JP2007179866A - X線管及びx線撮影装置 - Google Patents
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Abstract
Description
2000−113997号が公知である。上記帯電抑制方法をX線管球に適用すると、導電性膜の存在により陽極,陰極間が導通することからそのままでの適用は困難であり、この点が課題となる。
Cr2O3を少なくとも一種類以上含んだ物質とすることにより、容器表面からの二次電子放出を更に抑制できる特徴をもつ。
nm以下の厚さとする。
Cr2O3を少なくとも一種類以上含んだ物質であることにより、容器表面からの二次電子放出を更に抑制できる特徴をもつ。
44と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。
2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質で構成されている。この構成物質が導電性を持つ場合であっても、絶縁体であるガラスバルブ上に島状に点在しているため電流経路とはならず、陽極,陰極間の電気絶縁性は保持される。上記のような島状構造を配置することによりガラスバルブ表面2がカバーされ、ガラスバルブへ入射する電子銃からの熱電子数及びターゲットからの反射電子数が減少する。また島状に点在した帯電抑制構造はガラスバルブの二次電子放出係数(2〜2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質であるので、帯電抑制構造1を持たないX線管球に比べて二次電子放出量が少ないため正の帯電電位を抑制することができる。
44と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。
44と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。
Ba,Cr2O3を少なくとも一種類以上含んだ二次電子放出係数が1未満の物質であるので、帯電抑制構造1を持たないX線管球に比べて二次電子放出量が少ないため正の帯電電位を抑制できる。
44と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。
44と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。
51と帯電抑制構造がある場合の電位の時間変化52を比較すると、帯電抑制構造がある場合の電位52の方が電子線照射時における電位が低いことから、正への帯電が抑制されていることが分かる。
44と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。
Ti,Rb,Cs,Baを少なくとも一種類以上含んだ絶縁体で二次電子放出係数が1未満の物質を材料とした薄膜であっても構わない。
44と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。
Cr2O3の二次電子放出係数は1未満でありガラスバルブの二次電子放出係数 (2〜
2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質であるので、Cr2O3薄膜61を持たないX線管球に比べて二次電子放出量が少なく正の帯電電位を抑制することができる。
Ti,Rb,Cs,Baを少なくとも一種類以上含んだ絶縁体で二次電子放出係数が1未満の物質を材料とした薄膜であっても構わない。
75と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。帯電抑制リング71は電子線の射線軸78と平行な中心軸を有し、平円盤の中心を刳り貫いた形状でガラスバルブ76の内側に設置されている。また、帯電抑制リング71はガラスバルブの二次電子放出係数(2〜2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質である。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
75と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。帯電抑制リング71は電子線の射線軸78と平行な中心軸を有し、平円盤の中心を刳り貫いた形状でガラスバルブ76の内側に設置されている。また、帯電抑制リング71は二次電子放出係数が1未満の物質である。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
75と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。帯電抑制リング71は電子線の射線軸78と平行な中心軸を有し、平円盤の中心を刳り貫いた形状でガラスバルブ76の内側に設置されている。また、帯電抑制リング71はLi,Be,C,Al,K,Ti,Rb,Cs,Ba,Cr2O3を少なくとも一種類以上含んだ二次電子放出係数が1未満の物質である。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
85を配置する。ガラスバルブの材質としては、硬質ガラス(ホウ珪酸ガラス)を用いる。X線管では加熱したフィラメントより発生した熱電子を高電圧によって加速し、ターゲット85と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。帯電抑制リング81は電子線の射線軸88と平行な中心軸を有し、平円盤の中心を刳り貫いた形状でガラスバルブ86の内側に複数設置されている。また、帯電抑制リング81はガラスバルブの二次電子放出係数(2〜2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質である。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
85を配置する。ガラスバルブの材質としては、硬質ガラス(ホウ珪酸ガラス)を用いる。X線管では加熱したフィラメントより発生した熱電子を高電圧によって加速し、ターゲット85と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。帯電抑制リング81は電子線の射線軸88と平行な中心軸を有し、平円盤の中心を刳り貫いた形状でガラスバルブ86の内側に設置されている。ここで帯電抑制リングは複数配置されていても良いものとする。図9に帯電抑制リングの断面91を示す。帯電抑制リングの断面91はその断面としてリング中心軸方向より径方向の長さを長くとる。また、帯電抑制リング71はガラスバルブの二次電子放出係数(2〜2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質である。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
85を配置する。ガラスバルブの材質としては、硬質ガラス(ホウ珪酸ガラス)を用いる。X線管では加熱したフィラメントより発生した熱電子を高電圧によって加速し、ターゲット85と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。帯電抑制リング81は電子線の射線軸88と平行な中心軸を有し、平円盤の中心を刳り貫いた形状でガラスバルブ86の内側に設置されている。ここで帯電抑制リングは複数配置されていても良いものとする。図10に帯電抑制リングの断面形状101を示す。帯電抑制リングの断面は角に曲率をもった断面形状101のようにその角に曲率を持つ。また、帯電抑制リング71はガラスバルブの二次電子放出係数(2〜2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質である。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質である。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
85を配置する。ガラスバルブの材質としては、硬質ガラス(ホウ珪酸ガラス)を用いる。X線管では加熱したフィラメントより発生した熱電子を高電圧によって加速し、ターゲット85と呼ばれる金属に衝突させてX線を発生させる。帯電抑制リング81は電子線の射線軸88と平行な中心軸を有し、平円盤の中心を刳り貫いた形状でガラスバルブ86の内側に設置されている。ここで帯電抑制リング81は複数配置されていても良いものとする。帯電抑制リング81は任意物質で構成されるリング状基材上にガラスバルブの二次電子放出係数(2〜2.9 )未満の二次電子放出係数を持つ物質を塗布,電着等の方法により形成したものである。帯電抑制リングと電極間の距離は使用するX線発生電圧に対して適当な絶縁距離をとるものとする。また帯電抑制リングは十分な機械的強度を有した絶縁体で支持する。
116…回転陽極、42,73,83,114…フィラメント、46,77,87,118…電位測定位置、47,112…視点、51…帯電抑制構造が無い場合の電位の時間変化、52…帯電抑制構造がある場合の電位の時間変化、61…Cr2O3薄膜、71,81,111,123…帯電抑制リング、78,88,113…電子線射線軸、91…帯電抑制リングの断面、101…断面形状、102…長方形の断面形状、122…電子銃、131…X線管球、132…ディテクター。
Claims (7)
- 対向した陽極電極及び陰極電極と電気絶縁性及び真空気密性を有する容器と前記容器内に前記陽極電極に接続されたX線を放射するターゲット及び前記ターゲットにX線を照射する電子銃を備えているX線管であって、前記容器の内側の表面に前記容器の二次電子放出係数未満の二次電子放出係数をもつ物質を島状に点在させたことを特徴としたX線管。
- 対向した陽極電極及び陰極電極,電気絶縁性及び真空気密性を有する容器、前記容器内に前記陽極電極に接続されたX線を放射するターゲット及び前記ターゲットにX線を照射する電子銃を備えているX線管であって、前記電子銃から放出される電子線の射線軸と平行な中心軸を有し、前記容器の内側に前記容器の二次電子放出係数未満の二次電子放出係数で平円盤の中心を刳り貫いたリング形状の物質が配置されていることを特徴としたX線管。
- 請求項2に記載のX線管において、前記リング形状の物質は前記対向した電極間に複数配置されていることを特徴としたX線管。
- 請求項2に記載のX線管において、前記リング形状の物質の断面はリング中心軸方向より径方向の長さが長いことを特徴としたX線管。
- 請求項2に記載のX線管において、前記リング形状の物質の角は曲率をもった角であることを特徴としたX線管。
- 請求項2に記載のX線管において、前記リング形状の物質は前記リング中心から前記リング最外周まで扇状にその一部が欠けている形状であることを特徴としたX線管。
- 請求項1から請求項6のいずれかに記載されたX線管を搭載したことを特徴とするX線撮影装置。
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