JP2013160804A - 周縁露光装置、周縁露光方法及び記憶媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】円形のウエハWを回転ステージ11に保持し、ウエハWの周縁の露光を行うに当たって、ウエハWの面と空間を介して対向するガイド面部46を設け、前記空間にガイド面部46に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部46とウエハWとの間に真空吸引力を発生させるベルヌーイ効果を利用して、基板の周縁部を水平に維持するようにしている。このため、回転ステージ11の回転軸12の軸ぶれやウエハWの反りにかかわらず、ウエハWの周縁部において予定している領域だけに露光を行うことができ、薄膜の周縁における盛り上がりなどの不具合を抑えることができる。
【選択図】図3
Description
前記基板を水平に保持して当該基板の鉛直軸周りに回転させる回転台と、
前記回転台に保持された基板の表面の周縁部に向けて露光用の光を照射する露光部と、
前記回転台を回転駆動する駆動機構と、
前記回転台に保持された基板の周縁部を水平に維持するために当該基板を非接触で吸引する非接触吸引機構と、を備え、
前記非接触吸引機構は、基板の面と空間を介して対向するガイド面部と、前記空間にガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させるためのガス吐出部と、を備え、
前記露光部は、前記非接触吸引機構により基板が吸引された状態にて露光を行うことを特徴とする。
上述の周縁露光装置を用い、
基板を回転台に水平に保持させる工程と、
次いで前記基板の面とガイド面部との間の空間に、ガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させ、これにより基板の周縁部を水平に維持する工程と、
前記基板の周縁部を水平に維持した状態で、露光部から基板の周縁部に光を照射して露光する工程と、
前記回転台を回転させて前記基板の周縁部を順次前記光の照射領域に移動させる工程と、を含むことを特徴とする。
前記コンピュータプログラムは、上述の周縁露光方法を実行するようにステップ群が組み込まれていることを特徴とする。
本発明の実施の形態に係る周縁露光装置は、図1〜3に示すように直方体の基台1を備えており、基台1の上面には、左右の縁に沿って突壁が形成されていると共に、左右方向の中央部位に基台1の長さ方向(X方向)に沿って伸びるガイド機構15が設けられ、このガイド機構15に沿って移動するようにステージユニット10が設けられている。このステージユニット10は、ガイド機構15に沿って移動する移動部14と、この移動部14に設けられたモータを含む回転機構13と、この回転機構13により鉛直軸周りに回転する回転軸12(図3参照)と、この回転軸12の上部に設けられ、バキュームチャックを有する回転ステージ11(回転台)と、を備えている。
基台1の奥側における左右方向の中央部の上方には、露光部2の光学系部材5が設けられると共に、基台1の奥側において手前側から見て右側には、ウエハWの周縁を光学的に検出する、発光部及び受光部からなる周縁検出部3が配置されている。そして光学系部材5の光照射領域9と周縁検出部3の光軸とは、回転ステージ11が処理位置に置かれたときに当該回転ステージ11に保持されているウエハWの周縁部の通過領域を上下に横切るように設定されている。受光部31は例えばウエハWの径方向に配列された受光素子群により構成され、受光素子群からの信号によりウエハWの周縁の位置が判る。
傾斜面33を備えると共に、傾斜面33に臨む環状凸部49の内周面にガスが噴出する開口部61が形成されている。
ウエハWの水平性が高い状態で周縁露光処理が行われる。
第2の実施の形態として、ベルヌーイチャックをマスク部52に組み合わせて、処理位置に搬送されたウエハWの周縁部の高さ、あるいは姿勢を調整するように構成してもよい。図16は、このような実施形態を示しており、この例では扁平な逆円錐台形状の本体の中央部に上下に(厚さ方向に)延びるように、光照射路(スリット)を形成する孔部44を形成し、本体の下面側をベルヌーイチャックのガイド面部46を形成するように構成している。即ちこの例は、既述の図5〜図7に記載したベルヌーイチャック4を逆さまに配置し、ガス供給路42をマスク40の光照射路(スリット)として兼用している。そして光学系部材5からの光が孔部44を透過することができるように、孔部44の上部に透過性部材例えばガラスからなる上部側透過窓63を気密に嵌合すると共に、通気室60とガイド面部46との間における、ガス供給路42の延長部位にも同様に下部側透過窓43を設けた構造としている。下部側透過窓43は、光照射領域9の形状に応じた矩形に形成されている。更にガス供給路42における上部側の透過窓63の直ぐ下方側にその一端側が開口するように、本体内にガス流路64を形成し、このガス流路64の他端側にガス供給管62を接続するようにしている。またウエハWの非接触吸着を行うに当たり、ガイド面部46とウエハWの間に形成した渦気流がウエハWの端部から漏れることを抑制するために、図17に示すように、ウエハWの周縁部の形状に沿うように形成された補助部材45をその上面である補助面部が、ウエハWの表面と同等の高さとなるように設置されている。
このように露光装置に、この例ではマスク部40にベルヌーイチャックを組み合わせることにより、第1の実施の形態と同様にウエハWの周縁部とマスク部との位置関係が安定し、良好な周縁露光処理を行うことができる。
第3の実施の形態は、第2の実施の形態で用いたマスク部40がウエハWの周縁部の高さに追従して、その高さ位置を変更するように構成している。例えば図21に示すように、マスク部40を垂直なガイド部材71により被ガイド部71aを介してガイドするように構成する。そしてマスク部40を吊り下げ部材であるワイヤー72の一端に吊り下げると共にワイヤー72の他端側に滑車73a、73bを介してカウンターウェイト74を設けることにより、マスク部40を僅かな力で上下動可能に構成する。このように構成した場合には、処理位置にウエハWを移動させて、ガスを吐出させて渦気流を形成して、非接触吸着を行うと、ウエハWの周縁部の高さ位置に応じてマスク部40が追従するため、従来よりはウエハWの周縁部とマスク部40との位置関係が安定する。このため光照射領域9から外れて露光されることを抑制することができる。
また他の実施の形態として、ベルヌーイチャック4を用いずに、光学系部材5の高さを調整できるように構成して、周縁部の光照射領域9の誤差を抑制しても良い。例えば周縁検出部3にレーザー変位計を設置して、ウエハWの水平方向の位置の検出に加えて、ウエハWを回転させた際の周縁部の高さを測定して、制御部に設けたメモリに記憶する。光学系部材5に高さ調節機構を設けて、制御部のCPUによりプログラムを読み出して、メモリに記憶したウエハWの周縁部の高さのデータに合わせて、光学系部材5の高さ位置を変更して、光の照射される高さを変更しながら、ウエハWを回転させて周縁露光処理を行っても同様の効果が得られる。
2 露光部
3 周縁検出部
4 ベルヌーイチャック
5 光照射部
9 光照射領域
11 回転ステージ
13 回転機構
14 移動部
40、52 マスク部
41 ガス吐出口
46 ガイド面部
W ウエハ
Claims (7)
- 感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光装置において、
前記基板を水平に保持して当該基板の鉛直軸周りに回転させる回転台と、
前記回転台に保持された基板の表面の周縁部に向けて露光用の光を照射する露光部と、
前記回転台を回転駆動する駆動機構と、
前記回転台に保持された基板の周縁部を水平に維持するために当該基板を非接触で吸引する非接触吸引機構と、を備え、
前記非接触吸引機構は、基板の面と空間を介して対向するガイド面部と、前記空間にガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させるためのガス吐出部と、を備え、
前記露光部は、前記非接触吸引機構により基板が吸引された状態にて露光を行うことを特徴とする周縁露光装置。 - 前記回転台に保持された基板の周縁を光学的に検出する周縁検出部と、この周縁検出部の検出結果に基づいて前記回転台の水平方向の位置を調整する位置調整機構と、を備えたことを特徴とする請求項1記載の周縁露光装置。
- 前記非接触吸引機構を、基板の周縁部を水平に維持させるための処理位置と、この処理位置よりも基板から離れた待機位置と、の間で昇降させるための昇降機構を備えたことを特徴とする請求項1または2記載の周縁露光装置。
- 前記非接触吸引機構は、前記露光部に組み合わせて設けられると共に、当該露光部の光が前記ガイド面部を透過するように構成され、
前記回転台に保持された基板の外側における前記ガイド面部と対向する位置には、その内周面が前記基板の周縁に近接して対向し、当該ガイド面部との間に渦気流の一部が形成されるように補助面部を設けたことを特徴とする請求項1ないし3のいずれか一項に記載の周縁露光装置。 - 感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光方法において、
請求項1に記載の周縁露光装置を用い、
基板を回転台に水平に保持させる工程と、
次いで前記基板の面とガイド面部との間の空間に、ガイド面部に沿った渦気流を形成して当該ガイド面部と基板との間に真空吸引力を発生させ、これにより基板の周縁部を水平に維持する工程と、
前記基板の周縁部を水平に維持した状態で、露光部から基板の周縁部に光を照射して露光する工程と、
前記回転台を回転させて前記基板の周縁部を順次前記光の照射領域に移動させる工程と、を含むことを特徴とする周縁露光方法。 - 前記基板の周縁部を水平に維持する工程は、前記ガイド面部を待機位置から上下方向に移動させて当該待機位置よりも基板に接近させた状態で行われることを特徴とする請求項5記載の周縁露光方法。
- 感光性の薄膜が形成された円形の基板の表面の周縁部に対して露光処理を行う周縁露光装置に用いられるコンピュータプログラムを記憶した記憶媒体であって、
前記コンピュータプログラムは、請求項5または6に記載された周縁露光方法を実行するようにステップ群が組み込まれていることを特徴とする記憶媒体。
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