JP2006292130A - ゲートバルブ - Google Patents
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Abstract
【課題】 ゲートバルブにおいて弁座と弁体の接触にもとづく発塵を防止する。
【解決手段】 開口部10の周囲に形成された弁座3との間にOリング5を挟み込むことで開口部10を塞ぐことが可能な弁体4と、弁座3と弁体4との接触を防止する接触防止手段とを備える。接触防止手段は、弁座3と弁体4とにそれぞれ設けられて互いに反発力を作用させるマグネット6a、6bであることが好適であり、あるいは、弁体4における弁座3に面する側の角部において傾斜面が弁座に向かうように形成された傾斜部20であることが好適であり、あるいは、弁体4を弁座3から遠ざかる方向に押圧する弾性体20であることが好適である。
【選択図】 図1
【解決手段】 開口部10の周囲に形成された弁座3との間にOリング5を挟み込むことで開口部10を塞ぐことが可能な弁体4と、弁座3と弁体4との接触を防止する接触防止手段とを備える。接触防止手段は、弁座3と弁体4とにそれぞれ設けられて互いに反発力を作用させるマグネット6a、6bであることが好適であり、あるいは、弁体4における弁座3に面する側の角部において傾斜面が弁座に向かうように形成された傾斜部20であることが好適であり、あるいは、弁体4を弁座3から遠ざかる方向に押圧する弾性体20であることが好適である。
【選択図】 図1
Description
本発明はゲートバルブに関し、特に、半導体製造装置の成膜装置やドライエッチング装置などの、真空チャンバーに開口部を備えるとともにこの開口部を介してチャンバー内への試料の搬入出を行うようにした装置における、前記開口部を開閉するためのゲートバルブに関する。
半導体製造装置の成膜装置やドライエッチング装置などにおいては、成膜処理やドライエッチング処理を行うための真空チャンバーを有し、この真空チャンバーに、チャンバー内への試料の搬入出を行う開口部を備え、この開口部をゲートバルブを用いて遮蔽するようにしたものが一般に知られている。
特許文献1において提案されているところの、ゲートバルブを用いた遮蔽構造を、図4に示す。図4において、真空チャンバー1と予備室2とは、開口部10を介して互いに連結されるとともに、異なる圧力で維持されるものである。開口部10は、真空チャンバー1と予備室2との間で試料などを搬入出するために設けられたものである。開口部10の周囲には金属製の弁座3が設けられており、この弁座3に金属製の弁体4が被さることで、開口部10を遮蔽可能である。
弁体4に環状に形成された溝17にはOリング5がはめ込まれており、遮蔽時にOリング5が弁座3に押圧されることで密着性を得るようになっている。弁体4はベアリング11によって連結棒7の軸8に回転可能に支持され、連結棒7はその基端部が軸18によってブラケット19に回転可能に支持されている。ブラケット19は、開口部10よりも下側に設けられている。弁体4は、連結棒7と一緒に軸18のまわりに適宜の角度だけ回転されることで弁座3に接近されるとともに、軸8のまわりに回転されることで、弁座3と平行な姿勢となってこの弁座3に被さり、それによって上記のように開口部10を遮蔽可能である。
弁体4によって開口部10を遮蔽したときに開口部10よりも下側となる位置における弁体4と連結棒7との間には、弾性体13と押圧体14とが設けられており、弾性体13の作用によって、弁体4における開口部10よりも下側の部分を軸8のまわりに回転させて弁座3に近づく方向に押さえ付けることができるようにされている。これに対し、弁体4によって開口部10を遮蔽したときに開口部10よりも上側となる位置における弁体4と連結棒7との間には、ストッパー14が設けられており、このストッパー14によって、弾性体13と押圧体14とによる軸8のまわりの弁体4の回転を一定範囲内に規制するように構成されている。
このような構成において、弁体4によって開口部10を遮蔽するときには、連結棒7および弁体4を軸18のまわりに回転させることで、この弁体4を弁座3に接近させる。すると、弾性体13と押圧体14とによって弁体4における開口部10よりも下側の部分が開口部10よりも上側の部分に比べて前方へ突出しているため、この下側の部分とそれに対応したOリング5の部分とがまず弁座3の下部に衝突し、その後に上側の部分とそれに対応したOリング5の部分とがソフトに弁座3の上部に接触する。したがって、前記の衝突によって開口部10の中間部から下側が発塵することがあっても、上側での発塵はなく、そのため、開口部10を通しての試料の搬入出時における試料上への着塵が避けられることになる。
特開平11−185685号公報
しかしながら、特許文献1に記載された従来のゲートバルブは、上記のように弁体4によって開口部10を遮蔽する際の発塵にもとづく試料上への着塵は防止できるものの、弁座3と弁体4とを互いに平行に維持して、弁体4の開閉駆動時や弁体4による押圧時に発生する振動や振れや、Oリング5の変形によって発生する弁体4と弁座3との変位などを十分に抑制するということはできず、このため弁座3と弁体4との完全な接触防止ができずに発塵の効果的な減少ができていないという課題がある。
本発明は、上記課題を解決するために、開口部の周囲に形成された弁座との間にOリングを挟み込むことで前記開口部を塞ぐことが可能な弁体と、前記弁座と弁体との接触を防止する接触防止手段とを備えたものである。
本発明によれば、接触防止手段は、弁座と弁体とにそれぞれ設けられて互いに反発力を作用させるマグネットであることが好適である。このようなものであると、たとえば弁座と弁体の双方に同極のマグネットを埋め込んで、磁力の反発力を利用することで、遮蔽駆動時に起こる弁体の振れを抑制し、それによって弁座と弁体とが非接触となるようにすることができる。
また本発明によれば、接触防止手段は、弁体における弁座に面する側の角部において傾斜面が弁座に向かうように形成された傾斜部であることが好適である。このようなものであると、弁体を弁座と接触しない形状とすることで、非接触なゲートバルブ構造とすることができる。
また本発明によれば、接触防止手段は、弁体を弁座から遠ざかる方向に押圧する弾性体であることが好適である。すなわち、たとえば弁座と弁体との一方において、Oリングの設置位置よりも外周側の、開口部の周囲に沿った複数箇所に、収納式の弾性体を備えることで、非接触なゲートバルブ構造を得ることができる。
本発明によれば、弁座と弁体とが非接触である構造とすることで、弁座と弁体との接触によって起こる互いの材料の擦れや削れを原因とした発塵を無くすことができ、このため、たとえば半導体製造装置の成膜装置やドライエッチング装置などにおいて、試料の搬入出時のパーティクル付着や、真空チャンバー内または予備室内でのパーティクル浮遊を完全に無くすことが可能である。
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照しながら説明する。
図1は、弁体と弁座に同極のマグネットを埋め込んだゲートバルブの構造を示す。すなわち、図1(a)は、真空チャンバー1と予備室2との間の開口部10を遮蔽する前の状態を示している。金属製の弁体4は、ベアリング11にて支持された軸8を中心にして連結棒7のまわりに回転可能とされるとともに、軸18を中心にして連結棒7とともにブラケット19のまわりに回転可能とされることで、金属製の弁座3へ近づいていくことができる。弁体4と弁座3とには、同極のマグネット6a、6bが、弁体4によって開口部10を遮蔽したときに互いに向かい合うことになる位置に、たとえば埋め込み状態で設けられている。Oリング5は、弁座3における開口部10の周囲に形成された溝17にはめ込まれている。
図1は、弁体と弁座に同極のマグネットを埋め込んだゲートバルブの構造を示す。すなわち、図1(a)は、真空チャンバー1と予備室2との間の開口部10を遮蔽する前の状態を示している。金属製の弁体4は、ベアリング11にて支持された軸8を中心にして連結棒7のまわりに回転可能とされるとともに、軸18を中心にして連結棒7とともにブラケット19のまわりに回転可能とされることで、金属製の弁座3へ近づいていくことができる。弁体4と弁座3とには、同極のマグネット6a、6bが、弁体4によって開口部10を遮蔽したときに互いに向かい合うことになる位置に、たとえば埋め込み状態で設けられている。Oリング5は、弁座3における開口部10の周囲に形成された溝17にはめ込まれている。
弁体4によって開口部10を閉じようとする場合に、弁体4は駆動部からの振動の影響を受けて前後左右に揺れることがあるが、弁体4が弁座3に近づくにつれて、弁座3と弁体4とに埋め込まれた同極のマグネット6a、6bどうしの反発によってお互いの接触が確実に防止される。そして、図1(b)に示すように同極のマグネット6a、6bどうしの反発力以上の駆動部の押圧力によってOリング5が弁体4と弁座3との間に挟み込まれることで、開口部10を遮蔽する。
このとき、弁体4とOリング5とは接触するが、弁座3と弁体4とは、同極のマグネット6a、6bどうしの反発によって接触することはない。よって、遮蔽時に弁座3と弁体4とが接触することによる金属発塵を無くすことが可能となる。
図2と図3は、図1で説明した同極のマグネット6a、6bを用いない構造のメタルタッチレスのゲートバルブの構造を示す。
図2の構成では、弁体4における弁座3に面する側の角部に傾斜をつけたものである。20はその傾斜部であって、その傾斜面が弁座3に向かうような方向に形成されている。この傾斜部20は、図示のゲートバルブが半導体製造装置の製造工程において成膜処理やドライエッチング処理を行うための真空チャンバーに用いられるものである場合は、弁体4におけるOリング5の圧接面21に沿ってOリング5から少なくとも2mm以上外周側に離れた位置に形成されている。そしてこの傾斜部20は、弁体4の圧接面21に垂直な面に対して少なくとも1度以上の角度をつけた形状とされている。
図2の構成では、弁体4における弁座3に面する側の角部に傾斜をつけたものである。20はその傾斜部であって、その傾斜面が弁座3に向かうような方向に形成されている。この傾斜部20は、図示のゲートバルブが半導体製造装置の製造工程において成膜処理やドライエッチング処理を行うための真空チャンバーに用いられるものである場合は、弁体4におけるOリング5の圧接面21に沿ってOリング5から少なくとも2mm以上外周側に離れた位置に形成されている。そしてこの傾斜部20は、弁体4の圧接面21に垂直な面に対して少なくとも1度以上の角度をつけた形状とされている。
これにより、ゲートバルブの開閉動作の際に弁体4と弁座3の接触を無くすことが可能となる。すなわち、弁体4によって開口部10を遮蔽するときには、まず弁体4における開口部10よりも下側の部分で、またその後に弁体4における他の部分で、弁体4の角部が弁座3に当たろうとする。ところが、傾斜部20を形成することで、弁体4に面取りが施されたことになって、弁体4と弁座3の接触を無くすことが可能となり、この接触による金属発塵を無くすことが可能となる。
図3の構成では、弁座3におけるOリング5の設置部よりも外周側に凹部22を形成し、この凹部22に弁体4の押圧力よりも弱い弾性力を持つ収納式弾性体15を設けて、この収納式弾性体15によって弁体4を弁座3から遠ざかる方向に押圧している。
これにより、ゲートバルブの開閉動作の際に、Oリング5よりも外周側の位置で収納式弾性体15によって弁体4を弁座3から遠ざかる方向に押圧することで、弁体4と弁座3の接触を無くすことが可能となり、この接触による金属発塵を無くすことが可能となる。凹部22と収納式弾性体15とは、弁座3に代えて弁体4に設けることもできる。
なお、上記においては、互いに連結された真空チャンバー1と予備室2との間の開口部10の遮蔽を目的としたゲートバルブについて説明を行ったが、これ以外の、たとえば真空を維持した状態の第1の真空室と大気開放を行う必要のある第2の真空室との間のゲートバルブとして使用した場合にも、同様の効果を得ることができる。
また、上記においては、ゲートバルブが円弧状の経路に沿って開閉動作するものについて説明したが、上下方向や左右方向に動作するゲートバルブに使用した場合にも、同様の効果を得ることができる。
本発明のゲートバルブは、弁体と弁座との接触を無くすことが可能であるので、半導体製造装置の成膜装置やドライエッチング装置を代表とする、真空チャンバーと予備室との間に開口部を備え、その開口部を介して試料の搬入出を行う装置において、開口部の遮蔽を繰り返すごとに弁座と弁体の接触が原因となる発塵がおこり、試料への付着やチャンバー内のパーティクル浮遊が起こる可能性のある真空処理装置のためのゲートバルブなどとして有効である。
3 弁座
4 弁体
5 Oリング
6a マグネット
6b マグネット
10 開口部
15 収納式弾性体
20 傾斜部
4 弁体
5 Oリング
6a マグネット
6b マグネット
10 開口部
15 収納式弾性体
20 傾斜部
Claims (4)
- 開口部の周囲に形成された弁座との間にOリングを挟み込むことで前記開口部を塞ぐことが可能な弁体と、前記弁座と弁体との接触を防止する接触防止手段とを備えたことを特徴とするゲートバルブ。
- 接触防止手段は、弁座と弁体とにそれぞれ設けられて互いに反発力を作用させるマグネットであることを特徴とする請求項1記載のゲートバルブ。
- 接触防止手段は、弁体における弁座に面する側の角部において傾斜面が弁座に向かうように形成された傾斜部であることを特徴とする請求項1記載のゲートバルブ。
- 接触防止手段は、弁体を弁座から遠ざかる方向に押圧する弾性体であることを特徴とする請求項1記載のゲートバルブ。
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JP2005116351A JP2006292130A (ja) | 2005-04-14 | 2005-04-14 | ゲートバルブ |
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JP2006292130A true JP2006292130A (ja) | 2006-10-26 |
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JP2005116351A Pending JP2006292130A (ja) | 2005-04-14 | 2005-04-14 | ゲートバルブ |
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CN104812939A (zh) * | 2012-11-30 | 2015-07-29 | 应用材料公司 | 处理腔室气流设备、系统和方法 |
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2005
- 2005-04-14 JP JP2005116351A patent/JP2006292130A/ja active Pending
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CN104812939A (zh) * | 2012-11-30 | 2015-07-29 | 应用材料公司 | 处理腔室气流设备、系统和方法 |
CN104812939B (zh) * | 2012-11-30 | 2017-02-22 | 应用材料公司 | 处理腔室气流设备、系统和方法 |
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