JP2001239143A - 排気速度調整機能付き防着バッフル搭載真空装置 - Google Patents
排気速度調整機能付き防着バッフル搭載真空装置Info
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- JP2001239143A JP2001239143A JP2000052666A JP2000052666A JP2001239143A JP 2001239143 A JP2001239143 A JP 2001239143A JP 2000052666 A JP2000052666 A JP 2000052666A JP 2000052666 A JP2000052666 A JP 2000052666A JP 2001239143 A JP2001239143 A JP 2001239143A
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- baffle
- angle
- vacuum apparatus
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- vacuum
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、排気速度調整機能付き防着バッフ
ル搭載真空装置を提供する。 【解決手段】 真空装置において、成膜室と排気室の中
間に角度可変のバッフルを設け、その角度を変更するた
めのアクチュエーターと、真空計からの信号をフィード
バックするためのコントローラをさらに取り付けた。そ
して、目的の圧力値に到達させるまでの排気速度を十分
に得たいときには、成膜室と排気室の間にある防着バッ
フルの角度をコンダクタンスが大きくなる角度に変更
し、成膜時には、コンダクタンスが小さくなる方向に角
度を変更し、成膜室から排気室への蒸発物質の回り込み
を抑える。
ル搭載真空装置を提供する。 【解決手段】 真空装置において、成膜室と排気室の中
間に角度可変のバッフルを設け、その角度を変更するた
めのアクチュエーターと、真空計からの信号をフィード
バックするためのコントローラをさらに取り付けた。そ
して、目的の圧力値に到達させるまでの排気速度を十分
に得たいときには、成膜室と排気室の間にある防着バッ
フルの角度をコンダクタンスが大きくなる角度に変更
し、成膜時には、コンダクタンスが小さくなる方向に角
度を変更し、成膜室から排気室への蒸発物質の回り込み
を抑える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空装置に関す
る。
る。
【０００２】
【従来の技術】図１に、真空装置の典型的な例としての
従来の真空蒸着装置が示されている。図において（１）
は成膜室、（２）は基板取り付けドーム、（３）は蒸発
源、（４）は排気室、（５）は排気口、（６）は主弁、
（７）は主排気ポンプで、（８）は成膜室から排気室へ
の蒸発物質の回り込みを防止するための防着バッフルで
ある。防着バッフル（８）は、成膜室から排気室への蒸
発物質の回り込みを十分に遮断するために、通常は成膜
室から排気室の投影面がゼロになるように配置されてい
る。また、この防着バッフル（一ないし複数の板により
構成される）の長さ及び角度は、不変であり、排気速度
と蒸発物質の回り込み量の関係より決定される。
従来の真空蒸着装置が示されている。図において（１）
は成膜室、（２）は基板取り付けドーム、（３）は蒸発
源、（４）は排気室、（５）は排気口、（６）は主弁、
（７）は主排気ポンプで、（８）は成膜室から排気室へ
の蒸発物質の回り込みを防止するための防着バッフルで
ある。防着バッフル（８）は、成膜室から排気室への蒸
発物質の回り込みを十分に遮断するために、通常は成膜
室から排気室の投影面がゼロになるように配置されてい
る。また、この防着バッフル（一ないし複数の板により
構成される）の長さ及び角度は、不変であり、排気速度
と蒸発物質の回り込み量の関係より決定される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】従来の真空装置での防
着バッフルにおいては、排気速度の効率を上げると主弁
及び主排気口シート面への蒸着物質（またはスパッタ物
質など）の回り込み抑止効果が減少し、逆に蒸着物質の
回り込み抑止の効率を上げると排気速度が犠牲になって
しまうという問題があった。また、成膜時に圧力値を一
定にしたいときには、その圧力を制御するための専用の
機器が必要になり、コスト高となる問題もあった。
着バッフルにおいては、排気速度の効率を上げると主弁
及び主排気口シート面への蒸着物質（またはスパッタ物
質など）の回り込み抑止効果が減少し、逆に蒸着物質の
回り込み抑止の効率を上げると排気速度が犠牲になって
しまうという問題があった。また、成膜時に圧力値を一
定にしたいときには、その圧力を制御するための専用の
機器が必要になり、コスト高となる問題もあった。
【０００４】本発明では、上記のような従来の装置の持
つ問題点を解決し、圧力制御専用の機器を搭載すること
なく圧力の制御が可能で、さらに目的の圧力まで到達さ
せるまでの時間を短縮し、成膜時には主弁及び主排気シ
ート面への蒸着物質の回り込み抑止効果を十分に得るこ
とが可能な排気速度調節機能付き防着バッフル搭載真空
装置を提供することを目的とする。
つ問題点を解決し、圧力制御専用の機器を搭載すること
なく圧力の制御が可能で、さらに目的の圧力まで到達さ
せるまでの時間を短縮し、成膜時には主弁及び主排気シ
ート面への蒸着物質の回り込み抑止効果を十分に得るこ
とが可能な排気速度調節機能付き防着バッフル搭載真空
装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明の排気速度調整機
能付き防着バッフル搭載真空装置は、成膜室と排気室の
中間に角度可変のバッフルを設け、その角度を変更する
ためのアクチュエーターと、真空計からの信号をフィー
ドバックするためのコントローラを取り付けたものであ
る。また、本発明の排気速度調整機能付き防着バッフル
搭載真空装置においては、目的の圧力値に到達させるま
での排気速度を十分に得たい場合、成膜室と排気室の間
にある防着バッフルの角度はコンダクタンスが大きくな
る角度に変更される。成膜時には、コンダクタンスが小
さくなる方向に角度が変更されて、成膜室から排気室へ
の蒸発物質の回り込みが抑止される。
能付き防着バッフル搭載真空装置は、成膜室と排気室の
中間に角度可変のバッフルを設け、その角度を変更する
ためのアクチュエーターと、真空計からの信号をフィー
ドバックするためのコントローラを取り付けたものであ
る。また、本発明の排気速度調整機能付き防着バッフル
搭載真空装置においては、目的の圧力値に到達させるま
での排気速度を十分に得たい場合、成膜室と排気室の間
にある防着バッフルの角度はコンダクタンスが大きくな
る角度に変更される。成膜時には、コンダクタンスが小
さくなる方向に角度が変更されて、成膜室から排気室へ
の蒸発物質の回り込みが抑止される。
【０００６】
【発明の実施の形態】（１）実施例の構成の説明 以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。図２
は本発明に従う排気速度調整機能付き防着バッフル搭載
真空蒸着装置を示した図で、（１）は成膜室、（２）は
基板取り付けドーム、（３）は蒸発源、（４）は排気
室、（５）は排気口、（６）は主弁、（７）は主排気ポ
ンプ、（９）は（一ないし複数の板により構成される）
角度可変な防着バッフル、（１０）はアクチュエーター
で、（９）の防着バッフルに連結されている。（１１）
はフィードバックコントローラ、（１２）は真空計、
（１３）は真空ゲージである。（１４）は成膜時にガス
を導入するためのガス導入器である。
は本発明に従う排気速度調整機能付き防着バッフル搭載
真空蒸着装置を示した図で、（１）は成膜室、（２）は
基板取り付けドーム、（３）は蒸発源、（４）は排気
室、（５）は排気口、（６）は主弁、（７）は主排気ポ
ンプ、（９）は（一ないし複数の板により構成される）
角度可変な防着バッフル、（１０）はアクチュエーター
で、（９）の防着バッフルに連結されている。（１１）
はフィードバックコントローラ、（１２）は真空計、
（１３）は真空ゲージである。（１４）は成膜時にガス
を導入するためのガス導入器である。
【０００７】（２）実施例の作用・動作の説明 まず、排気開始から成膜開始までは、アクチュエーター
（１０）で成膜室（１）と排気室（４）のあいだのコン
ダクタンスが最大になるように防着バッフル（９）の角
度を変更することによって、成膜室を所望の圧力まです
ばやく排気することができる。成膜時には、（１０）の
アクチュエーターを用いて防着バッフル（９）の角度を
変更することによって蒸発源（３）から蒸発した物質が
排気室（４）に回り込むことを防止することができる。
ここで、防着バッフルの枚数、大きさ、形状等について
は、成膜室（１）の容量、排気室（４）の容量、及び排
気室（４）に取り付けられる排気ポンプ（７）の排気容
量等から、排気及び回り込み防止効果の両面で最適効果
が得られるように設定される。
（１０）で成膜室（１）と排気室（４）のあいだのコン
ダクタンスが最大になるように防着バッフル（９）の角
度を変更することによって、成膜室を所望の圧力まです
ばやく排気することができる。成膜時には、（１０）の
アクチュエーターを用いて防着バッフル（９）の角度を
変更することによって蒸発源（３）から蒸発した物質が
排気室（４）に回り込むことを防止することができる。
ここで、防着バッフルの枚数、大きさ、形状等について
は、成膜室（１）の容量、排気室（４）の容量、及び排
気室（４）に取り付けられる排気ポンプ（７）の排気容
量等から、排気及び回り込み防止効果の両面で最適効果
が得られるように設定される。
【０００８】また、成膜時に十分な回り込み防止効果を
得る範囲内で、ガス導入器（１４）からガスを導入した
ときに、アクチュエーター（１０）で防着バッフル
（９）の角度を変更することによって、成膜室（１）と
排気室（４）の間のコンダクタンスを調節し、例えば真
空計（１２）の測定値に従って成膜室の圧力を所望の値
に設定変更したり、フィードバックコントローラ（１
１）を用いて真空計（１２）の測定値が一定になるよう
にして、成膜室の圧力を一定にするなどの成膜室の圧力
の調整が可能である。
得る範囲内で、ガス導入器（１４）からガスを導入した
ときに、アクチュエーター（１０）で防着バッフル
（９）の角度を変更することによって、成膜室（１）と
排気室（４）の間のコンダクタンスを調節し、例えば真
空計（１２）の測定値に従って成膜室の圧力を所望の値
に設定変更したり、フィードバックコントローラ（１
１）を用いて真空計（１２）の測定値が一定になるよう
にして、成膜室の圧力を一定にするなどの成膜室の圧力
の調整が可能である。
【０００９】ここで、防着バッフルの角度を変更した場
合の圧力と排気速度との関係を示したグラフを図３に示
した。グラフでバッフル角度とは排気の流れる向きを基
準面としており、本実施例では図２の水平方向を０°と
している。グラフよりバッフル角度が小さい場合に排気
速度が大きく、従ってコンダクタンスが大きくなる角度
であることが理解されるであろう。
合の圧力と排気速度との関係を示したグラフを図３に示
した。グラフでバッフル角度とは排気の流れる向きを基
準面としており、本実施例では図２の水平方向を０°と
している。グラフよりバッフル角度が小さい場合に排気
速度が大きく、従ってコンダクタンスが大きくなる角度
であることが理解されるであろう。
【００１０】上述した本発明の実施例の説明において
は、真空装置の典型的な例としての真空蒸着装置の構
成、および動作を取り上げたが、本発明はこの真空蒸着
装置に限らず、イオンプレーティング装置、およびスパ
ッタリング装置などにも適用可能であることは当業者に
は明白である。
は、真空装置の典型的な例としての真空蒸着装置の構
成、および動作を取り上げたが、本発明はこの真空蒸着
装置に限らず、イオンプレーティング装置、およびスパ
ッタリング装置などにも適用可能であることは当業者に
は明白である。
【００１１】なお、ここで記述された実施例は、説明の
みを目的とするものであり、添付の特許請求の範囲にお
いてのみ適切に定められる本発明の範囲を制限するもの
ではない。
みを目的とするものであり、添付の特許請求の範囲にお
いてのみ適切に定められる本発明の範囲を制限するもの
ではない。
【００１２】
【発明の効果】本発明によれば、成膜までの排気時間を
従来の装置より短縮できることにより生産性を向上する
ことができる。また、成膜時には排気口および主弁への
蒸発物質の回り込みを十分に抑えられるのでメインテナ
ンスサイクルを従来装置より長くすることができる。更
に、成膜時に圧力を一定にする必要がある場合に従来の
必要とされていた圧力制御装置が不要となり、コストを
十分に抑えることができる。
従来の装置より短縮できることにより生産性を向上する
ことができる。また、成膜時には排気口および主弁への
蒸発物質の回り込みを十分に抑えられるのでメインテナ
ンスサイクルを従来装置より長くすることができる。更
に、成膜時に圧力を一定にする必要がある場合に従来の
必要とされていた圧力制御装置が不要となり、コストを
十分に抑えることができる。
【図１】従来の真空蒸着装置を示す平面図である。
【図２】本発明の真空蒸着装置を示す平面図である。
【図３】本発明の防着バッフルの角度と排気速度の関係
を示す図である。
を示す図である。
１ 成膜室 ２ 基板取り付けドーム ３ 蒸発源 ４ 排気室 ５ 排気口 ６ 主弁 ７ 主排気ポンプ ８ 防着バッフル ９ 角度変更が可能なバッフル １０ アクチュエーター １１ フィードバックコントローラー １２ 真空計 １３ 真空ゲージ １４ ガス導入器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 篤一 神奈川県相模原市大野台２−27−２ 株式 会社昭和真空内 (72)発明者 大谷 茂 神奈川県相模原市大野台２−27−２ 株式 会社昭和真空内 (72)発明者 細川 清 神奈川県相模原市大野台２−27−２ 株式 会社昭和真空内 Ｆターム(参考） 3H052 AA02 BA03 BA11 CC01 EA09 3H066 AA02 BA01 BA38 4K029 CA03 CA05 DA10 KA09 5F045 AA18 AA19 BB08 BB14 EG02 EG06 GB06
Claims (7)
- 【請求項１】 少なくとも第一、及び第二の室を持ち、
前記第一の室が前記第二の室を通して排気される真空装
置において、前記第一、及び第二の室が角度可変の一な
いし複数の板によって仕切られていることを特徴とする
真空装置。 - 【請求項２】 前記角度可変の一ないし複数の板によっ
て排気速度調整機能をもたせたことを特徴とする請求項
１記載の真空装置。 - 【請求項３】 前記角度可変の一ないし複数の板の角度
を制御する手段を有することを特徴とする請求項１記載
の真空装置。 - 【請求項４】 前記真空装置が、真空蒸着装置であるこ
とを特徴とする請求項１記載の真空装置。 - 【請求項５】 前記真空装置が、イオンプレーティング
装置であることを特徴とする請求項１記載の真空装置。 - 【請求項６】 前記真空装置が、スパッタリング装置で
あることを特徴とする請求項１記載の真空装置。 - 【請求項７】 前記角度可変の一ないし複数の板によっ
て蒸着物質、あるいはスパッタ物質の回り込みを防止す
ることを特徴とする請求項４、５、６記載の真空装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000052666A JP2001239143A (ja) | 2000-02-29 | 2000-02-29 | 排気速度調整機能付き防着バッフル搭載真空装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000052666A JP2001239143A (ja) | 2000-02-29 | 2000-02-29 | 排気速度調整機能付き防着バッフル搭載真空装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001239143A true JP2001239143A (ja) | 2001-09-04 |
| JP2001239143A5 JP2001239143A5 (ja) | 2006-11-09 |
Family
ID=18574147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000052666A Pending JP2001239143A (ja) | 2000-02-29 | 2000-02-29 | 排気速度調整機能付き防着バッフル搭載真空装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001239143A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005108637A1 (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Showa Shinku Co., Ltd. | 真空槽の変形防止補強構造 |
| JP2009209439A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置 |
| JP2016505711A (ja) * | 2012-11-30 | 2016-02-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 処理チャンバガス流装置、システム、及び方法 |
-
2000
- 2000-02-29 JP JP2000052666A patent/JP2001239143A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005108637A1 (ja) * | 2004-05-10 | 2005-11-17 | Showa Shinku Co., Ltd. | 真空槽の変形防止補強構造 |
| JP2009209439A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Tsukishima Kikai Co Ltd | 真空成膜装置 |
| JP4700706B2 (ja) * | 2008-03-06 | 2011-06-15 | 月島機械株式会社 | 真空成膜装置 |
| JP2016505711A (ja) * | 2012-11-30 | 2016-02-25 | アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドＡｐｐｌｉｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ | 処理チャンバガス流装置、システム、及び方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060921 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060921 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060922 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091125 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100122 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100825 |