JP2016533612A - 空気中でのx線分析 - Google Patents
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Abstract
Description
第1のガス圧力環境内に集束電子ビームを生成する電子ビーム組立体と、
第2のガス圧力環境内にサンプルを保持するためのサンプル組立体であって、使用時に、サンプルが、電子ビーム組立体から電子ビームを受入れ、かつ第2のガス圧力環境でのガス圧力は第1のガス圧力環境内のガス圧力より大きいように配置されるサンプル組立体と、
第1のガス圧力環境内に少なくとも1つのX線センサ要素を有するX線検出器であって、少なくとも1つのX線センサ要素が、サンプル組立体の近位にある電子ビーム組立体の一部に取り付けられ、さらに使用時に、電子ビームとサンプルとの間の相互作用により発生するX線を受入れるように配置されるX線検出器と、
を備える。
電子ビーム組立体の第1のガス圧力環境内に集束電子ビームを生成するステップと、
第2のガス圧力環境内にサンプルを準備するステップであって、第2のガス圧力環境のガス圧力が第1のガス圧力環境のガス圧力より大きい、ステップと、
電子ビームをサンプルに入射させて、それによりX線を発生させるステップと、
X線検出器の少なくとも1つのX線センサ要素を用いて発生したX線を受入れるステップであって、少なくとも1つのX線センサ要素は、第1のガス圧力環境内にあってサンプルの近位にある電子ビーム組立体の一部に取り付けられるステップと、
を含む。
4 電子顕微鏡
5 X線センサ
6 シリコンドリフト検出器要素
7 ペルチェ冷却スタック
8 ケーブルルーム
9 開口
10 メンブレン
11 試料
12 集束電子ビーム
Claims (19)
- 第1のガス圧力環境内に集束電子ビームを生成するための電子ビーム組立体と、
第2のガス圧力環境内でサンプルを保持するためのサンプル組立体であって、使用時に、前記サンプルが前記電子ビーム組立体から前記電子ビームを受入れ、かつ前記第2のガス圧力環境内のガス圧力が前記第1のガス圧力環境内のガス圧力よりも大きくなるように配置される前記サンプル組立体と、
前記第1のガス圧力環境内に少なくとも1つのX線センサ要素を有するX線検出器であって、前記少なくとも1つのX線センサ要素が、前記サンプル組立体の近位にある前記電子ビーム組立体の一部に取り付けられ、さらに、使用時に前記電子ビームと前記サンプルとの間の相互作用により発生するX線を受入れるように配置された前記X線検出器と、
を備えるX線分析装置。 - 前記電子ビームは、伝播軸を規定し、前記少なくとも1つのX線センサ要素は、X線光子を受入れるための平面を有する、請求項1に記載の装置。
- 前記平面は、前記伝播軸に対して実質的に直交して配置される平面法線により規定される、請求項2に記載の装置。
- 前記平面は、前記伝播軸に対して実質的に平行に配置される平面法線により規定される、請求項2に記載の装置。
- 複数の前記要素は、電子ビーム軸の周りに分散様式で設けられて配置される、請求項3又は4に記載の装置。
- 前記第1及び第2の圧力環境を分離するための差圧要素であって、前記サンプルへの前記電子ビームの通過及び前記サンプルからのX線の通過のそれぞれを可能とするように配置された前記差圧要素をさらに備える、請求項1から5のいずれかに記載の装置。
- 前記差圧要素は、実質的に電子及びX線の透過性材料から形成されるか、又は物理的開口から形成される、請求項6に記載の装置。
- 前記少なくとも1つのX線センサ要素が内部に配置されたモジュールをさらに備え、前記モジュールは、前記第1の圧力環境が当該モジュール内に作り出されるように、前記電子ビーム組立体と圧力連通状態で配置される、請求項1から7のいずれかに記載の装置。
- 前記モジュールは、前記電子ビーム組立体の出口領域に取外し可能に取り付けることができる、請求項8に記載の装置。
- 前記差圧要素は、前記モジュールの壁面に配置される、少なくとも請求項6に従属する場合の請求項8又は9に記載の装置。
- 前記差圧要素は、前記モジュールに取外し可能に取り付けることができる、請求項10に記載の装置。
- 前記モジュールは、前記少なくとも1つのX線センサ要素を冷却するための少なくとも1つの冷却装置をさらに備える、請求項8から11のいずれかに記載の装置。
- 前記電子ビーム組立体は、前記電子ビームが前記サンプルに向かって出ていくポールピースを含み、前記モジュールは、前記ポールピースの内部又は前記ポールピースの端部に取り付けられる、請求項8から12のいずれかに記載の装置。
- 前記少なくとも1つのX線センサ要素は、X線検出のために立体角を最大化するように、前記サンプル組立体の近位に配置される、請求項1から13のいずれかに記載の装置。
- 前記X線分析装置は走査電子顕微鏡を備える、請求項1から14のいずれかに記載の装置。
- 電子ビーム組立体の第1のガス圧力環境内に集束電子ビームを生成するステップと、
第2のガス圧力環境内のガス圧力が前記第1ガス圧力環境内のガス圧力よりも大きくなるように、前記第2のガス圧力環境内にサンプルを準備するステップと、
前記電子ビームを前記サンプルに入射させて、それによりX線を発生させるステップと、
前記第1のガス圧力環境内にあって前記サンプルの近位にある前記電子ビーム組立体の一部に取り付けられる、X線検出器の少なくとも1つのX線センサ要素を用いて、発生した前記X線を受入れるステップと、
を含むX線検出方法。 - 前記電子ビーム及び発生した前記X線の各々は、前記第1のガス圧力環境と前記第2のガス圧力環境との圧力差を維持するように機能する差圧要素を通って、前記第1のガス圧力環境と前記第2のガス圧力環境との間を移動させられる、請求項16に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのX線センサ要素は、前記差圧要素の第1の側に位置決めされ、前記サンプルは、前記差圧要素の第2の側に位置決めされる、請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つのX線センサ要素は、X線検出に使用可能な立体角を最大化するように配置される、請求項16から18のいずれかに記載の方法。
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