JP2017509017A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2017509017A5
JP2017509017A5 JP2016553537A JP2016553537A JP2017509017A5 JP 2017509017 A5 JP2017509017 A5 JP 2017509017A5 JP 2016553537 A JP2016553537 A JP 2016553537A JP 2016553537 A JP2016553537 A JP 2016553537A JP 2017509017 A5 JP2017509017 A5 JP 2017509017A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
facets
facet
honeycomb
monolithic
groups
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2016553537A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2017509017A (ja
JP6806565B2 (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from DE102014203188.5A external-priority patent/DE102014203188A1/de
Application filed filed Critical
Publication of JP2017509017A publication Critical patent/JP2017509017A/ja
Publication of JP2017509017A5 publication Critical patent/JP2017509017A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP6806565B2 publication Critical patent/JP6806565B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2016553537A 2014-02-21 2015-02-17 投影露光系の物体視野を照明する方法 Active JP6806565B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014203188.5A DE102014203188A1 (de) 2014-02-21 2014-02-21 Verfahren zur Beleuchtung eines Objektfeldes einer Projektionsbelichtungsanlage
DE102014203188.5 2014-02-21
PCT/EP2015/053285 WO2015124553A1 (de) 2014-02-21 2015-02-17 Verfahren zur beleuchtung eines objektfeldes einer projektionsbelichtungsanlage

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2017509017A JP2017509017A (ja) 2017-03-30
JP2017509017A5 true JP2017509017A5 (enExample) 2020-08-06
JP6806565B2 JP6806565B2 (ja) 2021-01-06

Family

ID=52589351

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016553537A Active JP6806565B2 (ja) 2014-02-21 2015-02-17 投影露光系の物体視野を照明する方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10409167B2 (enExample)
JP (1) JP6806565B2 (enExample)
KR (1) KR102401868B1 (enExample)
DE (1) DE102014203188A1 (enExample)
WO (1) WO2015124553A1 (enExample)

Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102014203189A1 (de) * 2014-02-21 2015-08-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel-Array
US10599040B2 (en) * 2017-08-18 2020-03-24 Asml Netherland B.V. Lithographic apparatus and associated method
CN114746810B (zh) * 2019-11-21 2025-09-12 Asml荷兰有限公司 用于确定光刻设备的控制数据的方法和设备
DE102020205123A1 (de) * 2020-04-23 2021-10-28 Carl Zeiss Smt Gmbh Facetten-Baugruppe für einen Facettenspiegel
DE102020210829A1 (de) * 2020-08-27 2022-03-03 Carl Zeiss Smt Gmbh Pupillenfacettenspiegel für eine Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage
DE102022209908A1 (de) * 2022-09-21 2024-03-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Facettenspiegel, Beleuchtungsoptik, Anordnung eines Facettenspiegels, Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung eines nanostrukturierten Bauelements
DE102022212277A1 (de) * 2022-11-18 2024-05-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Baugruppe eines optischen Systems
DE102024205430A1 (de) * 2024-06-13 2025-12-18 Carl Zeiss Smt Gmbh Optomechanisches System für die Projektionslithographie

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10138313A1 (de) 2001-01-23 2002-07-25 Zeiss Carl Kollektor für Beleuchtugnssysteme mit einer Wellenlänge < 193 nm
SE0200547D0 (sv) * 2002-02-25 2002-02-25 Micronic Laser Systems Ab An image forming method and apparatus
US7145269B2 (en) 2004-03-10 2006-12-05 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus, Lorentz actuator, and device manufacturing method
DE102006023652B4 (de) 2006-05-18 2008-10-30 Esa Patentverwertungsagentur Sachsen-Anhalt Gmbh Elektromotorische Einrichtung zur Betätigung von Gaswechselventilen
DE102008050446B4 (de) 2008-10-08 2011-07-28 Carl Zeiss SMT GmbH, 73447 Verfahren und Vorrichtungen zur Ansteuerung von Mikrospiegeln
WO2010049076A2 (de) 2008-10-20 2010-05-06 Carl Zeiss Smt Ag Optische baugruppe zur führung eines strahlungsbündels
CN102203675B (zh) * 2008-10-31 2014-02-26 卡尔蔡司Smt有限责任公司 用于euv微光刻的照明光学部件
DE102010029765A1 (de) * 2010-06-08 2011-12-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie
DE102010040811A1 (de) * 2010-09-15 2012-03-15 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik
DE102011076145B4 (de) 2011-05-19 2013-04-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Zuordnen einer Pupillenfacette eines Pupillenfacettenspiegels einer Beleuchtungsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage zu einer Feldfacette eines Feldfacettenspiegels der Beleuchtungsoptik
DE102012207377A1 (de) * 2012-05-03 2013-11-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik sowie optisches System für die EUV-Projektionslithographie
DE102012207572A1 (de) * 2012-05-08 2013-05-08 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik
DE102012213515A1 (de) 2012-08-01 2014-02-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zum Betreiben einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2017509017A5 (enExample)
JP2017182078A5 (enExample)
JP2015153889A5 (enExample)
JP2017534766A5 (enExample)
JP2019503884A5 (enExample)
JP2019094312A5 (enExample)
JP2019515853A5 (enExample)
JP2016037909A5 (enExample)
JP2014205716A5 (enExample)
JP2015005289A5 (enExample)
TWD175774S (zh) 後視鏡（二）
TWD196120S (zh) 眼鏡（十）
CN302267638S (zh) 外后视镜（a08 2）
TH77187S1 (th) หุ่นยนต์
TH70465S1 (th) กระจก
TH185257S (th) ด้ามจับสำหรับเครื่องโกนหนวด
TH185258S (th) ด้ามจับสำหรับเครื่องโกนหนวด
CN302267639S (zh) 外后视镜（a08 1）
TH71950S1 (th) อุปกรณ์จับยึดชิ้นงาน
TH178780S (th) อุปกรณ์จับยึดชิ้นงาน
TH178781S (th) อุปกรณ์จับยึดชิ้นงาน
TH71949S1 (th) อุปกรณ์จับยึดชิ้นงาน
TH145509S (th) แขนหุ่นยนต์
TH75967S1 (th) กระจกมองหลัง
TH62224S1 (th) กระจกเงา