JP2017022054A - X線発生装置、x線装置、構造物の製造方法、及び構造物製造システム - Google Patents

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018055795A1 (ja) * 2016-09-21 2018-03-29 株式会社島津製作所 X線管
WO2019163960A1 (ja) * 2018-02-22 2019-08-29 株式会社ニコン X線計測方法、x線装置および構造物の製造方法
JP2021064463A (ja) * 2019-10-10 2021-04-22 株式会社ニコン X線発生装置、x線装置、構造物の製造方法及び構造物製造システム
US11101098B1 (en) 2020-04-13 2021-08-24 Hamamatsu Photonics K.K. X-ray generation apparatus with electron passage
US11145481B1 (en) 2020-04-13 2021-10-12 Hamamatsu Photonics K.K. X-ray generation using electron beam
JP2022553546A (ja) * 2019-10-24 2022-12-23 ノヴァ メジャリング インスツルメンツ インコーポレイテッド パターン化x線放出ターゲット

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52124890A (en) * 1976-04-13 1977-10-20 Toshiba Corp X-ray tube
JPS55178962U (enrdf_load_stackoverflow) * 1979-06-11 1980-12-22
US20050213709A1 (en) * 2004-03-23 2005-09-29 Dinsmore Mark T Miniature x-ray source with improved output stability and voltage standoff
JP2007179866A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Hitachi Medical Corp X線管及びx線撮影装置
JP2013051152A (ja) * 2011-08-31 2013-03-14 Canon Inc ターゲット構造体及びx線発生装置
JP2013157269A (ja) * 2012-01-31 2013-08-15 Canon Inc ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置
JP2015041585A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 株式会社ニコン X線源、x線装置、及び構造物の製造方法
JP2015083932A (ja) * 2013-10-25 2015-04-30 株式会社ニコン X線測定装置、x線測定方法、及び構造物の製造方法

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS52124890A (en) * 1976-04-13 1977-10-20 Toshiba Corp X-ray tube
JPS55178962U (enrdf_load_stackoverflow) * 1979-06-11 1980-12-22
US20050213709A1 (en) * 2004-03-23 2005-09-29 Dinsmore Mark T Miniature x-ray source with improved output stability and voltage standoff
JP2007179866A (ja) * 2005-12-28 2007-07-12 Hitachi Medical Corp X線管及びx線撮影装置
JP2013051152A (ja) * 2011-08-31 2013-03-14 Canon Inc ターゲット構造体及びx線発生装置
JP2013157269A (ja) * 2012-01-31 2013-08-15 Canon Inc ターゲット構造体及びそれを備える放射線発生装置
JP2015041585A (ja) * 2013-08-23 2015-03-02 株式会社ニコン X線源、x線装置、及び構造物の製造方法
JP2015083932A (ja) * 2013-10-25 2015-04-30 株式会社ニコン X線測定装置、x線測定方法、及び構造物の製造方法

Cited By (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018055795A1 (ja) * 2016-09-21 2018-03-29 株式会社島津製作所 X線管
JPWO2018055795A1 (ja) * 2016-09-21 2019-03-07 株式会社島津製作所 X線管
US10651002B2 (en) 2016-09-21 2020-05-12 Shimadzu Corporation X-ray tube
EP3518267A4 (en) * 2016-09-21 2020-06-03 Shimadzu Corporation X-RAY TUBE
WO2019163960A1 (ja) * 2018-02-22 2019-08-29 株式会社ニコン X線計測方法、x線装置および構造物の製造方法
JP2023107908A (ja) * 2019-10-10 2023-08-03 株式会社ニコン X線発生装置
JP7302423B2 (ja) 2019-10-10 2023-07-04 株式会社ニコン X線発生装置、x線装置、構造物の製造方法及び構造物製造システム
JP2021064463A (ja) * 2019-10-10 2021-04-22 株式会社ニコン X線発生装置、x線装置、構造物の製造方法及び構造物製造システム
JP7574882B2 (ja) 2019-10-10 2024-10-29 株式会社ニコン X線発生装置
JP2022553546A (ja) * 2019-10-24 2022-12-23 ノヴァ メジャリング インスツルメンツ インコーポレイテッド パターン化x線放出ターゲット
JP7705852B2 (ja) 2019-10-24 2025-07-10 ノヴァ メジャリング インスツルメンツ インコーポレイテッド パターン化x線放出ターゲット
US11101098B1 (en) 2020-04-13 2021-08-24 Hamamatsu Photonics K.K. X-ray generation apparatus with electron passage
US11145481B1 (en) 2020-04-13 2021-10-12 Hamamatsu Photonics K.K. X-ray generation using electron beam
JPWO2021210254A1 (enrdf_load_stackoverflow) * 2020-04-13 2021-10-21
WO2021210254A1 (ja) * 2020-04-13 2021-10-21 浜松ホトニクス株式会社 X線発生装置
JP7564194B2 (ja) 2020-04-13 2024-10-08 浜松ホトニクス株式会社 X線発生装置

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