JP2017002408A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2017002408A5 JP2017002408A5 JP2016165055A JP2016165055A JP2017002408A5 JP 2017002408 A5 JP2017002408 A5 JP 2017002408A5 JP 2016165055 A JP2016165055 A JP 2016165055A JP 2016165055 A JP2016165055 A JP 2016165055A JP 2017002408 A5 JP2017002408 A5 JP 2017002408A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser
- mask
- opening
- vapor deposition
- region
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2015019665 | 2015-02-03 | ||
| JP2015019665 | 2015-02-03 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016018161A Division JP5994952B2 (ja) | 2015-02-03 | 2016-02-02 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020142538A Division JP2020196953A (ja) | 2015-02-03 | 2020-08-26 | 蒸着マスクの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2017002408A JP2017002408A (ja) | 2017-01-05 |
| JP2017002408A5 true JP2017002408A5 (cg-RX-API-DMAC7.html) | 2019-03-14 |
| JP6756191B2 JP6756191B2 (ja) | 2020-09-16 |
Family
ID=56685985
Family Applications (4)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016018161A Active JP5994952B2 (ja) | 2015-02-03 | 2016-02-02 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法 |
| JP2016165055A Active JP6756191B2 (ja) | 2015-02-03 | 2016-08-25 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法 |
| JP2020142538A Pending JP2020196953A (ja) | 2015-02-03 | 2020-08-26 | 蒸着マスクの製造方法 |
| JP2021196781A Pending JP2022027833A (ja) | 2015-02-03 | 2021-12-03 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2016018161A Active JP5994952B2 (ja) | 2015-02-03 | 2016-02-02 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法 |
Family Applications After (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020142538A Pending JP2020196953A (ja) | 2015-02-03 | 2020-08-26 | 蒸着マスクの製造方法 |
| JP2021196781A Pending JP2022027833A (ja) | 2015-02-03 | 2021-12-03 | 蒸着マスクの製造方法、蒸着マスク製造装置、レーザー用マスクおよび有機半導体素子の製造方法 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US20180053894A1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| JP (4) | JP5994952B2 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| KR (1) | KR102045933B1 (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| CN (2) | CN111088476A (cg-RX-API-DMAC7.html) |
| TW (2) | TWI671588B (cg-RX-API-DMAC7.html) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR102444139B1 (ko) * | 2016-10-06 | 2022-09-15 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 증착 마스크의 제조 방법, 유기 반도체 소자의 제조 방법 및 유기 el 디스플레이의 제조 방법 |
| TWI694164B (zh) * | 2018-05-21 | 2020-05-21 | 鴻海精密工業股份有限公司 | 蒸鍍遮罩的製造方法及有機發光材料的蒸鍍方法 |
| CN110512172A (zh) | 2018-05-21 | 2019-11-29 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 蒸镀遮罩的制造方法及有机发光材料的蒸镀方法 |
| JP7187883B2 (ja) | 2018-08-09 | 2022-12-13 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法 |
| KR102673239B1 (ko) * | 2018-08-20 | 2024-06-11 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 조립체, 표시 장치의 제조장치 및 표시 장치의 제조방법 |
| KR102666228B1 (ko) * | 2018-11-08 | 2024-05-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 조립체, 이의 제조 방법 및 이를 이용한 유기발광 표시장치의 제조방법 |
| CN111378924A (zh) * | 2018-12-25 | 2020-07-07 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩模 |
| US11773477B2 (en) | 2018-12-25 | 2023-10-03 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Deposition mask |
| CN211471535U (zh) * | 2019-11-21 | 2020-09-11 | 昆山国显光电有限公司 | 一种掩膜版及蒸镀系统 |
| KR102894365B1 (ko) * | 2020-05-11 | 2025-12-03 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크, 마스크의 제조 방법 및 마스크를 이용한 표시 장치의 제조 방법 |
| KR102798150B1 (ko) * | 2020-07-10 | 2025-04-23 | 삼성디스플레이 주식회사 | 마스크 및 이를 포함하는 증착 설비 |
| TWI832113B (zh) * | 2020-11-24 | 2024-02-11 | 南韓商奧魯姆材料股份有限公司 | Ｏｌｅｄ像素形成用掩模及框架一體型掩模 |
| CN114716154B (zh) * | 2022-04-15 | 2023-05-12 | 业成科技（成都）有限公司 | 屏蔽组件 |
Family Cites Families (22)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5288073A (en) | 1976-01-17 | 1977-07-22 | Citizen Watch Co Ltd | Electronic watch with illumination |
| JPH04356393A (ja) * | 1991-05-31 | 1992-12-10 | Hitachi Ltd | レーザ加工光学系及びレーザ加工方法 |
| JPH0529199A (ja) * | 1991-07-18 | 1993-02-05 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体装置の製造方法 |
| US5378137A (en) * | 1993-05-10 | 1995-01-03 | Hewlett-Packard Company | Mask design for forming tapered inkjet nozzles |
| KR0128828B1 (ko) * | 1993-12-23 | 1998-04-07 | 김주용 | 반도체 장치의 콘택홀 제조방법 |
| TW521310B (en) * | 2001-02-08 | 2003-02-21 | Toshiba Corp | Laser processing method and apparatus |
| JP4053263B2 (ja) * | 2001-08-17 | 2008-02-27 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置の製造方法 |
| JP3842769B2 (ja) * | 2003-09-01 | 2006-11-08 | 株式会社東芝 | レーザ加工装置、レーザ加工方法、及び半導体装置の製造方法 |
| JP2006201538A (ja) * | 2005-01-21 | 2006-08-03 | Seiko Epson Corp | マスク、マスクの製造方法、パターン形成方法、配線パターン形成方法 |
| KR100913329B1 (ko) * | 2007-12-05 | 2009-08-20 | 주식회사 동부하이텍 | 비어 형성을 위한 마스크 패턴과 그 제조 방법 |
| WO2012018047A1 (ja) * | 2010-08-04 | 2012-02-09 | 日本精密測器株式会社 | 絞り装置、カメラおよび電子機器 |
| JP5664954B2 (ja) * | 2010-08-05 | 2015-02-04 | 大日本印刷株式会社 | テーパ穴形成装置、テーパ穴形成方法、光変調手段および変調マスク |
| KR101346121B1 (ko) * | 2010-12-14 | 2013-12-31 | 주식회사 피케이엘 | 하프톤 패턴 및 광근접보정 패턴을 포함하는 포토 마스크 및 그 제조 방법 |
| JP5517308B2 (ja) * | 2011-11-22 | 2014-06-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | マスクの製造方法、マスク及びマスクの製造装置 |
| US9203028B2 (en) * | 2012-01-12 | 2015-12-01 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for producing vapor deposition mask, and method for producing organic semiconductor element |
| TWI498434B (zh) * | 2012-01-12 | 2015-09-01 | Dainippon Printing Co Ltd | A method of manufacturing a vapor deposition mask, a method for producing a vapor deposition mask, and a method of manufacturing the organic semiconductor device |
| JP6003464B2 (ja) * | 2012-09-24 | 2016-10-05 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスク材、及び蒸着マスク材の固定方法 |
| JP5614665B2 (ja) * | 2013-01-08 | 2014-10-29 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの製造方法および蒸着マスク |
| CN109554663B (zh) | 2013-03-26 | 2020-03-17 | 大日本印刷株式会社 | 蒸镀掩模、带框架的蒸镀掩模、及它们的制造方法 |
| CN103556111A (zh) * | 2013-10-30 | 2014-02-05 | 昆山允升吉光电科技有限公司 | 一种掩模板及其制作方法 |
| JP6357312B2 (ja) * | 2013-12-20 | 2018-07-11 | 株式会社ブイ・テクノロジー | 成膜マスクの製造方法及び成膜マスク |
| JP6511908B2 (ja) * | 2014-03-31 | 2019-05-15 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着マスクの引張方法、フレーム付き蒸着マスクの製造方法、有機半導体素子の製造方法、及び引張装置 |
-
2016
- 2016-02-02 JP JP2016018161A patent/JP5994952B2/ja active Active
- 2016-02-03 CN CN202010076410.XA patent/CN111088476A/zh active Pending
- 2016-02-03 KR KR1020177019158A patent/KR102045933B1/ko active Active
- 2016-02-03 CN CN201680006194.3A patent/CN107109622B/zh active Active
- 2016-02-03 TW TW105103600A patent/TWI671588B/zh active
- 2016-02-03 TW TW108124347A patent/TWI712854B/zh active
- 2016-02-03 US US15/546,710 patent/US20180053894A1/en not_active Abandoned
- 2016-08-25 JP JP2016165055A patent/JP6756191B2/ja active Active
-
2020
- 2020-08-26 JP JP2020142538A patent/JP2020196953A/ja active Pending
-
2021
- 2021-02-03 US US17/166,370 patent/US20210159414A1/en not_active Abandoned
- 2021-12-03 JP JP2021196781A patent/JP2022027833A/ja active Pending