JP2016207595A - 加熱装置 - Google Patents
加熱装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016207595A JP2016207595A JP2015091081A JP2015091081A JP2016207595A JP 2016207595 A JP2016207595 A JP 2016207595A JP 2015091081 A JP2015091081 A JP 2015091081A JP 2015091081 A JP2015091081 A JP 2015091081A JP 2016207595 A JP2016207595 A JP 2016207595A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- heating
- plate
- back surface
- temperature
- heating plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Resistance Heating (AREA)
Abstract
【解決手段】 加熱体50に、上下に長い棒状体を成し、通電によって発熱する抵抗発熱体が端部51に設けられたものを多数用いる。加熱用プレート30の裏面34に点在して設定された多数の箇所に凹部37を設け、各凹部37に各加熱体50における端部51を嵌り込ませ、それぞれ加熱できるように、加熱用プレート30の裏面34側に多数の加熱体50を設けた。各加熱体50による加熱箇所が端部(スポット)51であるから、その発熱による加熱用プレート30の表面に沿う長手方向での温度ムラは生じないから、多数の加熱体50の温度制御により、該表面を温度ムラなく一定温度に維持できる。
【選択図】 図1
Description
前記加熱体には、通電によって発熱する抵抗発熱体が端部に設けられた加熱体が多数用いられ、
前記加熱用プレートの裏面において点在して設定された多数の箇所を、前記多数の加熱体における前記端部でもって、それぞれ加熱するように、該加熱用プレートの裏面側に前記多数の加熱体が設けられていることを特徴とする。
請求項2に記載の本発明は、前記加熱用プレートの裏面において点在して設定された多数の箇所が、前記加熱用プレートの裏面のうち、前記表面における前記被加熱物の接触面領域に対応する領域を包囲して含む包囲領域内において点在して設定された多数の箇所であることを特徴とする請求項1に記載の加熱装置である。
請求項4に記載の本発明は、前記加熱用プレートの裏面のうち、それぞれの前記端部が接触する箇所には、該端部が嵌り込み可能な凹部が設けられており、該端部がこの凹部に嵌り込んで該裏面に接触していることを特徴とする請求項3に記載の加熱装置である。
請求項6に記載の本発明は、前記多数の箇所のうち、その箇所群の最外側に位置して隣接する該箇所相互の間隔が、他の位置において隣接する該箇所相互の間隔よりも小さくされていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の加熱装置である。
請求項7に記載の本発明は、前記加熱体は棒状体をなし、前記抵抗発熱体が該棒状体における先端をなす端部に設けられており、該加熱体が、前記加熱用プレートの裏面に対し、それぞれ、略垂直となる状態で設けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の加熱装置である。
請求項9に記載の本発明は、請求項8に記載の加熱装置において、前記ベース部材と前記加熱用プレートとの間に、前記加熱用プレートと略平行となるように中間プレートが設けられており、前記多数の加熱体は、この中間プレートに個別に設けられた位置決め穴を貫通し、それぞれの加熱体における上下の中間部位がこの位置決め穴にて位置決めされる状態で設けられていることを特徴とする加熱装置である。
13 加熱体取付用の貫通穴
20 支柱
30 加熱用プレート
33 加熱用プレートの表面
34 加熱用プレートの裏面
37 凹部(端部が嵌り込み可能な凹部、加熱用プレートの裏面において点在して設定された多数の箇所)
50 加熱体
51 加熱体の端部
90 中間プレート
93 位置決め穴
100 加熱装置
T 被加熱物の接触面領域
K 被加熱物
Claims (9)
- 被加熱物を接触させて加熱するための平坦な表面を有する加熱用プレートと、この表面を加熱する加熱体とを含んでなる加熱装置であって、
前記加熱体には、通電によって発熱する抵抗発熱体が端部に設けられた加熱体が多数用いられ、
前記加熱用プレートの裏面において点在して設定された多数の箇所を、前記多数の加熱体における前記端部でもって、それぞれ加熱するように、該加熱用プレートの裏面側に前記多数の加熱体が設けられていることを特徴とする加熱装置。 - 前記加熱用プレートの裏面において点在して設定された多数の箇所が、前記加熱用プレートの裏面のうち、前記表面における前記被加熱物の接触面領域に対応する領域を包囲して含む包囲領域内において点在して設定された多数の箇所であることを特徴とする請求項1に記載の加熱装置。
- 前記多数の加熱体は、そのそれぞれの前記端部が加熱用プレートの裏面に接触する状態で設けられていることを特徴とする請求項1又は2のいずれか1項に記載の加熱装置。
- 前記加熱用プレートの裏面のうち、それぞれの前記端部が接触する箇所には、該端部が嵌り込み可能な凹部が設けられており、該端部がこの凹部に嵌り込んで該裏面に接触していることを特徴とする請求項3に記載の加熱装置。
- 前記端部の接触が、各加熱体を前記裏面に向けて弾性的に押し付ける圧接とされていることを特徴とする請求項3又は4のいずれか1項に記載の加熱装置。
- 前記多数の箇所のうち、その箇所群の最外側に位置して隣接する該箇所相互の間隔が、他の位置において隣接する該箇所相互の間隔よりも小さくされていることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の加熱装置。
- 前記加熱体は棒状体をなし、前記抵抗発熱体が該棒状体における先端をなす端部に設けられており、該加熱体が、前記加熱用プレートの裏面に対し、それぞれ、略垂直となる状態で設けられていることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載の加熱装置。
- 前記加熱装置は、ベース部材と、該ベース部材に立設された支柱とを備えると共に、前記加熱用プレートは、該支柱の上端側において分離可能に取り付けられており、前記多数の加熱体が、前記ベース部材に個別に設けられた凹部又は貫通穴にて位置決めされて保持され、前記端部を上にして設けられていることを特徴とする請求項7に記載の加熱装置。
- 請求項8に記載の加熱装置において、前記ベース部材と前記加熱用プレートとの間に、前記加熱用プレートと略平行となるように中間プレートが設けられており、前記多数の加熱体は、この中間プレートに個別に設けられた位置決め穴を貫通し、それぞれの加熱体における上下の中間部位がこの位置決め穴にて位置決めされる状態で設けられていることを特徴とする加熱装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015091081A JP6555922B2 (ja) | 2015-04-28 | 2015-04-28 | 加熱装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015091081A JP6555922B2 (ja) | 2015-04-28 | 2015-04-28 | 加熱装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016207595A true JP2016207595A (ja) | 2016-12-08 |
JP6555922B2 JP6555922B2 (ja) | 2019-08-07 |
Family
ID=57490232
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015091081A Active JP6555922B2 (ja) | 2015-04-28 | 2015-04-28 | 加熱装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6555922B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7074946B1 (ja) * | 2020-12-25 | 2022-05-24 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2022137769A1 (ja) * | 2020-12-25 | 2022-06-30 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2022163444A1 (ja) * | 2021-01-26 | 2022-08-04 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023002861A1 (ja) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023002855A1 (ja) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023026929A1 (ja) * | 2021-08-27 | 2023-03-02 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023032755A1 (ja) * | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023210434A1 (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-02 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001135468A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-18 | Aisin Seiki Co Ltd | ホットプレート装置 |
JP2004071182A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 複合ヒータ |
WO2004089039A1 (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Ibiden Co., Ltd. | 半導体製造・検査装置用ヒータ |
WO2009090816A1 (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Komatsu Ltd. | 基板温度制御装置用ステージ |
JP2015050025A (ja) * | 2013-08-31 | 2015-03-16 | 京セラ株式会社 | セラミックヒータ |
-
2015
- 2015-04-28 JP JP2015091081A patent/JP6555922B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001135468A (ja) * | 1999-10-29 | 2001-05-18 | Aisin Seiki Co Ltd | ホットプレート装置 |
JP2004071182A (ja) * | 2002-08-01 | 2004-03-04 | Ngk Spark Plug Co Ltd | 複合ヒータ |
WO2004089039A1 (ja) * | 2003-03-31 | 2004-10-14 | Ibiden Co., Ltd. | 半導体製造・検査装置用ヒータ |
WO2009090816A1 (ja) * | 2008-01-18 | 2009-07-23 | Komatsu Ltd. | 基板温度制御装置用ステージ |
JP2015050025A (ja) * | 2013-08-31 | 2015-03-16 | 京セラ株式会社 | セラミックヒータ |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP7074946B1 (ja) * | 2020-12-25 | 2022-05-24 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2022137769A1 (ja) * | 2020-12-25 | 2022-06-30 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2022163444A1 (ja) * | 2021-01-26 | 2022-08-04 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
JP7483951B2 (ja) | 2021-01-26 | 2024-05-15 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023002861A1 (ja) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023002855A1 (ja) * | 2021-07-20 | 2023-01-26 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023026929A1 (ja) * | 2021-08-27 | 2023-03-02 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023032755A1 (ja) * | 2021-08-31 | 2023-03-09 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
WO2023210434A1 (ja) * | 2022-04-27 | 2023-11-02 | 京セラ株式会社 | 加熱装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6555922B2 (ja) | 2019-08-07 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6555922B2 (ja) | 加熱装置 | |
TWI752277B (zh) | 靜電夾盤及其製法 | |
JP5203482B2 (ja) | 加熱装置 | |
KR102428060B1 (ko) | 재치대 및 플라즈마 처리 장치 | |
JP2019102638A (ja) | 支持アセンブリ及び支持アセンブリの組立方法 | |
WO2019188681A1 (ja) | 静電チャックヒータ | |
TW202040744A (zh) | 局部加熱之多區域基材支撐座 | |
JP3182120U (ja) | セラミックヒーター | |
US11600510B2 (en) | Electrostatic chuck heater | |
KR102335646B1 (ko) | 온도 조정 장치 | |
JP2010503208A (ja) | 静電チャック支持組立体の熱伝導率を調整する方法 | |
KR102562059B1 (ko) | 열 절연 전기 접촉 프로브 및 가열형 플래튼 어셈블리 | |
JP6290650B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP2014053574A (ja) | 気相成長装置及び気相成長用加熱装置 | |
TW201712790A (zh) | 用於晶圓處理系統的熱管理系統及方法 | |
JP2013055089A (ja) | 静電チャック装置 | |
US20160181132A1 (en) | Apparatus For Improving Temperature Uniformity Of A Workpiece | |
JP2007005353A (ja) | 載置台 | |
TWI690012B (zh) | 具有加熱機制之晶圓座及包含該晶圓座的反應腔體 | |
JP2008251707A (ja) | セラミックスヒーター | |
KR101479052B1 (ko) | 가열 장치 | |
JP6401638B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP5694824B2 (ja) | 加熱装置 | |
JP5684023B2 (ja) | 加熱装置 | |
WO2015194675A1 (ja) | 加熱装置、加熱方法、温度調整機構及び半導体製造装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180124 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20181115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181127 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20190319 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190510 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190611 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190709 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6555922 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |