JP2016517028A5 - - Google Patents

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Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013219808A1 (de) * 2013-09-30 2015-04-02 Heraeus Quarzglas Gmbh & Co. Kg Spiegelblank für EUV Lithographie ohne Ausdehnung unter EUV-Bestrahlung
DE102014223750A1 (de) * 2014-11-20 2016-05-25 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage mit mindestens einem Manipulator
CN106324792B (zh) * 2015-06-19 2020-11-03 中国科学院大连化学物理研究所 一种适用高功率激光使用的相变冷却反射镜
DE102015225509A1 (de) 2015-12-16 2017-06-22 Carl Zeiss Smt Gmbh Reflektives optisches Element
CN106125298A (zh) * 2016-08-31 2016-11-16 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 非接触式空间光学遥感器反射镜面形控制系统
KR102550337B1 (ko) * 2017-04-11 2023-07-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치 및 냉각 방법
CN107390346A (zh) * 2017-09-19 2017-11-24 北京仿真中心 一种低辐射红外场镜装置
DE102019219231A1 (de) 2019-12-10 2020-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithographie
DE102019219289A1 (de) 2019-12-11 2021-06-17 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, sowie Heizanordnung und Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einem optischen System
DE102020201724A1 (de) * 2020-02-12 2021-08-12 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches system und lithographieanlage
WO2022028710A1 (en) * 2020-08-07 2022-02-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Optical system and method of operating an optical system
KR20230098590A (ko) * 2020-11-11 2023-07-04 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 광학 요소를 열 변형시키는 방법 및 장치
EP4002009A1 (en) * 2020-11-11 2022-05-25 ASML Netherlands B.V. A method and apparatus for thermally deforming an optical surface of an optical element
DE102021201258A1 (de) 2021-02-10 2022-08-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Heizen eines optischen Elements in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, sowie optisches System
DE102021213458A1 (de) 2021-11-30 2022-08-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsbelichtungsanlage für die Halbleiterlithografie
DE102021214366A1 (de) * 2021-12-15 2023-06-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Vorrichtung und Verfahren zur Vermeidung einer Degradation einer optischen Nutzoberfläche eines Spiegelmoduls, Projektionssystem, Beleuchtungssystem sowie Projektionsbelichtungsanlage
CN114924378B (zh) * 2022-05-30 2023-10-27 深圳综合粒子设施研究院 一种反射镜面形控制结构及光束线装置
DE102022211636A1 (de) 2022-11-04 2024-05-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches System, sowie Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems
CN116203722A (zh) * 2023-01-04 2023-06-02 深圳综合粒子设施研究院 反射镜的面形优化方法及装置
WO2024145826A1 (zh) * 2023-01-04 2024-07-11 深圳综合粒子设施研究院 反射镜的面形优化方法及装置

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0868898A (ja) * 1994-08-29 1996-03-12 Nikon Corp 反射鏡およびその製造方法
US6880942B2 (en) * 2002-06-20 2005-04-19 Nikon Corporation Adaptive optic with discrete actuators for continuous deformation of a deformable mirror system
JP2004056125A (ja) * 2002-06-20 2004-02-19 Nikon Corp 個別アクチュエータを有する反射投影光学系
EP1376239A3 (en) 2002-06-25 2005-06-29 Nikon Corporation Cooling device for an optical element
JP2005019628A (ja) * 2003-06-25 2005-01-20 Nikon Corp 光学装置、露光装置、並びにデバイス製造方法
DE60315986T2 (de) * 2003-10-09 2008-05-21 Asml Netherlands B.V. Lithographischer Apparat und Methode zur Herstellung einer Vorrichtung
JP4537087B2 (ja) * 2004-02-12 2010-09-01 キヤノン株式会社 露光装置、デバイスの製造方法
DE102006045075A1 (de) 2006-09-21 2008-04-03 Carl Zeiss Smt Ag Steuerbares optisches Element
EP1950594A1 (de) 2007-01-17 2008-07-30 Carl Zeiss SMT AG Abbildende Optik, Projektionsbelichtunsanlage für die Mikrolithographie mit einer derartigen abbildenden Optik, Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten Bauteils mit einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage, durch das Herstellungsverfahren gefertigtes mikrostrukturiertes Bauelement sowie Verwendung einer derartigen abbildenden Optik
US7894038B2 (en) 2007-03-14 2011-02-22 Asml Netherlands B.V. Device manufacturing method, lithographic apparatus, and a computer program
EP2181357A1 (en) * 2007-08-24 2010-05-05 Carl Zeiss SMT AG Controllable optical element and method for operating an optical element with thermal actuators and projection exposure apparatus for semiconductor lithography
JP5524067B2 (ja) 2007-10-09 2014-06-18 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー 光学素子の温度制御装置
US7740362B1 (en) * 2008-02-19 2010-06-22 Jefferson Science Associates Mirror with thermally controlled radius of curvature
WO2009152959A1 (en) 2008-06-17 2009-12-23 Carl Zeiss Smt Ag Projection exposure apparatus for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element
US20100033704A1 (en) 2008-08-11 2010-02-11 Masayuki Shiraishi Deformable mirror, mirror apparatus, and exposure apparatus
DE102009039400A1 (de) * 2009-08-31 2011-03-03 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Reflektives optisches Element zur Verwendung in einem EUV-System
JP5732257B2 (ja) * 2010-01-15 2015-06-10 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． リソグラフィ装置、デバイス製造方法およびコンピュータ読取可能媒体
JP5785419B2 (ja) * 2010-04-07 2015-09-30 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 光学要素を冷却する方法、リソグラフィ装置、およびデバイスを製造する方法
WO2012013748A1 (en) * 2010-07-30 2012-02-02 Carl Zeiss Smt Gmbh Euv exposure apparatus
DE102011081259A1 (de) 2010-09-28 2012-03-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Anordnung zur Spiegeltemperaturmessung und/oder zur thermischen Aktuierung eines Spiegels in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage
DE102011005778A1 (de) 2011-03-18 2012-09-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element
DE102011005840A1 (de) 2011-03-21 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Steuerbare Mehrfachspiegelanordnung, optisches System mit einer steuerbaren Mehrfachspiegelanordnung sowie Verfahren zum Betreiben einer steuerbaren Mehrfachspiegelanordnung

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