JP2016505711A5 - - Google Patents

Description

例えば、ガス流量パターンは、ペデスタル１０４の周りの任意の特定の半径方向位置において流れが増加するように調整され得る。ガス流量パターンの調整は、１以上の処理基板１０５を検査することによって、基板１０５上で生じる処理の不均一性を検査することによって行われ得る。その後、傾斜角調整可能バルブ１１４の傾きの程度と位置（例えば、最小ギャップの半径方向位置）は、それらの結果に基づいて不均一を改良するために制御され得る。随意に、処理チャンバ１０２は、設定作動の部分として圧力センサ又は流量センサが装備され得る。

１つの側面において、処理チャンバ１０２内の全体の処理ガス流量（例えば、伝達率）はまた、バルブシート１１２に関して傾斜角調整可能バルブ１１４の高さを上げる又は下げることによって制御され得る。この場合において、傾斜角調整可能バルブ１１４とバルブシート１１２との間の平均ギャップは、ガス流量を増加させるために増加され得、又は処理チャンバ１０２の中の処理ガス流量を低減させるために低減され得る。

コントローラ１２２は、（例えば、アクチュエータ１１５Ａから１１５Ｃの）複数のアクチュエータの変位と相互作用し得、かつその変位を指示命令するように作動し得、それによって、処理ガス流の伝達率の全体の程度を制御し、及び／又はバルブシート１１２に関する傾斜角調整可能バルブ１１４のある程度の傾き及び位置をもたらすために、支持部材１１６が垂直に（例えば、上がる又は下がる）移動することをもたらす。このやり方において、処理チャンバ１０２の中の処理ガス流の不均一性の制御が提供される。

図６及び図７は、バルブアセンブリ６００の代替的な実施形態、及びそのカップリング６２０を示している。バルブアセンブリ６００は、以前説明されたように支持部材６１６に結合される、１つのピースの傾斜角調整可能バルブ１１４を含む。支持部材６１６は、支持リング６３４、及び示されている管状のスペーサなどのスペーサ６３６を含み得る。他のスペーサの構成が、使用され得る。支持リング６３４は、流量制限器６３３を含み得、それは、支持リング６３４の周りに配置され得、かつ処理ガスが流路６１６Ｐを通り抜けて出口１０３Ｅへ至る際に、処理ガスの流路の中へ突き出る、又は突出する。流量制限器６３３は、任意の形状であってよく、かつ流路６１６Ｐのうちの１つ又は全部の中の１以上の位置において提供され得る。流量制限器６３３は、望まれるように、均一な又は不均一なパターンの中において提供され得る。流量制限器６３３は、流れの不均一を助長し得る流れの異常を付加するように機能し得る。カップリング６２０は、支持リング６３４のスポーク６３８の位置に隣接する、支持リング６３４に各々取り付けられ得る。

別の代替的なカップリング９２０が、図９の中において示されている。この実施形態において、リーフスプリングタイプの屈曲部９３２は、傾斜角調整可能バルブ１１４の傾きによる角変形を受け入れるように構成され、かつ適合される。描かれている実施形態の中において、カップリング９２０は、シャフト９２５と支持部材９１６との間に取り付けられ得る。しかしながら、カップリング９２０はまた、カップリング９２０が支持部材４１６ＡからＣと傾斜角調整可能バルブ１１４との間に結合される、図８におけるように構成され得る。図３の中において示される屈曲部３３２に対して以前に説明したように、屈曲部９３２は、スクリュー、ボルト、又は同様なものなどの、締め具によって支持部材９１６に結合され得る。同様に、屈曲部９３２は、スクリュー、ボルト、又は同様なものなどの、締め具によってシャフト９２５に結合され得る。屈曲部９３２は、例えば、オーバーラッピングリーブ（ｏｖｅｒｌａｐｐｉｎｇ ｌｅａｖｅ）９３２Ｕ、９３２Ｌを含み得る。屈曲部９３２は、スチールなどのフレキシブルな材料から製造され得、かつスプリングの様な質を披歴するために、適切な薄さを有し得る。示されているように、フレキシブルなベローズ２３０が、カップリング９２０の周りを密封するために含まれ得る。

Claims (20)

1. 処理チャンバ内の処理ガスの流れを制御する方法であって、
   基板を収容するように適合された処理チャンバを提供すること、
   前記基板が前記処理チャンバへ提供され、前記処理チャンバから引き出されるように適合された側部の開口部を提供すること、
   前記処理チャンバへの処理ガスインレットを提供すること、
   バルブシート及び傾斜角調整可能バルブを含む処理ガス出口を提供すること、及び
   前記バルブシートに関して前記傾斜角調整可能バルブを傾けることによって、前記処理チャンバ内の流量パターンを調整すること
   を含む、方法。
2. 前記傾斜角調整可能バルブを傾けることが、複数のアクチュエータで前記傾斜角調整可能バルブを作動させることを含む、請求項１に記載の方法。
3. 前記傾斜角調整可能バルブの傾きによる回転ズレを受け入れることを含む、請求項１に記載の方法。
4. 前記傾斜角調整可能バルブの傾きによる縮小を受け入れることを含む、請求項１に記載の方法。
5. 前記傾斜角調整可能バルブを傾けることによって、前記処理チャンバ内のガス流量パターンの不均一を実質的に最小化する、請求項１に記載の方法。
6. 基板を収容するように適合された処理チャンバ、
   前記基板が前記処理チャンバへ提供され、前記処理チャンバから引き出されるように適合された側部の開口部、
   前記処理チャンバへの処理ガスインレット、
   バルブシートを含む前記処理チャンバからの処理ガス出口、及び
   前記処理チャンバ内のガス流量パターンを制御するために、前記バルブシートに関して傾くように構成されかつ適合された傾斜角調整可能バルブ
   を備える、処理チャンバガス流制御装置。
7. 基板支持体であって、上に基板が配置されるように適合され、かつ前記バルブシート及び前記傾斜角調整可能バルブが前記基板支持体の下に配置される、基板支持体を備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
8. 前記バルブシートに関して前記傾斜角調整可能バルブを傾けるように作動可能な複数のアクチュエータを備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
9. 前記傾斜角調整可能バルブの傾きによる縮小を受け入れるように適合されたカップリングを備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
10. 前記カップリングは、球面継ぎ手及び線形スライドを備える、請求項９に記載の処理チャンバガス流制御装置。
11. 前記傾斜角調整可能バルブの傾きによる縮小を受け入れるように適合された屈曲部を備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
12. 前記屈曲部は、ダブルスタートの機械加工されたスプリング部材を含む、請求項１１に記載の処理チャンバガス流制御装置。
13. 前記傾斜角調整可能バルブ、
    前記傾斜角調整可能バルブを傾けるように適合されたアクチュエータ、
    前記傾斜角調整可能バルブに結合された支持部材、
    前記支持部材に結合された屈曲部、及び
    前記アクチュエータ及び前記屈曲部に結合されたアクチュエータロッド
    を含む傾斜角調整可能バルブアセンブリを備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
14. 前記アクチュエータロッドと前記処理チャンバを含むハウジングとの間を密封するベローズを備える、請求項１３に記載の処理チャンバガス流制御装置。
15. 前記傾斜角調整可能バルブに結合された支持部材を備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
16. 前記傾斜角調整可能バルブはソリッドディスクを備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
17. 前記傾斜角調整可能バルブに結合された複数の支持部材；及び
    前記複数の支持部材のうちの各々に結合されたアクチュエータを備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
18. 前記傾斜角調整可能バルブを傾けるために作動可能な複数のアクチュエータ；及び
    前記傾斜角調整可能バルブに結合され、かつ傾きによる角度ズレ及び縮小変位を受け入れるように適合された、玉継ぎ手及び線形スライドの組み合わせ
    を備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
19. 支持部材と前記傾斜角調整可能バルブとの間を密封し、又は、
    ハウジングの底部と支持部材との間を密封する、
    １以上のベローズを備える、請求項６に記載の処理チャンバガス流制御装置。
20. 基板を収容するように適合された処理チャンバ；
    前記基板が前記処理チャンバへ提供され、前記処理チャンバから引き出されるように適合された側部の開口部、
    前記処理チャンバへの処理ガスインレット；及び
    バルブシート及び傾斜角調整可能バルブを含む前記処理チャンバからの処理ガス出口であって、前記傾斜角調整可能バルブは、前記処理チャンバ内のガス流量パターンを調整するために、前記バルブシートに関して傾くように構成されかつ適合されている、処理ガス出口
    を備える、電子装置処理システム。

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