JP2016211844A - クリティカル環境での制御希釈フロー - Google Patents

Abstract

【課題】制御希釈流体フローパターンを提供する。【解決手段】流体供給装置１１は、クリティカルな部屋内の流体の流れのパターンを制御するように構成される。クリティカルな部屋は、汚染を被るクリティカル領域を含む。第１の流体供給ノズルは、クリティカル領域の実質的中心の方へ流体の第１の流れを提供するように第１の流体供給噴射２０を提供するように構成される。第２の流体ノズルは、部屋の周辺の方へ流体の第２の流れを提供するように第２の流体供給噴射２１を提供するように構成される。第１の流体供給噴射の推進力および第２の流体供給噴射の推進力は、クリティカル領域の実質的中心が第１の流れによって流され、クリティカル領域の実質的中心への第２の流れの侵入が概ね阻止されるように、調整される。他の実施形態では、ＨＶＡＣシステムおよび方法が、装置の特徴と共に論じられる。【選択図】図６

Description

本発明は、ＨＶＡＣに関する。特に、本発明は、クリティカルな部屋内での流体フローパターンの制御に関する。

ＨＶＡＣ、暖房、換気、および空調は、室内環境の快適さのための技術である。その目標は、熱的快適性および許容できる室内空気質を提供することである。ＨＶＡＣシステム設計は、熱力学、流体力学、および熱伝導の原理に基づいた、機械工学の学問分野の下位区分である。冷凍がＨＶＡＣ＆ＲまたはＨＶＡＣＲとして省略形に加えられたり、換気がＨＡＣＲ（ＨＡＣＲ定格ブレーカーの名称においてなど）として省かれたりすることがある。ＨＶＡＣは、室内設計において重要である。室内設計では、安全で健全な建物の状態が、室外からの新鮮な空気を用いて、温度および湿度に関して調節される。

換気（ＨＶＡＣのＶ）は、例えば、温度制御、酸素補給、または、湿気、匂い、煙、熱、ダスト、空中浮遊菌、および二酸化炭素の除去のために、高い室内空気質を提供するように空間で空気を交換または置換するプロセスである。換気は、不快な匂いと過度の湿気の除去、外気の導入、建物内部の空気循環の保持、および部屋空気の停滞の防止に用いられる。換気は、外部への空気の交換も建物内の空気の循環も含む。それは、建物内の許容できる室内空気質を維持するのに最も重要な要素の１つである。建物を換気する方法は、機械的または強制的および自然形に分類できる。

クリティカル環境についての空気分配の原理の現在の応用は、最もクリティカルな（ＥＮ規格クリーンルーム）環境で使用されるゾーニング原理と、他の部屋で使用される希釈原理と、の簡単な考えに基づく。多くの場合、この考えは、実際には、クリティカルな部屋内での空気流パターンの不満足な実現に至っている。特に観血法が患者を治療するのに使用される手術室では、患者の近くの汚染源としての操作者の存在は、傷の汚染の防止における特別な課題を引き起こす。進行中の手術の際に行われた最近の（Ｎｏｒｄｅｎａｄｌｅｒら）調査は、ゾーンシステム、その最もよくある実現は、低乱流天井供給であり、低乱流天井供給では、空気が、作業領域にわたる大きな表面から供給され、所望のゾーニングを提供できないが、クリティカルゾーンへの逆流を含む部屋内での混合状態になることを、示している。

他方、手術室で現在使用されている混合の解決策は、全体にわたる考えに基づかず、真に混合された状態を提供できず、最もクリティカルな領域への逆流の防止を欠き、作業のための速度状態および熱環境を制御する能力もほとんどない。よくある方法の１つは、典型的に部屋内に対称的に位置する、天井での渦拡散器の使用に基づく。このシステムは、汚染空気が床面高さから創傷部に入るようになることと、速度状態を制御する手段がないこととの、両方のリスクを有する。過去に使用された第２の非常によくある方法は、高い壁または天井／壁コーナー供給であり、それは、供給と室内の空気との間の温度差に非常に敏感である。運転条件に応じて、それは、創傷部に入るのに先立って操作者を通り越した空気を吹くこと、または、床に直接空気を吹くことがあり、従って作業領域への最大の降下汚染物質をもたらす。第３の非常によくあるシステムは、並流システムであり、並流システムでは、空気が、手術室に平行である２つの細長い空気供給装置から、作業領域に供給される。先に述べたシステムと比べて、このシステムは、クリティカルゾーンの中心に空気供給を提供する利点を有する。しかしながら、そのようなシステムの設計は、噴射または速度を調整する可能性がなく、中心内の過剰速度の回避に基づく。設計は、中心からの空気供給装置の距離のみに基づく。従って、空気供給噴射または噴射速度は、調整可能でない。周辺からの逆流は、多くのクリティカルな部屋で危険を及ぼす。

全ての現在使用されている混合型システムに共通するのは、それらが、制御された仕方で必要な希釈のための十分な気流速度を提供できないことである。

本発明の目的は、制御希釈流体フローパターンを提供することである。目的は、独立請求項の特徴によって達成される。

制御希釈流体フローパターンが、記載される。実施形態では、流体供給装置は、クリティカルな部屋内での流体の流れのパターンを制御するように構成される。クリティカルな部屋は、汚染を被るクリティカル領域を含む。第１の流体供給ノズルは、クリティカル領域の実質的中心に向かう流体の第１の流れを提供するように第１の流体供給噴射を提供するように構成される。第２の流体ノズルは、部屋の周辺に向かう流体の第２の流れを提供するように第２の流体供給噴射を提供するように構成される。第１の流体供給噴射の推進力および第２の流体供給噴射の推進力は、クリティカル領域の実質的中心が第１の流れによって流され、クリティカル領域の実質的中心への第２の流れの侵入が概ね阻止されるように、調整される。

他の実施形態では、ＨＶＡＣシステムおよび方法は、装置の特徴と共に論じられる。

前述の実施形態は、公知の従来技術の問題および不都合な点に対する解決策を提供する。本発明の他の工学的利点は、以下の記載および請求項から当業者に明らかになる。本発明を実施する多くの実施形態は、提示された利点の一部だけを達成する。利点は、実施の実施形態に絶対不可欠でない。必要とされる実施形態は、他の必要とされる実施形態と技術的に組み合わせることができる。実施形態は、いくつかだけの有利な実施形態を表し、以下でさらに提示される請求項の枠組み内で他の方法でも実施できる本発明の概念を限定しない。

添付図面は、本発明の実施形態の例を示し、上記の概要および詳細な現行の実施形態と共に、例として、本発明の原理を説明するのに役立つ。

実施形態に従ったクリティカルな部屋に流体を供給するシステムの例を示す。 実施形態に従った３次元制御希釈用の方形リング型空気供給装置の略図の例を示す。 実施形態に従ったクリティカルな部屋の天井内で中央に位置する方形リング型空気供給拡散器の略図の例を示す。 実施形態に従った複数のノズルを含む空気供給装置の面の断面の例を示す。 第１、第２および第３の空気噴射での空気供給フローパターンの横断面の略図の実施形態である。 実施形態に従ったクリティカルな部屋の制御希釈空気フローパターンの略図の例である。 実施形態に従った２次元制御希釈を提供する空気噴射調整機構を含む２つの細長い空気供給装置のシステムの例である。

実施形態によると、クリティカルな部屋内の空気供給装置のレイアウトおよび設定は、クリティカルな作業が実施されるクリティカルな部屋内のより一貫性がある清浄度および熱環境を生成するように記載される。

ある実施形態によると、部屋の少なくとも１つの室内環境状態を制御する設定で、システム、方法および空気供給装置が提供され、少なくとも１つの空気供給装置、または複数の空気供給装置のシステムを備え、それは、部屋全体で室内環境状態の実質的に一様な清浄度を提供し得るクリティカルな部屋内の（１つの）複合制御空気流場を提供するように構成される。それらは、噴射推進力によって部屋の中央内のクリティカルゾーンから汚染物質を運ぶことができる。それらは、噴射推進力調整によって周辺からクリティカルゾーンへの汚染物質の逆流を防ぐことができる。それらは、汚染物質制御と空間内の人にとっての熱的快適性との両方のための所望の空気速度状態を提供することができる。空気供給装置の特定の設定は、実施形態に従って、空気供給装置とクリティカルな部屋のレイアウトとの両方に応じる。その結果として、制御空気流パターンは、異なるレイアウトでの特定の設定によって作ることができる。

実施形態は、第１に、空気供給装置が、熱流および人の動きなどの部屋内の他の推進力源に打ち勝つように部屋の中央に提供する、第１の空気噴射の噴射推進力および気流速度の選択に基づき得る。第２に、それは、部屋の真ん中に導かれる噴射の推進力が、部屋の中央のクリティカルゾーンへの周辺噴射の逆流の侵入を阻止することができるように、部屋周辺に導かれる第２の空気噴射の噴射推進力の選択に基づき得る。第３に、それは、第１の空気噴射と第２の空気噴射との間の第３の空気噴射を、それが第１の空気噴射と第２の空気噴射によって主に作り出される全室内の空気のフローパターンを概して乱さないように、供給する残りの空気の供給に基づき得る。

例えば方法の例で用いられ得る、空気供給装置の実施形態は、第１、第２および第３の空気噴射によって形成される噴射と、第１、第２または第３の噴射によって供給される空気供給フローの一部と、を調整する構成可能な案内羽根を有する。また、調整によって、空気流パターンを、空間およびその使用（例えば一様でない熱源を含むハイブリッド型手術室での）の詳細に合うように、微調整できる。実施形態では、空気供給装置は、クリティカルな部屋の中心の周りに環形状を有し、その結果として、より完全な希釈用の３次元フローを提供する。

実施形態では、部屋１０の天井に位置する環状の空気供給装置配置が、示されている。例えば、図１の実施形態で示される部屋１０は、汚染を被る手術を伴うクリーンルームであってよい。クリーンルームの例は、医療手術用の手術室、ＯＲ、であってよい。部屋１０の他の例は、部屋１０の室内環境状態の清浄度のレベルが制御される屋内の部屋であってよく、例えば病院内の部屋である。薬局内部、製造または処理空間が、他の例であってよい。電気または微粒子機構製造または処理空間が、他の種類の例であってよい。生物学的または微生物学的製造または処理空間が、他の例であってよい。部屋は、図１の実施形態に示されている部屋１０の室内環境状態を制御するように構成されているＨＶＡＣ装置１１，１２，１３，１４を備える。入力換気装置１１および出力換気装置１２は、部屋の換気を制御するように構成されている。装置３０は、部屋１０の清浄度のレベルに関して、換気装置１１，１２を制御するように構成されている。さらに、換気装置１１，１２は、部屋１０の清浄度のレベルを検出するように構成されてよい。例えば、不純物、粒子、気体等の量が、部屋１０の空気から検出または制御されてよい。従って、換気装置１１，１２は、部屋１０の室内環境状態の清浄度のレベルを制御するように構成されている。清浄度のレベルは、部屋１０の換気の量に部分的に基づき得る。清浄度のレベルは、部屋１０の換気量、部屋に入る空気の量、部屋を出て行く空気の量、に部分的に基づき得る。部屋１０に入る空気は、衛生的にされてよい。部屋は、暖房装置１４および冷却装置１３をさらに備え、そのどちらも室内環境状態を制御するように構成されている。ＨＶＡＣ装置１１，１２，１３，１４は、部屋１０の室内環境状態を制御するように構成されているコンピューティング装置３０に結合される。コンピューティング装置３０は、それぞれのＨＶＡＣ装置１１，１２，１３，１４を制御できる。例えば、出力換気装置１２から部屋を出る空気よりも多くの空気を入力換気装置１１で入力することによって、過剰圧力を部屋１０に作り出すことができる。別の例として、入力換気装置１１の入力よりも多くの空気を出力換気装置１２によって出力することによって、不足圧力を部屋１０に作り出すことができる。

ＨＶＡＣ装置が、新鮮で清浄な空気の適正量、暖房および冷房、室内散気を提供する一方で、空気フローパターンは、部屋１０の空間内の清浄度に関与する。それは、清浄度が室内空間全体に及んだかどうか、または、汚染物質濃度に勾配があるかどうか、に影響する。ゾーニング原理の場合、この勾配が望まれることがあるが、希釈の場合、より高い汚染物質濃度の領域は、好ましくない欠陥であることがある。

図２は、入力換気装置１１の実施形態を示す。入力換気装置１１は、空気供給装置と称することもできる。図２の実施形態は、リング型空気供給装置１１を示し、それは、室内空間全体を均一に換気する制御希釈空気流パターンを生成するさらに最適な形態の例である。リング型入力換気装置１１は、図１に示されているように四角い形を有することができる。しかしながら、それは、空気供給装置１１と、実際の部屋１０寸法への空気フローパターンと、を収容する互い違いの長さと幅での異なるリング型形状を有することもできることに注意すべきである。例えば、リング形状は、円または円形空気供給装置１１などの丸い形であることもできる。

図２の実施形態では、空気供給装置１１は、複数のフロントパネル１１１、本体１１３、および空気供給入力１１２を含む。フロントパネル１１１は、部屋１０に入る空気噴射を供給および案内するように構成されている。入力１１２は、例えば入力空気ポンプ装置用の空気入力を受け取る換気ダクトに接続できる。

図３は、換気された部屋１０に位置するリング型空気供給装置１１の実施形態を示す。空気供給装置１１は、部屋１０の天井１１４に位置する。例えば、空気供給装置１１は、天井１１４に組み込まれてよい。図３の実施形態では、空気供給装置１１は、部屋１０の中央に位置し、それは、作業についてのクリティカル領域が部屋１０の中心Ｏであり得る場合の位置の例である。装置１１は、部屋１０内で異なって位置することもできる。例えば、クリティカル領域の中心Ｏ’が、装置１１の中心Ｏでない場合、空気供給装置１１は、クリティカルな領域に対して配向されることができる。例えば、空気供給装置１１の中心Ｏは、クリティカルな領域の中心Ｏ’に対して配向されてよい。中心Ｏおよび／または中心Ｏ’は、部屋１０の物理的中心点であってもそうでなくてもよいことにも注意すべきである。

図４は、空気供給装置１１のフロントパネル１１１の断面の実施形態を示す。図４は、制御希釈装置、方法およびシステムで使用される１つの適用可能性を示す。フロントパネル１１１は、複数の調整可能ノズル１１１０を含み、複数の調整可能ノズル１１１０は、空気供給のフレキシブルなスローパターン調整を可能にする。ノズル１１１０は、空気を供給する開口１１１１と、供給空気の噴射を導く案内リーフ１１１２と、を含む。フロントパネル１１１は、異なる方法で作り上げることができ、ノズル１１１０を有する図４に示されているのは、１つの例にすぎない。例えば、同じ結果が、調整可能なスロット付き開口を含むフロントパネルで達成され得る。別の例として、ノズル１１１０は、所望の空気のフローおよび噴射方向を実現するように、様々な方法で導かれてよい。また、ノズル１１１０は、異なる大きさおよび形であってよい。図４の例は、複数の円形ノズルを示す。別の例として、方形ノズルが使用されてよい。別の例として、単一のノズルだけが、第１、第２および第３の噴射２０，２１，２２を作るように、分割案内リーフと共に設けられてよい。

図５は、第１の空気噴射２０、第２の空気噴射２１および第３の空気噴射２２での空気供給装置１１からの空気供給フローパターンの概略横断面を示す。第１の噴射２１は、リング型空気供給装置１１の中心Ｏの方へ導かれる。第２の噴射２１は、空気供給装置１１の中心Ｏから出て、部屋１０周辺に導かれる。第３の噴射２２は、第１の噴射２０と第２の噴射２１との間に供給され、それが、例えば、２つの噴射２０，２１によって生じる部屋内の一次的空気流パターンに障害をあまり起こさないが、第３の噴射２２からの空気が、二次的空気として第１の空気噴射２０および第２の空気噴射２１の中に誘導されるようになっている。フロントパネル１１１の設計および形状は、噴射２０，２１，２２に影響を与えることがある。例えば、開口１１１１および案内リーフ１１１２の構成のされ方および設計のされ方は、噴射の方向に影響を与えることがある。

図６は、部屋１０の空気流パターンの横断面を示す。図６は、リング型空気供給装置１１の横断面での部屋１０の断面図を示す。第１の噴射２０によって生じる空気供給流は、リング型空気供給装置１１の中心Ｏの方へ天井１１４に沿って導かれる。それは、ｘ，ｙ座標レベルで全４方向からリング型空気供給装置１１の中心Ｏに合流する。合流噴射は、合流後に天井１１４から下方に導かれる。合流噴射が、クリティカル領域の中心Ｏ’にあるクリティカル面０１に到達すると、それは、空気を中心Ｏ，Ｏ’から遠ざける。空気フローパターンは、第１の噴射２０によって再誘導される、第１の空気供給噴射２０の近くに戻る前に床１１５の高さまで下がって循環する。第１の空気供給噴射２０の推進力は、クリティカル領域の中心から汚染物質を押しのけるようにクリティカル領域の中心Ｏ’で十分なインパルスを提供するように選択され、熱源からのプルーム、人の動き、または関連する領域内で生成される局所的空気噴射などの、他の推進力源が考慮される。加えて、気流速度および熱的快適性状態が、第１の空気供給噴射２０の推進力を制御することによって調整される。図６は、クリティカルな部屋内の空気フローパターンの実施形態を示し、空気の一般的なフローは、図６の実施形態を基にしているとしても、部屋１０内に小さいまたは異なる空気フローパターンがあってよいことに、注意すべきである。例えば、空気フローは、クリティカル面０１と衝突するときに、分割または粉砕されることがあり、それの部分が、床１１５の方へよりも供給１１の方へより導かれ、別の部分が、供給１１へよりも床１１５の方へより導かれるようになっている。

図６は、第２の空気供給噴射２１を示し、第２の空気供給噴射２１は、リング型空気供給装置１１の中心Ｏから出て装置１１から導かれる。それは、部屋１０の周辺の方へ天井１１４に沿って流れ、壁‐床コーナーで壁１１６に沿って転回し、さらに壁‐床コーナーで床１１５に沿ってリング空気供給装置１１の中心の方へ転回する。第２の空気供給噴射２１の推進力は、部屋１０の周辺領域全体を流す安定した空気流パターンを提供するように、および、リング空気供給装置１１の周辺内側のクリティカル領域への第２の空気供給噴射２１の侵入を阻止するように、選択される。従って、第１の空気供給噴射２０と第２の空気供給噴射２１との間の推進力バランスは、第１の空気噴射２０の推進力と第２の空気噴射２１の推進力とが、中心Ｏ，Ｏ’からの安全距離Ｌで等しく、第１の噴射２０と第２の噴射２１との合流逆流が、床１１５の高さから空気供給装置１１の方へ転回するように、選択される。実施形態によると、中心Ｏ，Ｏ’からの水平距離Ｌは、装置１１のリングダクトの周辺の中心Ａに及んでよい。実施形態によると、距離Ｌの最小距離Ｌｍｉｎは、少なくとも１メートルであってよい。しかしながら、最小距離Ｌｍｉｎは、噴射等の推進力によって決まってよい。

図２に示されているような完成したリング空気供給装置は、部屋１０内で制御希釈空気流パターンを達成する例である。別の例は、しかしながら、少し損なわれた結果で適用され得るが、以下の実施形態に記載されているように、従来技術で提示されている解決策よりもさらに制御された環境を依然として達成する。

実施形態によると、理想的な設計条件は、クリティカル領域の中心Ｏ’と空気供給リングの中心Ｏとが、同じ点にある。別の実施形態によると、リングの中心Ｏは、クリティカル領域の中心Ｏ’と異なってよい。この実施形態では、第１の空気供給噴射２０は、リング型空気供給装置１１の異なったセクション用の、第１の噴射２０、第２の噴射２１および第３の噴射２２の異なる設定を有するように調整されてよい。例えば、あるセクションは、空気の強調された流れを有するが、他のセクションは、流れが少なくてもよい。それらは、第１の流体供給噴射２０の推進力および第２の流体供給噴射２１が、クリティカル領域の実質的中心Ｏ’が、第１の流れ２０によって流され、クリティカル領域の実質的中心Ｏ’への第２の流れ２１の侵入が阻止されるように、調整されるように、調整される。

リング型空気供給装置１１は、不完全なリング型空気供給で、例えばリングの中心Ｏの周りに位置する４つ以上の独立した拡散器で、実施されてよく、図５の実施形態に記載されている、第１の空気噴射２０、第２の空気噴射２１、および第３の空気噴射２２での空気供給フローパターンを提供する。これらの空気供給装置は、天井１１４とぴったり重なって、天井１１４の下に、あるいは天井１１４に近い壁１１６に、位置することができる。

図７は、図５に記載される第１の２０、第２の２１、および第３の２２噴射での空気供給フローパターンを提供する２つの細長い空気供給装置１１’での２次元の部屋の空気流パターンの実施形態を示す。これらの空気供給装置１１’は、天井１１４とぴったり重なって、天井１１４の下に、あるいは天井１１４に近い壁１１６に、位置することができる。

実施形態の推進力バランスが調整されるので、実施形態に従ったシステムは、暖房および冷房モードでも、低減またはブースト空気流モードでも、換気された部屋１０内で制御希釈フローパターンを失う相当なリスクなしに、動作できる。

当業者には、多くの変更および変形が、機器および方法になされ得ることが、明らかである。他の実施形態および例示的な実施は、記載されている機器および方法に関する明細書および慣例に基づいて、当業者に明らかになる。目的は、明細書および実施形態は、例示的なものとのみ見なされることであり、次の「特許請求の範囲」およびその同等が、保護の実際の範囲を示すようになっている。

Claims (16)

1. 流体供給装置であって、クリティカルな部屋内の流体の流れのパターンを制御するように構成され、前記クリティカルな部屋は、汚染を被るクリティカル領域を含み、前記流体供給装置は、第１の流体供給ノズルと、第２の流体供給ノズルと、を備え、
   前記第１の流体供給ノズルは、前記クリティカル領域の実質的中心に向かう流体の第１の流れを提供するように第１の流体供給噴射を提供するように構成され、
   前記第２の流体ノズルは、前記部屋の周辺に向かう流体の第２の流れを提供するように第２の流体供給噴射を提供するように構成され、
   第１の流体供給噴射の推進力および第２の流体供給噴射の推進力は、前記クリティカル領域の実質的中心が第１の流れによって流され、前記クリティカル領域の実質的中心への第２の流れの浸透が概ね阻止されるように、調整される、流体供給装置。
2. 請求項１の流体供給装置であって、前記流体供給装置は、中心を避ける環状外形で構成されている、流体供給装置。
3. 請求項１の流体供給装置であって、第１の流れおよび第２の流れは、前記第１の流体供給ノズルおよび前記第２の流体供給ノズルの場所で反対方向を有するように構成されている、流体供給装置。
4. 請求項１〜３のいずれか１項の流体供給装置であって、別の第１の流体供給ノズルを含み、前記別の第１の流体供給ノズルは、前記クリティカル領域の実質的中心に向かう流体の別の第１の流れを提供するように別の第１の流体供給噴射を提供するように構成され、前記第１の流体供給ノズルは、前記装置の第１のセクションユニットになるように構成されており、前記別の第１の流体供給ノズルは、前記装置の第２のセクションユニットになるように構成されている、流体供給装置。
5. 請求項４の流体供給装置であって、第１の流れおよび別の第１の流れは、前記クリティカル領域の実質的中心でインパクトを与えるように構成され、前記クリティカルな部屋の天井およびインパクトは、第１の流れおよび別の第１の流れを、前記クリティカルな部屋の床に向ける、流体供給装置。
6. 請求項５の流体供給装置であって、前記クリティカルな部屋の作業領域およびインパクトは、第１の流れおよび別の第１の流れを、周辺に向けるようになっている、流体供給装置。
7. 請求項１〜６のいずれか１項の流体供給装置であって、前記部屋の壁および天井は、第２の流れを前記部屋の床に向けるように構成されており、壁および床は、第２の流れを前記中心に向けるように構成されており、第１の流れへのインパクトは、第２の流れを、前記クリティカル領域から離れるように再び向けるようになっている、流体供給装置。
8. 請求項１〜７のいずれか１項の流体供給装置であって、流体は空気を含む、流体供給装置。
9. 請求項１〜８のいずれか１項の流体供給装置であって、開口と、流体の流れを導くように構成されている羽根と、を有する複数のノズルを含む、流体供給装置。
10. 請求項１の流体供給装置であって、第１の噴射と第２の噴射との間に構成される第３の流体供給噴射を含む、流体供給装置。
11. 請求項１０の流体供給装置であって、第３の流体供給噴射は、第１の噴射および第２の噴射によって作られる空気流パターンを大きく変えないように、導入される、空気流パターン
12. 請求項１〜１１のいずれか１項の流体供給装置であって、前記装置は、前記クリティカルな部屋の天井の中で、または、前記クリティカルな部屋の天井で、構成されている、流体供給装置。
13. 請求項１の流体供給装置を備えるＨＶＡＣシステムであって、前記ＨＶＡＣシステムは、前記クリティカルな部屋の、暖房と、換気と、空調と、を制御するように構成されている、ＨＶＡＣシステム。
14. 請求項１３のＨＶＡＣシステムであって、前記部屋の周辺領域に位置する排出流体出口を含み、前記排出流体出口は、第２の流体と、第２の流体で希釈された第１の流体と、を排出するように構成されている、ＨＶＡＣシステム。
15. クリティカルな部屋内の流体の流れのパターンを制御する方法であって、前記クリティカルな部屋は、汚染を被るクリティカル領域を含み、前記方法は、
    前記クリティカル領域の実質的中心に向かう流体の第１の流れを提供するように第１の流体供給噴射を吹くことと、
    前記部屋の周辺に向かう流体の第２の流れを提供するように第２の流体供給噴射を吹くことと、
    を含み、
    第１の流体供給噴射の推進力および第２の流体供給噴射の推進力は、前記クリティカル領域の実質的中心が第１の流れによって流され、前記クリティカル領域の実質的中心への第２の流れの浸透が概ね阻止されるように、調整される、方法。
16. 請求項１６の方法であって、第１の噴射と第２の噴射との間に構成される第３の流体供給噴射を吹くことを含む、方法。