JP2016213446A - 銅張積層板及びこれを用いたプリント回路基板の製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
110、111、112、113 プリント回路基板
200 絶縁層
300、300' 第2銅箔層
310、310' 高分子樹脂層
320、320' 第2銅層
330、330' キャリアホイル層
400、410、420 第1銅箔層
411 第1銅層
412 表面処理層
421 極箔銅箔
422 金属酸化物コーティング層
510 一面
520 他面
600 ビアホール
610 ビア
700 銅シード層
800 外層回路パターン
810 微細パターン
900 ソルダーレジスト
Claims (20)
- 絶縁層の一面に備えられた第1銅箔層と、
前記絶縁層の他面に備えられた第2銅箔層と、を含み、
前記第2銅箔層は、高分子樹脂層、第2銅層及びキャリアホイル層を含む銅張積層板。 - 前記高分子樹脂層は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、液晶高分子(LCP、Liquid Crystal Polymer)、環状オレフィン高分子(COP、Cyclic Olefin Polymer)のうちのいずれか1種または2種以上を混合したものである請求項1に記載の銅張積層板。
- 前記キャリアホイル層は、ベンゾトリアゾール系有機剥離剤またはコバルトなどの金属剥離剤でコーティングしたものである請求項1または請求項2に記載の銅張積層板。
- 絶縁層の一面に備えられた第1銅箔層と、
前記絶縁層の他面に備えられた第2銅箔層と、を含み、
前記第1銅箔層は、第1銅層及び表面処理層を含み、
前記第2銅箔層は、高分子樹脂層、第2銅層及びキャリアホイル層を含む銅張積層板。 - 前記高分子樹脂層は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、液晶高分子(LCP、Liquid Crystal Polymer)、環状オレフィン高分子(COP、Cyclic Olefin Polymer)のうちのいずれか1種または2種以上を混合したものである請求項4に記載の銅張積層板。
- 前記キャリアホイル層は、ベンゾトリアゾール系有機剥離剤またはコバルトなどの金属剥離剤でコーティングしたものである請求項4または請求項5に記載の銅張積層板。
- 前記表面処理層は、第1銅層に黒化処理により酸化銅を析出させたものである請求項4から請求項6のいずれか一項に記載の銅張積層板。
- 絶縁層の一面に備えられた第1銅箔層と、
前記絶縁層の他面に備えられた第2銅箔層と、を含み、
前記第1銅箔層は、ニッケル酸化物またはコバルト酸化物でコーティングされた極箔銅箔を含み、
前記第2銅箔層は、高分子樹脂層、第2銅層及びキャリアホイル層を含む銅張積層板。 - 前記高分子樹脂層は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、液晶高分子(LCP、Liquid Crystal Polymer)、環状オレフィン高分子(COP、Cyclic Olefin Polymer)のうちのいずれか1種または2種以上を混合したものである請求項8に記載の銅張積層板。
- 前記キャリアホイル層は、ベンゾトリアゾール系有機剥離剤またはコバルトなどの金属剥離剤でコーティングしたものである請求項8または請求項9に記載の銅張積層板。
- 絶縁層の一面に備えられた第1銅箔層と、
前記絶縁層の他面に備えられた第2銅箔層と、を含み、
前記第1銅箔層及び前記第2銅箔層は、それぞれ高分子樹脂層、第2銅層及びキャリアホイル層を含む銅張積層板。 - 前記高分子樹脂層は、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、液晶高分子(LCP、Liquid Crystal Polymer)、環状オレフィン高分子(COP、Cyclic Olefin Polymer)のうちのいずれか1種または2種以上を混合したものである請求項11に記載の銅張積層板。
- 前記キャリアホイル層は、ンゾトリアゾール系有機剥離剤またはコバルトなどの金属剥離剤でコーティングしたものである請求項11または請求項12に記載の銅張積層板。
- 絶縁層の一面に第1銅箔層を、他面に高分子樹脂層、キャリアホイル層及び第2銅層を含む第2銅箔層を形成するステップと、
前記第1銅箔層の表面にビアホールを形成するステップと、
前記第2銅箔層を前記高分子樹脂層のみを残して除去し、前記第1銅箔層をエッチングした後に銅シード層を形成するステップと、
前記一面に回路パターンを形成し、ビア及び外層回路を形成するステップと、
を含むプリント回路基板の製造方法。 - 絶縁層の一面に第1銅層及び表面処理層を含む第1銅箔層を形成し、他面に高分子樹脂層、キャリアホイル層及び第2銅層を含む第2銅箔層を形成するステップと、
前記第1銅箔層の表面にビアホールを形成するステップと、
前記第2銅箔層を前記高分子樹脂層のみを残して除去し、前記第1銅箔層をエッチングした後に銅シード層を形成するステップと、
前記一面に回路パターンを形成し、ビア及び外層回路を形成するステップと、
を含むプリント回路基板の製造方法。 - 絶縁層の一面にニッケル酸化物またはコバルト酸化物でコーティングされた極箔銅箔を含む第1銅箔層を形成し、他面に高分子樹脂層、キャリアホイル層及び第2銅層を含む第2銅箔層を形成するステップと、
前記第1銅箔層の表面にビアホールを形成するステップと、
前記第2銅箔層を前記高分子樹脂層のみを残して除去し、前記第1銅箔層をエッチングした後に銅シード層を形成するステップと、
前記一面に回路パターンを形成し、ビア及び外層回路を形成するステップと、
を含むプリント回路基板の製造方法。 - 絶縁層の一面及び他面に高分子樹脂層、キャリアホイル層及び第2銅層を含む第2銅箔層を形成するステップと、
前記一面の第2銅箔層にビアホールを形成するステップと、
前記第2銅箔層を前記高分子樹脂層のみを残して除去し、銅シード層を形成するステップと、
前記一面及び他面に回路パターンを形成し、ビア及び外層回路を形成するステップと、
を含むプリント回路基板の製造方法。 - 前記ビアホールを形成するステップは、
前記第1銅箔層の表面にレーザを照射して上記ビアホールを形成する請求項14から請求項16のいずれか1項に記載のプリント回路基板の製造方法。 - 前記銅シード層を形成するステップは、
前記第1銅箔層をエッチングした後に無電解メッキで銅シード層を形成する請求項14から請求項16のいずれか1項に記載のプリント回路基板の製造方法。 - 前記ビア及び外層回路を形成するステップは、
セミアディティブ(SAP、Semi−Additive Process)法により前記回路パターンを形成する請求項14から請求項16のいずれか1項に記載のプリント回路基板の製造方法。
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