JP2016207981A - 基板処理装置及び基板処理方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】基板表面の隆起部の周辺を十分に露光できる。【解決手段】周辺露光ユニットU3は、周縁Wcに沿う隆起部Wfを表面Waに有し、隆起部Wfを含む表面Wa上に被膜が形成されたウェハWの中央部Wmを支持し、ウェハWの周縁部Wdが中央部Wmに対して垂れ下がった状態となるようにウェハWを保持する保持部20と、鉛直軸まわりに保持部20とウェハWとを回転させる回転部25と、保持部20に保持されたウェハWの周縁部Wdに表面Wa側からエネルギー線を照射する照射部40と、を備える。【選択図】図4
Description
本開示は、基板処理装置及び基板処理方法に関する。
特許文献1には、半導体ウェハの表面に形成されたレジスト膜の周縁部を除去するために、基板の周縁部に表面側から光ビームを照射する装置が開示されている。
半導体ウェハ(基板)の薄型化に伴って、周縁に沿う隆起部を表面に有する基板が用いられる場合がある。この隆起部は、薄肉部分を補強するためのものである。このような基板に対し、特許文献1に記載の装置を用いる場合、光ビームが隆起部に遮られ、隆起部周辺を十分に露光できないおそれがある。
本開示は、基板表面の隆起部の周辺を十分に露光できる基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。
本開示に係る基板処理装置は、周縁に沿う隆起部を表面に有し、隆起部を含む表面上に被膜が形成された基板の中央部を支持し、当該基板の周縁部が中央部に対して垂れ下がった状態となるように当該基板を保持する保持部と、鉛直軸まわりに保持部と基板とを回転させる回転部と、保持部に保持された基板の周縁部に表面側からエネルギー線を照射する照射部と、を備える。
基板の表面に隆起部が形成されている場合、特に、隆起部と薄肉部(隆起部に囲まれている部分)との隅部にエネルギー線が照射され難くなる。これに対し、保持部は、基板の周縁部が中央部に対して垂れ下がった状態となるように基板を保持する。これにより、隆起部が基板の外周側に傾く。このため、回転部により保持部と基板とを回転させながら、基板の周縁部にエネルギー線を照射する際に、上記隅部に万遍なくエネルギー線が照射される。従って、隆起部の周辺を十分に露光できる。
保持部は、基板を支持する部分の中心と周縁との距離が可変となるように構成されていてもよい。この場合、基板を支持する部分の中心と周縁との距離に応じて基板の周縁部の垂れ下がり量を調節し、隆起部の周辺をより確実に露光できる。
保持部は、基板の裏面に接触する支持面を有し、支持面は、周縁に対して中央が膨出した曲面であってもよい。この場合、支持面の形状に応じて基板の周縁部の垂れ下がり量を調節し、隆起部の周辺をより確実に露光できる。
基板の周縁部に対向する開口から気体の吐出又は吸引を行うことにより、基板の周縁部の垂れ下がり量を調節する第一調節機構を更に備えてもよい。この場合、第一調節機構によって開口からの気体の吐出量又は吸引量を調節することにより、基板の周縁部の垂れ下がり量を調節し、隆起部の周辺をより確実に露光できる。また、エネルギー線の照射途中においても基板の垂れ下がり量を調節できる。このため、基板の周縁部の垂れ下がり量をより細かく調節することができる。
保持部と照射部との高低差を調節する第二調節機構を更に備えてもよい。基板の周縁部の垂れ下がり量がばらつくと、基板の周縁部と照射部との距離もばらつくこととなる。これに対し、第二調節機構を付加することで、基板の周縁部の垂れ下がり量がばらつく場合であっても、これに応じて保持部と照射部との高低差を調節することで、基板の周縁部と照射部との距離を安定化することができる。これにより、隆起部の周辺をより確実に露光できる。
保持部は、基板の中央部を支持する第一支持部と、第一支持部を囲むように設けられ、基板を支持する第二支持部と、第一支持部及び第二支持部の高低差を調節する第三調節機構と、を有してもよい。この場合、第三調節機構によって第一支持部と第二支持部との高低差を調節することにより、基板の周縁部の垂れ下がり量を調節し、隆起部の周辺をより確実に露光できる。また、エネルギー線の照射途中においても基板の垂れ下がり量を調節できる。このため、基板の周縁部の垂れ下がり量をより細かく調節することができる。
本開示に係る基板処理方法は、周縁に沿う隆起部を表面に有し、隆起部を含む表面上に被膜が形成された基板の中央部を支持し、当該基板の周縁部が中央部に対して垂れ下がった状態となるように当該基板を保持すること、鉛直軸まわりに基板を保持する保持部と基板とを回転させること、保持部に保持された基板の周縁部に表面側からエネルギー線を照射すること、を含む。
本開示によれば、基板表面の隆起部の周辺を十分に露光できる。
以下、添付図面を参照して、実施形態について詳細に説明する。なお、説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
〔基板処理システム〕
まず、本実施形態に係る基板処理システム1の概要を説明する。図1に示すように、基板処理システム1は、塗布・現像装置2と露光装置3とを備える。露光装置3は、レジスト膜の露光処理を行う。塗布・現像装置2は、露光装置3による露光処理の前に、ウェハW(基板)の表面にレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。
まず、本実施形態に係る基板処理システム1の概要を説明する。図1に示すように、基板処理システム1は、塗布・現像装置2と露光装置3とを備える。露光装置3は、レジスト膜の露光処理を行う。塗布・現像装置2は、露光装置3による露光処理の前に、ウェハW(基板)の表面にレジスト膜を形成する処理を行い、露光処理後にレジスト膜の現像処理を行う。
図1〜図3に示すように、塗布・現像装置2は、キャリアブロック4と、処理ブロック5と、インタフェースブロック6とを備える。キャリアブロック4、処理ブロック5及びインタフェースブロック6は、水平方向に並んでいる。
キャリアブロック4は、キャリアステーション12と搬入・搬出部13とを有する。搬入・搬出部13はキャリアステーション12と処理ブロック5との間に介在する。キャリアステーション12は、複数のキャリア11を支持する。キャリア11は、例えば円形の複数枚のウェハWを密封状態で収容し、ウェハWを出し入れするための開閉扉(不図示)を一側面11a側に有する。キャリア11は、側面11aが搬入・搬出部13側に面するように、キャリアステーション12上に着脱自在に設置される。
搬入・搬出部13は、キャリアステーション12上の複数のキャリア11にそれぞれ対応する複数の開閉扉13aを有する。側面11aの開閉扉と開閉扉13aとを同時に開放することで、キャリア11内と搬入・搬出部13内とが連通する。搬入・搬出部13は受け渡しアームA1を内蔵している。受け渡しアームA1は、キャリア11からウェハWを取り出して処理ブロック5に渡し、処理ブロック5からウェハWを受け取ってキャリア11内に戻す。
処理ブロック5は、複数の処理モジュール14,15,16,17を有する。処理モジュール14,15は、複数の液処理ユニットU1と、複数の熱処理ユニットU2と、これらのユニットにウェハWを搬送する搬送アームA3とを内蔵している。処理モジュール16は、液処理ユニットU1と、熱処理ユニットU2と、ウェハWの周縁部を露光する周辺露光ユニットU3と、これらのユニットにウェハWを搬送する搬送アームA3とを内蔵している。処理モジュール17は、液処理ユニットU1と、熱処理ユニットU2と、これらのユニットにウェハWを搬送する搬送アームA3と、これらのユニットを経ずにウェハWを搬送する直接搬送アームA6と内蔵している。液処理ユニットU1は、各種の処理液をウェハWの表面に供給する。熱処理ユニットU2は、例えば熱板によりウェハWを加熱し、加熱後のウェハWを例えば冷却板により冷却して熱処理を行う。
処理モジュール14は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2によりウェハWの表面上に下層膜を形成する。処理モジュール14の液処理ユニットU1は、処理液の一例として、下層膜形成用の液体をウェハW上に塗布する。処理モジュール14の熱処理ユニットU2は、下層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、液体の塗布により形成された液膜を硬化させるための加熱処理が挙げられる。
処理モジュール15は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2により下層膜上にレジスト膜を形成する。処理モジュール15の液処理ユニットU1は、処理液の一例として、レジスト膜形成用の液体を下層膜の上に塗布する。処理モジュール15の熱処理ユニットU2は、レジスト膜の形成に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、液体の塗布により形成された液膜を硬化させるための加熱処理が挙げられる。
処理モジュール16は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2によりレジスト膜上に上層膜を形成する。処理モジュール16の液処理ユニットU1は、処理液の一例として、上層膜形成用の液体をレジスト膜の上に塗布する。処理モジュール16の熱処理ユニットU2は、上層膜の形成に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、液体の塗布により形成された液膜を硬化させるための加熱処理が挙げられる。処理モジュール16は、周辺露光ユニットU3によりウェハWの周縁部にエネルギー線を照射する。
処理モジュール17は、液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2により、露光後のレジスト膜の現像処理を行う。処理モジュール17の液処理ユニットU1は、露光済みのレジスト膜を現像する液処理を行う。処理モジュール17の液処理ユニットU1は、処理液の一例として、現像液をウェハW上に塗布する。更にこの液処理ユニットU1は、処理液の一例として、リンス液をウェハW上に供給することで、レジスト膜の溶解成分を現像液と共に洗い流す。熱処理ユニットU2は、現像処理に伴う各種熱処理を行う。熱処理の具体例としては、現像処理前の加熱処理(PEB:Post Exposure Bake)、現像処理後の加熱処理(PB:Post Bake)等が挙げられる。
処理ブロック5内におけるキャリアブロック4側には棚ユニットU10が設けられている。棚ユニットU10は、床面から処理モジュール16に亘るように設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。棚ユニットU10の近傍には昇降アームA7が設けられている。昇降アームA7は、棚ユニットU10のセル同士の間でウェハWを昇降させる。
処理ブロック5内におけるインタフェースブロック6側には棚ユニットU11が設けられている。棚ユニットU11は床面から処理モジュール17の上部に亘るように設けられており、上下方向に並ぶ複数のセルに区画されている。
インタフェースブロック6は、受け渡しアームA8を内蔵しており、露光装置3に接続される。受け渡しアームA8は、棚ユニットU11に配置されたウェハWを露光装置3に渡し、露光装置3からウェハWを受け取って棚ユニットU11に戻す。
このように構成された塗布・現像装置2の各構成要素は、概ね次の手順で塗布・現像処理を実行する。まず、受け渡しアームA1がキャリア11内のウェハWを棚ユニットU10に搬送する。このウェハWを、昇降アームA7が処理モジュール14用のセルに配置し、処理モジュール14の搬送アームA3が処理モジュール14の各ユニットに搬送する。処理モジュール14の液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2は、搬送アームA3により搬送されたウェハWの表面上に下層膜を形成する。下層膜の形成が完了すると、搬送アームA3がウェハWを棚ユニットU10に戻す。
このウェハWを、昇降アームA7が処理モジュール15用のセルに配置し、処理モジュール15の搬送アームA3が処理モジュール15の各ユニットに搬送する。処理モジュール15の液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2は、搬送アームA3により搬送されたウェハWの下層膜上にレジスト膜を形成する。レジスト膜の形成が完了すると、搬送アームA3がウェハWを棚ユニットU10に戻す。
このウェハWを、昇降アームA7が処理モジュール16用のセルに配置し、処理モジュール16の搬送アームA3が処理モジュール16の各ユニットに搬送する。処理モジュール16の液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2は、搬送アームA3により搬送されたウェハWのレジスト膜上に上層膜を形成する。処理モジュール16の周辺露光ユニットU3は、搬送アームA3により搬送されたウェハWの周縁部を露光する。上層膜の形成及び周縁部の露光が完了すると、搬送アームA3がウェハWを棚ユニットU10に戻す。
このウェハWを、昇降アームA7が処理モジュール17用のセルに配置し、直接搬送アームA6が棚ユニットU11に搬送する。このウェハWを受け渡しアームA8が露光装置3に送り出す。露光装置3における露光処理が完了すると、受け渡しアームA8がウェハWを露光装置3から受け入れ、棚ユニットU11に戻す。
このウェハWを、処理モジュール17の搬送アームA3が処理モジュール17の各ユニットに搬送する。処理モジュール17の液処理ユニットU1及び熱処理ユニットU2は、搬送アームA3により搬送されたウェハWのレジスト膜の現像処理及びこれに伴う熱処理を行う。これらの処理が完了すると、搬送アームA3はウェハWを棚ユニットU10に搬送する。このウェハWを、昇降アームA7が受け渡し用のセルに配置し、受け渡しアームA1がキャリア11内に戻す。以上で、塗布・現像処理が完了する。
〔周辺露光ユニット〕
続いて、基板処理装置の一例として、周辺露光ユニットU3について詳細に説明する。この説明に先立って、周辺露光ユニットU3による処理の対象となるウェハWについて説明する。
続いて、基板処理装置の一例として、周辺露光ユニットU3について詳細に説明する。この説明に先立って、周辺露光ユニットU3による処理の対象となるウェハWについて説明する。
図4に示すように、ウェハWは、保持部20に保持されており、平面視で略円形を呈する。ウェハWは、周縁Wcに沿う隆起部Wfを表面Waに有する。一例として、隆起部Wfは、ウェハWの全周に亘って形成されている。以下、ウェハWにおいて隆起部Wfに囲まれた部分を薄肉部Weという。隆起部Wf及び薄肉部Weは、例えば研削等の除去加工により形成されている。
ウェハWの直径に制限はないが、具体例として8インチが挙げられる。薄肉部WeにおけるウェハWの厚さは例えば20μm〜200μmであり、具体的には例えば100μmである。隆起部WfにおけるウェハWの厚さは例えば750μm〜800μmである。隆起部Wfを含むウェハWの表面Wa上には、被膜の一例として、上述したレジスト膜等が形成されている。
周辺露光ユニットU3は、保持部20と、回転部25と、照射部40と、制御部50とを備える。
保持部20は、ウェハWの中央部Wmを支持し、例えば吸着等によって保持する。保持部20は、ウェハWの裏面Wbに接触する支持面20aを有する。ウェハWのうち保持部20により支持される領域(支持面20aに接触する領域)Wjは、薄肉部Weの全域に比べて小さく、隆起部Wfより内側に位置している。領域Wjの直径は、例えば30mm〜80mmであってもよい。
回転部25は、例えばモータ等の動力源によって、保持部20を鉛直な回転軸まわりに回転させる。保持部20が回転すると、これに保持されたウェハWも共に回転する。
照射部40はウェハWの周縁部(周縁Wc及びその近傍部分)Wdの上方に配置されている。照射部40はエネルギー線を下方に出射する。一例として、照射部40はUVランプを有し、紫外線を出射する。
制御部50は、搬送アームA3、保持部20、回転部25、及び照射部40を制御する。制御部50は、例えば、一つ又は複数の制御用コンピュータにより構成される。この場合、制御部50のハードウェア構成は、必ずしもプログラマブルなコンピュータに限られない。例えば、制御部50少なくとも一部は、その機能に特化した電気回路により構成されていてもよいし、当該電気回路を集積したASIC(Application Specific Integrated Circuit)により構成されていてもよい。
〔周辺露光手順〕
続いて、基板処理方法の一例として、周辺露光ユニットU3による周辺露光手順について説明する。図5に示すように、周辺露光ユニットU3は、まずステップS01,S02を順に実行する。ステップS01では、制御部50が、ウェハWを保持部20上に配置するように搬送アームA3を制御する。ステップS02では、制御部50がウェハWを保持するように保持部20を制御する。これにより、ウェハWが保持部20上に保持される。上述したように、保持部20は、ウェハWの中央部Wmを支持する。このため、保持部20により保持されないウェハWの周縁部Wdが中央部Wmに対して垂れ下がる(図4参照)。
続いて、基板処理方法の一例として、周辺露光ユニットU3による周辺露光手順について説明する。図5に示すように、周辺露光ユニットU3は、まずステップS01,S02を順に実行する。ステップS01では、制御部50が、ウェハWを保持部20上に配置するように搬送アームA3を制御する。ステップS02では、制御部50がウェハWを保持するように保持部20を制御する。これにより、ウェハWが保持部20上に保持される。上述したように、保持部20は、ウェハWの中央部Wmを支持する。このため、保持部20により保持されないウェハWの周縁部Wdが中央部Wmに対して垂れ下がる(図4参照)。
次に、周辺露光ユニットU3はステップS03を実行する。ステップS03では、制御部50が、保持部20の回転を開始するように回転部25を制御する。これにより、ウェハWが鉛直軸まわりに回転する。
次に、周辺露光ユニットU3はステップS04を実行する。ステップS04では、制御部50が、エネルギー線の出射を開始するように照射部40を制御する。これにより、ウェハWの周縁部Wdにエネルギー線が照射される。ウェハWは鉛直軸まわりに回転しているので、エネルギー線は周縁部Wdの全周に亘って照射される。
上述したように、ウェハWの周縁部Wdは中央部Wmに対して垂れ下がっている。これにより、隆起部WfがウェハWの外周側に傾く。図6に示すように、例えば、ウェハWの周縁部Wdが中央部Wmに対して垂れ下がり、水平面に対して角度θで傾いている場合、隆起部WfはウェハWの外周側に角度θで傾く。このため、隆起部Wfと薄肉部Weとの隅部Wgにもエネルギー線UVが万遍なく照射される。
次に、周辺露光ユニットU3はステップS05を実行する。ステップS05では、制御部50が、所定時間の経過を待機する。所定時間は、必要な露光量に応じて適宜設定される。所定時間の経過により、ウェハWの周縁部Wdが十分に露光される。
次に、周辺露光ユニットU3はステップS06〜S08を順に実行する。ステップS06では、制御部50が、エネルギー線UVの照射を終了するように照射部40を制御する。ステップS07では、制御部50が、ウェハWの回転を終了するように回転部25を制御する。ステップS08では、制御部50が、ウェハWの保持を解除するように保持部20を制御し、保持部20上からウェハWを搬出するように搬送アームA3を制御する。以上で周辺露光手順が完了する。
〔本実施形態の効果〕
以上に説明したように、周辺露光ユニットU3は、周縁Wcに沿う隆起部Wfを表面Waに有し、隆起部Wfを含む表面Wa上に被膜が形成されたウェハWの中央部Wmを支持し、ウェハWの周縁部Wdが中央部Wmに対して垂れ下がった状態となるようにウェハWを保持する保持部20と、鉛直軸まわりに保持部20とウェハWとを回転させる回転部25と、保持部20に保持されたウェハWの周縁部Wdに表面Wa側からエネルギー線UVを照射する照射部40とを備える。
以上に説明したように、周辺露光ユニットU3は、周縁Wcに沿う隆起部Wfを表面Waに有し、隆起部Wfを含む表面Wa上に被膜が形成されたウェハWの中央部Wmを支持し、ウェハWの周縁部Wdが中央部Wmに対して垂れ下がった状態となるようにウェハWを保持する保持部20と、鉛直軸まわりに保持部20とウェハWとを回転させる回転部25と、保持部20に保持されたウェハWの周縁部Wdに表面Wa側からエネルギー線UVを照射する照射部40とを備える。
ウェハWの表面Waに隆起部Wfが形成されている場合、特に、隆起部Wfと薄肉部Weとの隅部Wgにエネルギー線UVが照射され難くなる。これに対し、保持部20は、ウェハWの周縁部Wdが中央部Wmに対して垂れ下がった状態となるようにウェハWを保持する。これにより、隆起部WfがウェハWの外周側に傾く。このため、回転部25により保持部20とウェハWとを回転させながら、ウェハWの周縁部Wdにエネルギー線UVを照射する際に、隅部Wgに万遍なくエネルギー線UVが照射される。従って、隆起部Wfの周辺を十分に露光できる。
保持部20は、ウェハWを支持する部分の中心と周縁との距離が可変となるように構成されていてもよい。図7に例示する保持部20は、交換可能な複数の支持部材21,22を有している。支持部材21,22は保持部20の支持面20aをなし、ウェハWを支持する。支持部材21,22の外径は互いに異なっており、支持部材22の外径が支持部材21の外径よりも大きい。このため、支持部材21,22を交換することにより、ウェハWを支持する部分の中心Woと周縁Wlとの距離Lが可変となる。支持部材21がウェハWを支持する場合の垂れ下がり量D1は、支持部材22がウェハWを支持する場合の垂れ下がり量D2よりも大きい。このように、距離Lに応じてウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量を調節し、隆起部Wfの周辺をより確実に露光できる。
支持面20aは、当該支持面20aの周縁に対して中央が膨出した曲面であってもよい。図8に例示する保持部20は、交換可能な複数の支持部材23,24を有している。支持部材23,24の上面23a,24aは保持部20の支持面20aをなす。上面23a,24aは、いずれも周縁に対して中央が膨出した曲面である。支持部材23,24の上面23a,24aの形状は互いに異なっており、上面23aの膨らみは上面24aの膨らみに比べて大きい。このため、支持部材23,24を交換することにより、支持面20aの形状が可変となる。上面23aに支持されるウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量D3は、上面24aに支持されるウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量D4に比べて大きい。このように、支持面20aの形状に応じてウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量を調節し、隆起部Wfの周辺をより確実に露光できる。
周辺露光ユニットU3は、ウェハWの周縁部Wdに対向する開口から気体の吐出又は吸引を行うことにより、ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量を調節する第一調節機構を更に備えていてもよい。図9に例示する第一調節機構31は、吸引ノズル31aと、ブロアノズル31bとを有する。吸引ノズル31a及びブロアノズル31bの開口は、いずれもウェハWの周縁部Wdに対向している。吸引ノズル31aは、例えば真空ポンプ等に接続されている。ブロアノズル31bは、例えばブロア等に接続されている。吸引ノズル31aはウェハWの表面Wa側に配置されており、照射部40の周辺に固定されている。ブロアノズル31bはウェハWの裏面Wb側に配置されており、吸引ノズル31aに対応する位置に固定されている。このような構成を採用する場合、吸引ノズル31aからの気体の吸引により周縁部Wdの上部を減圧し、ブロアノズル31bからの気体の吐出により周縁部Wdの下部を加圧することにより、ウェハWの垂れ下がり量を小さくできる。このように、第一調節機構31によって開口からの気体の吐出量又は吸引量を調節することにより、ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量を調節し、隆起部Wfの周辺をより確実に露光できる。また、エネルギー線UVの照射途中においてもウェハWの垂れ下がり量を調節できる。このため、ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量をより細かく調節することができる。
なお、この構成は一例であり、吸引ノズル31aがウェハWの裏面Wb側に配置され、ブロアノズル31bがウェハWの表面Wa側に配置されていてもよい。吸引ノズル31a及びブロアノズル31bが同じ側に配置されていてもよい。第一調節機構31は、吸引ノズル31a及びブロアノズル31bのいずれか一方のみを有するものであってもよい。
周辺露光ユニットU3は、保持部20と照射部40との高低差を調節する第二調節機構を更に備えてもよい。第二調節機構の一例として、周辺露光ユニットU3は、保持部20の高さを調節する昇降部30を更に備えてもよい(図10参照)。昇降部30は、例えばモータ又はエアシリンダ等を動力源として回転部25及び保持部20を昇降させる。
ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量がばらつくと、周縁部Wdと照射部40との距離もばらつくこととなる。これに対し、昇降部30を付加することで、周縁部Wdの垂れ下がり量がばらつく場合であっても、これに応じて保持部20と照射部40との高低差を調節することで、周縁部Wdと照射部40との距離を安定化することができる(図10参照)。
このような調節を実現するために、周辺露光ユニットU3は、図10に示すように周縁部Wdの垂れ下がり量に関する情報を検出する距離センサSを更に備えてもよい。距離センサSは、例えばレーザ変位計等の非接触式のセンサであり、照射部40の周辺に固定されている。制御部50は、距離センサSによる検出値に応じて昇降部30を制御するように構成されていてもよい。例えば制御部50は、周縁部Wdの垂れ下がり量が大きくなるのに応じて保持部20を上昇させるように昇降部30を制御してもよい。
なお、第二調節機構は保持部20と照射部40との高低差を調節するものであればよいので、保持部を昇降させる昇降部30に限られない。例えば第二調節機構は、保持部20に代えて照射部40を昇降させるものであってもよい。
保持部20は、図11に示すように、ウェハWの中央部Wmを支持する第一支持部61と、第一支持部61を囲むように設けられ、ウェハWを支持する第二支持部62と、第一支持部61及び第二支持部62の高低差を調節する第三調節機構33とを有していてもよい。第三調節機構33は、例えばモータやエアシリンダ等の動力源によって、第二支持部62を昇降させる。
図12に示すように、第一支持部61の位置を基準にして第二支持部62の位置を低くすると、ウェハWの垂れ下がり量が大きくなる。このように、第三調節機構33によって第一支持部61と第二支持部62の高低差を調節することにより、ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量を調節し、隆起部Wfの周辺をより確実に露光できる。また、エネルギー線UVの照射途中においてもウェハWの垂れ下がり量を調節できる。このため、ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量をより細かく調節することができる。
なお、図9及び図11の構成において、周辺露光ユニットU3は上記距離センサSを更に備えてもよい。制御部50は、距離センサSによる検出値に応じて第一調節機構31又は第三調節機構33を制御するように構成されていてもよい。例えば制御部50は、ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量が大きくなるのに応じて、吸引ノズル31aからの気体の吸引及びブロアノズル31bからの気体の吐出の少なくとも一方を実行するように制御してもよく、ウェハWの周縁部Wdの垂れ下がり量が大きくなるのに応じて、第二支持部62を上昇させるように第三調節機構33を制御してもよい。
なお、第二調節機構は第一支持部61と第二支持部62との高低差を調節するものであればよいので、第二支持部62に代えて第一支持部61を昇降させるものであってもよい。
以上、実施形態について説明してきたが、本発明は必ずしも上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、周辺露光ユニットU3は、レジスト膜の形成後にウェハWの周縁部Wdを露光できるように配置されていればよいので、必ずしも処理モジュール16に配置されていなくてもよい。例えば周辺露光ユニットU3は、処理モジュール15又はインタフェースブロック6等に配置されていてもよい。
また、周辺露光ユニットU3は、ウェハWを回転させる回転部25に代えて、ウェハWの周縁Wcに沿って照射部40を移送する機構を備えていてもよい。
塗布・現像装置2の周辺露光ユニットU3として例示した構成は、半導体ウェハ以外の基板を処理対象とする装置にも適用可能である。処理対象の基盤としては、例えばガラス基板、マスク基板、FPD(Flat Panel Display)基板等が挙げられる。
U3…周辺露光ユニット、W…ウェハ、Wa…表面、Wc…周縁、Wd…周縁部、Wm…中央部、Wf…隆起部、20…保持部、25…回転部、40…照射部。
Claims (7)
- 周縁に沿う隆起部を表面に有し、前記隆起部を含む前記表面上に被膜が形成された基板の中央部を支持し、当該基板の周縁部が中央部に対して垂れ下がった状態となるように当該基板を保持する保持部と、
鉛直軸まわりに前記保持部と前記基板とを回転させる回転部と、
前記保持部に保持された前記基板の周縁部に前記表面側からエネルギー線を照射する照射部と、を備える基板処理装置。 - 前記保持部は、前記基板を支持する部分の中心と周縁との距離が可変となるように構成されている、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記保持部は、前記基板の裏面に接触する支持面を有し、
前記支持面は、周縁に対して中央が膨出した曲面である、請求項2に記載の基板処理装置。 - 前記基板の周縁部に対向する開口から気体の吐出又は吸引を行うことにより、前記基板の周縁部の垂れ下がり量を調節する第一調節機構を更に備える、請求項1〜3のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記保持部と前記照射部との高低差を調節する第二調節機構を更に備える、請求項1〜4のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 前記保持部は、前記基板の中央部を支持する第一支持部と、前記第一支持部を囲むように設けられ、前記基板を支持する第二支持部と、前記第一支持部及び前記第二支持部の高低差を調節する第三調節機構と、を有する、請求項1〜5のいずれか一項に記載の基板処理装置。
- 周縁に沿う隆起部を表面に有し、前記隆起部を含む前記表面上に被膜が形成された基板の中央部を支持し、当該基板の周縁部が中央部に対して垂れ下がった状態となるように当該基板を保持すること、
鉛直軸まわりに前記基板を保持する保持部と前記基板とを回転させること、
前記保持部に保持された前記基板の周縁部に前記表面側からエネルギー線を照射すること、を含む、基板処理方法。
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