSO2の増加に伴い、高濃度のSO2を含む塩素バイパス排ガスをセメントキルンに付設されたプレヒータなどに戻してSO2濃度を低減しているが、熱量損失や硫黄分の濃縮によりセメントキルンの安定運転の阻害要因となっている。
そこで、特許文献1には、セメントキルンの窯尻からプレヒータの最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼排ガスの一部を冷却しながら抽気するプローブと、プローブによる抽気ガスを湿式で脱硫する脱硫装置と、脱硫装置から排出されるスラリーを分級する湿式分級装置とを備える塩素バイパスシステムが提案されている。
また、特許文献2には、プローブによる抽気ガスに水を噴霧し、抽気ガス中の生石灰と水とで生成された消石灰を、抽気ガス中のSO2と反応させて抽気ガス中のSO2を除去するスプレー塔と、スプレー塔の排ガスに含まれるダスト(石膏)を回収する乾式集塵機とを備えるセメントキルン燃焼排ガスの処理装置が提案されている。
しかし、上記特許文献1、2に記載の塩素バイパスシステムは、不純物の少ない脱塩ケーキを回収して塩素バイパスダストの用途を拡大したり、水の使用量を抑えながら塩素バイパス排ガスを処理することができるが、処理後の排ガス中水分の増加によるダクトや装置への結露、固形分の付着・堆積等が発生し、操業上のトラブルの原因となり、安定して処理するための設備が必要になる。
そこで、本発明は、上記従来の技術における問題点に鑑みてなされたものであって、用水の確保や排水、処理後の排ガス中の水分増加による運転阻害、及び回収物の処理を勘案することなく、設備コストを低く抑えながら、塩素バイパス排ガスを安定して処理することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明の塩素バイパス排ガスの処理方法は、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を冷却しながら抽気し、該抽気ガスから塩素バイパスダストを回収した後のガスに粉体状の脱硫剤を添加し、該脱硫剤添加後のガスをセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に、該脱硫剤添加後のガスから除塵することを特徴とする。
本発明によれば、粉体状の脱硫剤を塩素バイパスダストを回収した後のガスに添加するだけであるため、設備コストを低く抑えながら塩素バイパス排ガスを安定して処理することができる。また、塩素バイパスダストを回収した後のガスは、脱硫剤との反応性を高く保持できるため脱硫剤の添加位置として適する。
さらに、脱硫剤添加後のガスをセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に除塵するため、セメント焼成装置の排ガスに含まれるダスト中の硫黄分を低減し、このダストをセメント原料として再利用するセメント製造装置内のSO2濃度を低減することができる。
上記塩素バイパス排ガスの処理方法において、前記除塵ダストの一部を、前記脱硫剤の一部として前記塩素バイパスダストを回収した後のガスに添加することで、除塵ダストに残存する反応していない脱硫剤を再利用することができ、運転コストを低減することができる。
前記塩素バイパスダストを回収した後、前記脱硫剤を添加する前後のガスのSO2濃度を測定し、該両SO2濃度に応じて、前記除塵ダストの添加量を該除塵ダストの全量に対して30%以上80%以下の範囲で調整することができる。
前記除塵ダストの一部をセメントに添加することができる。これにより、上述のように、セメント製造装置内のSO2濃度を低減すると共に、除塵ダストを利用することができる。
前記除塵ダストの添加量を前記セメントの全量に対して0.01質量%以上3質量%以下の範囲で調整することができる。
前記脱硫剤は、消石灰、前記抽気ガスを分級して得られた粗粉又は前記セメントキルンの排ガスから除塵したダストとすることができる。これら粗粉やセメントキルンダストを用いることで運転コストの低減に繋がる。
前記塩素バイパスダストを回収した後、前記脱硫剤を添加する前後のガスのSO2濃度を測定し、該両SO2濃度に応じて前記脱硫剤の添加量を制御することができる。
また、本発明は、塩素バイパスシステムであって、セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を冷却しながら抽気するプローブと、該抽気ガスから塩素バイパスダストを回収する第1集塵機と、該第1集塵機の出口ガスに粉体状の脱硫剤を添加する脱硫剤添加装置と、該脱硫剤添加後のガスをセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に、該脱硫剤添加後のガスから除塵する第2集塵機とを備えることを特徴とする。
本発明によれば、上述のように、粉体状の脱硫剤を塩素バイパスダストを回収した後の第1集塵機の出口ガスに添加するだけであるため、設備コストを低く抑えながら、塩素バイパス排ガスを安定して処理することができる。また、脱硫剤添加後のガスをセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に除塵するため、セメント焼成装置の排ガスに含まれるダストの硫黄分を低減し、このダストをセメント原料として再利用するセメント製造装置内のSO2濃度を低減することができる。
以上のように、本発明によれば、設備コストを低く抑えながら、塩素バイパス排ガスを安定して処理することができ、セメント焼成装置の排ガスから集塵したダストをセメント原料として再利用するセメント製造装置内のSO2濃度も低減することなどが可能となる。
次に、本発明を実施するための形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
図1は、本発明に係る塩素バイパスシステムの一実施の形態を示し、この塩素バイパスシステム1は、セメントキルン2の窯尻から最下段サイクロン(不図示)に至るまでのキルン排ガス流路から燃焼ガスG1を抽気しながら低温ガスにより冷却するプローブ3と、プローブ3からの抽気ガスG2を粗粉D1と、微粉D2を含む排ガスG3とに分離する分級機としてのサイクロン4と、サイクロン4からの微粉D2を含む排ガスG3を冷却する冷却機5と、冷却機5からの排ガスG4から微粉D4を回収するバグフィルタ(第1集塵機)6と、バグフィルタ6の排ガスG5のSO2濃度を測定するSO2測定器7と、バグフィルタ6の排ガスG5に粉体状の脱硫剤DAを添加する脱硫剤添加装置8と、脱硫剤DA添加後の排ガスG6からダストD6を回収するバグフィルタ9(第2集塵機)と、バグフィルタ9の排ガスG7のSO2濃度を測定するSO2測定器10と、バグフィルタ9からのダストD6を脱硫剤添加装置8に添加したり、セメントに添加したりするダスト添加装置11とを備える。
上記塩素バイパスシステム1において、SO2測定器7、10、脱硫剤添加装置8、バグフィルタ9及びダスト添加装置11以外の各装置は、一般的な塩素バイパスシステムで用いられるものであって、これらについての説明は省略する。
次に、上記塩素バイパスシステム1における、本発明に係る塩素バイパス排ガスの処理方法について、同図を参照しながら詳細に説明する。
セメントキルン2の窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より、燃焼ガスG1をプローブ3によって抽気しながらKCl等の塩素化合物の融点である700℃以下、好ましくは300℃〜500℃にまで冷却する。次いで、サイクロン4において、プローブ3からの抽気ガスG2を粗粉D1と、微粉D2を含む排ガスG3とに分離する。
排ガスG3及び微粉D2は、冷却機5において冷風により150℃〜250℃に冷却され、冷却された排ガスG4をバグフィルタ6に導入する。バグフィルタ6において、微粉D4が集塵され、冷却機5で回収された微粉D3と共に塩素バイパスダストD5としてセメント焼成装置の系外に排出して処理する。
バグフィルタ6から排出された排ガスG5は、SO2測定器7によってSO2濃度が測定され、このSO2濃度に基づいて、脱硫剤添加装置8から脱硫剤DAが添加される。脱硫剤DAは、ロータリバルブを介して供給したり、粉体の吹込みが可能な装置(エジェクタ、ルーツブロアによる圧送吹込み)を用いて供給してもよい。また、排ガスG5に脱硫剤DAを拡散させながら供給する。
ここで、脱硫剤DAは、主に、消石灰SLと後述するバグフィルタ9で回収されたダストD6であるが、サイクロン4で分離された粗粉D1の一部D10、プレヒータ(セメントキルン2に付設、不図示)に付設された誘引ファン(図中のIDF)の出口側から集塵されたダスト(セメントキルンの排ガスから除塵したダスト)もSO2との反応性を考慮しながら用いることができる。尚、脱硫剤DAとして使用する粗粉D10は、塩素分を除去すると共に、ハンドリング性等を考慮し、水洗後脱水乾燥させたものが好ましい。また、粗粉D10を再度分級して粒度調整したものを用いることもできる。
脱硫剤DAの添加により、排ガスG5中のSO2が脱硫剤DAに含まれるCa(OH)2、CaO、CaCO3と反応してCaSO3又はCaSO4となり脱硫される。
脱硫後の排ガスG6は、誘引ファンの出口側に合流させる前に、バグフィルタ9に導入し、排ガスG6に含まれる脱硫剤DAと硫酸塩あるいは亜硫酸塩の混合物であるダスト(除塵ダスト)D6を回収してダスト添加装置11へ供給する。一方、バグフィルタ9から排出された排ガスG7は、SO2測定器10によってSO2濃度が測定された後、誘引ファンの出口側(IDF出口)に導入される。
ここで、SO2測定器10によって測定されたSO2濃度と、上記SO2測定器7によって測定されたSO2濃度とに応じて、脱硫剤DAの添加量を増減することができ、脱硫剤DAの添加量を適切に制御することができる。
ダスト添加装置11は、バグフィルタ9で回収されたダストD6の一部D7を脱硫剤添加装置8に戻す。ダストD7の供給量は、SO2測定器7、10によって測定されたSO2濃度に応じて制御することができ、ダストD6の30〜80%程度、より好ましくは50〜80%とする。これにより、ダストD6に残存する反応していない脱硫剤を再利用することができ、運転コストを低減することができる。
一方、ダスト添加装置11によるダストD8のセメントへの添加量は、前記除塵ダスト中の未反応生石灰及び消石灰量に応じて制御され、セメントの全量に対して0.01〜3質量%程度とする。これにより、塩素バイパスシステム1や、セメント製造装置内のSO2濃度を低減することができる。
1 塩素バイパスシステム
2 セメントキルン
3 プローブ
4 サイクロン
5 冷却機
6 バグフィルタ
7 SO2測定器
8 脱硫剤添加装置
9 バグフィルタ
10 SO2測定器
11 ダスト添加装置
D1 粗粉
D2〜D4 微粉
D5 塩素バイパスダスト
D6〜D8 ダスト
D9、D10 粗粉
DA 脱硫剤
G1 燃焼ガス
G2 抽気ガス
G3〜G7 排ガス
SL 消石灰
2 セメントキルン
3 プローブ
4 サイクロン
5 冷却機
6 バグフィルタ
7 SO2測定器
8 脱硫剤添加装置
9 バグフィルタ
10 SO2測定器
11 ダスト添加装置
D1 粗粉
D2〜D4 微粉
D5 塩素バイパスダスト
D6〜D8 ダスト
D9、D10 粗粉
DA 脱硫剤
G1 燃焼ガス
G2 抽気ガス
G3〜G7 排ガス
SL 消石灰
Claims (8)
- セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を冷却しながら抽気し、該抽気ガスから塩素バイパスダストを回収した後のガスに粉体状の脱硫剤を添加し、該脱硫剤添加後のガスをセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に、該脱硫剤添加後のガスから除塵することを特徴とする塩素バイパス排ガスの処理方法。
- 前記除塵ダストの一部を、前記脱硫剤の一部として前記塩素バイパスダストを回収した後のガスに添加することを特徴とする請求項1に記載の塩素バイパス排ガスの処理方法。
- 前記塩素バイパスダストを回収した後、前記脱硫剤を添加する前後のガスのSO2濃度を測定し、該両SO2濃度に応じて、前記除塵ダストの添加量を該除塵ダストの全量に対して30%以上80%以下の範囲で調整することを特徴とする請求項2に記載の塩素バイパス排ガスの処理方法。
- 前記除塵ダストの一部をセメントに添加することを特徴とする請求項1、2又は3に記載の塩素バイパス排ガスの処理方法。
- 前記除塵ダストのCaO濃度に応じて、前記除塵ダストの添加量を前記セメントの全量に対して0.01質量%以上3質量%以下の範囲で調整することを特徴とする請求項4に記載の塩素バイパス排ガスの処理方法。
- 前記脱硫剤は、消石灰、前記抽気ガスを分級して得られた粗粉又は前記セメントキルンの排ガスから除塵したダストであることを特徴とする請求項1乃至5のいずれかに記載の塩素バイパス排ガスの処理方法。
- 前記塩素バイパスダストを回収した後、前記脱硫剤を添加する前後のガスのSO2濃度を測定し、該両SO2濃度に応じて前記脱硫剤の添加量を制御することを特徴とする請求項1乃至6に記載の塩素バイパス排ガスの処理方法。
- セメントキルンの窯尻から最下段サイクロンに至るまでのキルン排ガス流路より燃焼ガスの一部を冷却しながら抽気するプローブと、
該抽気ガスから塩素バイパスダストを回収する第1集塵機と、
該第1集塵機の出口ガスに粉体状の脱硫剤を添加する脱硫剤添加装置と、
該脱硫剤添加後のガスをセメント焼成装置の排ガス系統に合流させる前に、該脱硫剤添加後のガスから除塵する第2集塵機とを備えることを特徴とする塩素バイパスシステム。
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2015
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