JP2014212011A - X線源、x線装置、及び構造物の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、各実施形態及び変形例で引用したX線源及び検出装置などに関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
第1実施形態について説明する。図1は、本実施形態に係るX線装置1の一例を示す概略構成図である。
チャンバ部材6は、複数の脚部6Sに支持される。チャンバ部材6は、脚部6Sを介して、支持面FR上に配置される。脚部6Sにより、チャンバ部材6の下面と、支持面FRとは離れる。すなわち、チャンバ部材6の下面と支持面FRとの間に空間が形成される。なお、チャンバ部材6の下面の少なくとも一部と支持面FRとが接触してもよい。
図2に示すように、X線源2は、電子を放出する電子源であるフィラメント13と、電子の衝突又は電子の透過によりX線を発生するターゲット14と、電子をターゲット14に導く導電子部材15と、ターゲット14に向かう電子の一部を制限するアパーチャーユニット16と、を備えている。
導電子部材15Aは、コイル部18とヨーク部19とを含む。コイル部18は、例えば銅線を巻回することで構成されたものである。ヨーク部19は、例えば軟鉄などの透磁率の高い材料から構成されたものである。
導電子部材15Aは、貫通孔20の中心軸方向に一致するZ軸方向に沿って貫通孔20を介して電子をターゲット14へと導く。本実施形態において、導電子部材15(15A)は、フィラメント13とターゲット14とを結ぶ仮想線と実質的に平行な方向(フィラメント13からの電子の通路と実質的に平行な方向)がZ軸方向に一致する。以下の説明において、フィラメント13とターゲット14とを結ぶ仮想線と実質的に平行な方向を適宜、導電子部材15(15A)の中心軸(中心光軸)方向、と称する。
これにより、フィラメント13が加熱され、フィラメント13から電子が放出される。フィラメント13から放出された電子は、アパーチャーユニット16を介してターゲット14に照射される。これにより、ターゲット14からX線が発生する。
次に、第2実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
換言すれば、検査部132は、作成された構造物が良品であるか否かを判定する。
Claims (15)
- 電子源とターゲットとの間に配置され、所定の位置に前記電子を集束する電子光学系と、
前記電子光学系により収束される前記電子の一部を制限する開口が形成されたアパーチャーユニットと、を備え、
前記アパーチャーユニットは、前記電子が前記ターゲットへ向かう第1方向と交差する第2方向に沿って外側に延出する延出部を含むことを特徴とするX線源。 - 前記延出部は、前記第1方向から視て、前記アパーチャーユニットの外面の全周に亘って設けられることを特徴とする請求項1に記載のX線源。
- 前記電子光学系及び前記アパーチャーユニットを収容する外装本体の少なくとも一部を構成するハウジングを備え、
前記延出部は、前記ハウジングに接触する接触部分を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載のX線源。 - 前記接触部分は、前記第1方向における厚さが前記電子の通過領域からの距離に応じて薄くなるテーパー形状を有し、
前記ハウジングの前記延出部との接触部分は、前記第1方向における厚さが前記電子の通過領域からの距離に応じて厚くなる逆テーパー形状を有することを特徴とする請求項3に記載のX線源。 - 前記延出部は、前記接触部分が熱伝導層を介して前記ハウジングに接触することを特徴とする請求項3又は4に記載のX線源。
- 前記熱伝導層は、樹脂層と、前記樹脂層に混ぜ込まれ、前記延出部よりも熱伝導性が高い熱伝導性粒子と、を含むことを特徴とする請求項5に記載のX線源。
- 前記樹脂層は、アクリル樹脂又はシリコン樹脂であることを特徴とする請求項6に記載のX線源。
- 前記延出部は、前記第1方向において、前記アパーチャーユニットにおける前記開口が形成された位置に設けられることを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載のX線源。
- 前記電子光学系は、前記第1方向と平行な中心光軸を有し、
前記開口は、前記中心光軸から離れた位置に収束する前記電子を遮蔽することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載のX線源。 - 前記アパーチャーユニットは、前記延出部と前記ハウジングとの間に、前記電子が伝播する領域を密閉状態に保持するための第1封止部材が設けられる封止部材配置領域を有し、
前記延出部は、少なくとも前記封止部材配置領域よりも外側の領域まで延出することを特徴とする請求項3〜7のいずれか一項に記載のX線源。 - 前記ハウジングの前記第1方向の延長線上には、前記ターゲットを設置するためのターゲット保持部が備えられ、
前記ターゲット、前記ターゲット保持部、前記ハウジング、及び前記アパーチャーユニットで囲まれた空間を密閉状態に保持するための第2封止部材が設けられている請求項3〜7のいずれか一項に記載のX線源。 - 請求項1〜11のいずれか一項に記載のX線源を備え、
前記X線源で発生したX線を物体に照射して前記物体を通過した透過X線を検出することを特徴とするX線装置。 - 構造物の形状に関する設計情報を作成する設計工程と、
前記設計情報に基づいて前記構造物を作成する成形工程と、
作成された前記構造物の形状を請求項12に記載のX線装置を用いて計測する測定工程と、
前記測定工程で取得した形状情報と前記設計情報とを比較する検査工程と、を含むことを特徴とする構造物の製造方法。 - 前記検査工程の比較結果に基づいて実行され、前記構造物の再加工を実施するリペア工程を含むことを特徴とする請求項13に記載の構造物の製造方法。
- 前記リペア工程は、前記成形工程を再実行する工程であることを特徴とする請求項14に記載の構造物の製造方法。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2018066135A1 (ja) * | 2016-10-07 | 2018-04-12 | 株式会社ニコン | 荷電粒子線装置、電子線発生装置、x線源、x線装置および構造物の製造方法 |
US10571412B2 (en) | 2014-08-07 | 2020-02-25 | Nikon Corporation | X-ray apparatus and structure production method |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06267690A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-22 | Toshiba Corp | X線管装置用絶縁放熱材 |
JP2009301911A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Hamamatsu Photonics Kk | X線発生装置 |
JP2012182078A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Hamamatsu Photonics Kk | 開放型x線源用冷却構造及び開放型x線源 |
WO2013051595A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2013-04-11 | 株式会社ニコン | 装置、x線照射方法、及び構造物の製造方法 |
-
2013
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06267690A (ja) * | 1993-03-12 | 1994-09-22 | Toshiba Corp | X線管装置用絶縁放熱材 |
JP2009301911A (ja) * | 2008-06-13 | 2009-12-24 | Hamamatsu Photonics Kk | X線発生装置 |
JP2012182078A (ja) * | 2011-03-02 | 2012-09-20 | Hamamatsu Photonics Kk | 開放型x線源用冷却構造及び開放型x線源 |
US20130336462A1 (en) * | 2011-03-02 | 2013-12-19 | Hamamatsu Photonics K.K. | Cooling structure for open x-ray source, and open x-ray source |
WO2013051595A1 (ja) * | 2011-10-04 | 2013-04-11 | 株式会社ニコン | 装置、x線照射方法、及び構造物の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US10571412B2 (en) | 2014-08-07 | 2020-02-25 | Nikon Corporation | X-ray apparatus and structure production method |
WO2018066135A1 (ja) * | 2016-10-07 | 2018-04-12 | 株式会社ニコン | 荷電粒子線装置、電子線発生装置、x線源、x線装置および構造物の製造方法 |
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