JP2016198914A - 成形体 - Google Patents
成形体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2016198914A JP2016198914A JP2015079439A JP2015079439A JP2016198914A JP 2016198914 A JP2016198914 A JP 2016198914A JP 2015079439 A JP2015079439 A JP 2015079439A JP 2015079439 A JP2015079439 A JP 2015079439A JP 2016198914 A JP2016198914 A JP 2016198914A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copolymer
- resin
- mold
- fluorine
- ethylene
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C33/00—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor
- B29C33/38—Moulds or cores; Details thereof or accessories therefor characterised by the material or the manufacturing process
- B29C33/40—Plastics, e.g. foam or rubber
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29C—SHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
- B29C59/00—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
- B29C59/02—Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by mechanical means, e.g. pressing
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0002—Lithographic processes using patterning methods other than those involving the exposure to radiation, e.g. by stamping
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2827/00—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material
- B29K2827/12—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material containing fluorine
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2827/00—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material
- B29K2827/12—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material containing fluorine
- B29K2827/14—PVF, i.e. polyvinyl fluoride
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2827/00—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material
- B29K2827/12—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material containing fluorine
- B29K2827/16—PVDF, i.e. polyvinylidene fluoride
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
- B29K—INDEXING SCHEME ASSOCIATED WITH SUBCLASSES B29B, B29C OR B29D, RELATING TO MOULDING MATERIALS OR TO MATERIALS FOR MOULDS, REINFORCEMENTS, FILLERS OR PREFORMED PARTS, e.g. INSERTS
- B29K2827/00—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material
- B29K2827/12—Use of polyvinylhalogenides or derivatives thereof as mould material containing fluorine
- B29K2827/18—PTFE, i.e. polytetrafluorethene, e.g. ePTFE, i.e. expanded polytetrafluorethene
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】表面に凹凸構造を有する、2.0〜20GPaの曲げ弾性率を有する熱可塑性フッ素樹脂をマスターモールド上にエマルジョンあるいはフィルム状で供給し、加熱溶融後、表面硬度を高めるため必要に応じて電子線照射したのち、マスターモールドから剥がすことでレプリカモールドを得る成形体の製造方法。
【選択図】図1
Description
樹脂材料から形成される支持体と、
支持体上に位置するバインダー層と、
バインダー層上に位置し、表面に凹凸構造を有するフッ素含有層と
を有して成り、
フッ素含有層が、熱可塑性フッ素樹脂から形成されている
積層体を提供する。
樹脂材料から形成される支持体と、
支持体上に位置するバインダー層と、
バインダー層上に位置し、表面に凹凸構造を有するフッ素含有層と
を有して成る積層体を提供する。
グラフト率:Dg[%]=(W1−W0)/W0×100
[式中、W0は、グラフト重合前のフッ素含有層の重量であり、W1は、グラフト重合後のフッ素含有層の重量である。]
なお、グラフト率Dgは、基材の全重量で割り付けすることにより算出するため、膜厚に対して、グラフト層がきわめて薄い場合、小さな値となり、0.1%以下の値を示すこともあるが、深さ方向のグラフト鎖の領域は、SEM−EDXやEPMAによる元素分析によっても立証できる。例えば、比重2で、厚さ5mmのシートで30gの重量の樹脂に対して、5μmのパーフルオロポリエーテル基を含むグラフト鎖を導入した場合、フッ素含有層の厚みの0.1%であり、グラフト率は、おおよそ0.1%未満の値を示す。
空気最表面が離型処理されたシリコン、ニッケル金属または石英製のマスターモールドを、フッ素含有フィルムに、ナノインプリント装置を用いて、所定の温度および圧力条件で、例えば250℃、5MPaの圧力で、所定の時間、例えば3分間押しつけることにより、マスターモールドのパターンを正確に反転させたパターン形状を形成することができる。
フッ素含有フィルムを、フィルムロールから連続して押し出しながら、インプリント装置を用いて、空気最表面が離型処理されたシリコン、ニッケル金属、または石英製のマスターモールドを、所定の温度および圧力条件で、例えば50℃〜200℃の温度範囲で、20MPa〜60MPaの圧力で、特に100℃にて40MPaの圧力で、フィルムに接触させて、マスターモールドのパターンを正確に反転させたパターン形状を形成することができる。
(2) 本発明の積層ナノインプリントモールドをゾルゲル材料に対して、熱や紫外光を加えることなく、室温で押し当てる。ゾルゲル材料は、時間経過と共に加水分解・脱水縮合反応を起こし、硬化し、無機層が得られる。
(3) 積層ナノインプリントモールドを、硬化した無機層から剥離して、基板上に転写パターンを有する無機層を得る。
12cmφシリコンからなるマスターモールド(直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nmのピラー形状)に、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)の水分散体(ダイキン工業株式会社製 D−210C)をスピンコートしてコーティングし、380℃で加熱溶融した後、低エネルギー電子線を用いて、窒素雰囲気下で電子線を600kGy照射した(照射条件:加速電圧250kV)。
12cmφシリコンからなるマスターモールド(直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nmのピラー形状)に、パーフルオロアルコキシ共重合体(PFA)の水分散体(ダイキン工業株式会社製)をコーティングし、350℃で加熱溶融した後、低エネルギー電子線を用いて、窒素雰囲気下で電子線を600kGy照射した(照射条件:加速電圧250kV)。次いで、その薄膜上に同様の操作で、パーフルオロアルコキシ共重合体(PFA)の水分散体を30μmになるまでコーティングおよび電子線照射を繰り返し、シリコンからなるマスターモールドからフィルムを剥がして、マスターモールドの微細パターンを正確に反転させたホール形状からなる微細パターンを有するナノインプリント用フィルムモールドを形成した。
12cmφシリコンからなる離型処理されたマスターモールド(直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nm)を、パーフルオロアルコキシ共重合体(PFA)フィルムに、ナノインプリント装置を用いて、パーフルオロポリエーテル系の離型剤で処理した上記マスターモールドのパターンを300℃にて正確に反転させたパターン形状を有するインプリント用フィルムモールドを形成した。さらに、得られたフィルムモールド表面の硬度を高めるために、室温下にて低エネルギー電子線を用いて、窒素雰囲気下で電子線を200kGy照射した(照射条件:加速電圧250kV)。
図2に示すように、試験例3で用いたPFAフィルム130をフィルムロール131から連続して押し出し、インプリント装置133を用いて、パーフルオロポリエーテル系の離型剤で処理したニッケル金属からなるマスターモールド132(直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nm)を、PFAフィルム130に、100℃にて接触させて、PFAフィルム130にパターンを転写した。その後、複数のロール134によって、冷却等の加工を行い、切断機135を用いて所望の大きさに切断し、連続的にインプリント用フィルムモールドを形成した。さらに、得られたフィルムモールド表面の硬度を高めるために、室温下にて低エネルギー電子線を用いて、窒素雰囲気下で電子線を200kGy照射した(照射条件:加速電圧250kV)。
実施例1および2で得られた積層モールドの凹凸面上に光硬化樹脂(商品名PAK−01 東洋合成社製)を0.2ml滴下し、その上にポリカーボネートフィルムをかぶせ、Step & Repeat方式からなる連続式光ナノインプリント装置を用い1.0MPaで押しつけたと同時に紫外線照射(10mW/cm2)を20秒間行うことにより、光硬化樹脂による上記積層モールドとの離型性試験を行った。この離型性試験を連続して行い、225回毎に積層モールド表面の静的接触角(水)を計測した。静的接触角は、接触角測定装置を用いて、水1μLにて実施した。結果を図3に示す。
実施例2および4で得られた積層モールドの曲げ弾性率を、純曲げ試験機で測定した。比較例1として、実施例1で製造したPTFEのフィルムモールド(積層していない)の曲げ弾性率を同様に測定した。結果を表1に示す。
比較例2として、PETフィルムモールド(綜研化学製、直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nm)を用いて、上記試験例と同様に光硬化樹脂によるPETフィルムモールドとの離型性試験を実施した。結果を図3に示す。
比較例3として、従来のパーフルオロポリエーテル系の離型剤で処理した石英からなるマスターモールド(直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nm)を用いて、上記試験例と同様に光硬化樹脂について離型性試験を実施した。結果を図3に示す。
比較例4として、従来のパーフルオロポリエーテル系の離型剤で処理したニッケルからなるマスターモールド(直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nm)を用いて、上記試験例と同様に光硬化樹脂について離型性試験を実施した。結果を図3に示す。
実施例3で得られた積層モールドの上に光硬化樹脂(商品名PAK−01 東洋合成社製)を0.2ml滴下し、その上にポリカーボネートフィルムをかぶせ、Step & Repeat方式からなる連続式光ナノインプリント装置を用い1.0MPaで押しつけたと同時に紫外線照射(10mW/cm2)を20秒間行った。
実施例4で使用した光硬化樹脂の代わりに、ゾルゲル系材料(水素シルセスキオキサン(Hydrogen Silsesquioxane: HSQ))を用い、これをガラス基板上に塗布して、40MPaでインプリントしたところ、ゾルゲル系素材がパターン形成されていることが原子力間顕微鏡(AFM:Atomic Force Microscope)の断面観察にて確認された(直径230nm、ピッチ460nm、深さ200nm)。また、この樹脂製モールドを使用して5ショットの連続インプリントを行った。その結果、転写欠陥が無くインプリントすることができることが確認された。
実施例1および3で得られた積層モールドおよび比較例2のPETフィルムモールド面上に光硬化樹脂(商品名PAK−01 東洋合成社製)を0.2ml滴下し、その上にポリカーボネートフィルムをかぶせ、Step & Repeat方式からなる連続式光ナノインプリント装置を用い1.0MPaで押しつけたと同時に紫外線照射(10mW/cm2)を20秒間行うことにより、光硬化樹脂と上記積層モールドとの離型力を評価した。
131…フィルムロール
132…マスターモールド
133…インプリント装置
133…ロール
133…切断機
Claims (12)
- 表面に凹凸構造を有する熱可塑性フッ素樹脂を有して成る成形体であって、2.0GPa〜20GPaの曲げ弾性率を有する成形体。
- 熱可塑性樹脂が、100℃以上の融点を有し、20質量%以上のフッ素を含有することを特徴とする、請求項1に記載の成形体。
- 熱可塑性フッ素樹脂が、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、パーフルオロアルコキシ共重合体、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、およびビニリデンフルオライド−テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体から選択される1種または2種以上の混合物から形成されていることを特徴とする、請求項1または2に記載の成形体。
- インプリントモールドである、請求項1〜3のいずれか1項に記載の成形体。
- 樹脂材料から形成される支持体と、
支持体上に位置するバインダー層と、
バインダー層上に位置し、表面に凹凸構造を有するフッ素含有層と
を有して成り、
フッ素含有層が、熱可塑性フッ素樹脂から形成されている
積層体。 - 熱可塑性フッ素樹樹脂が、100℃以上の融点を有し、20質量%以上のフッ素を含有することを特徴とする、請求項5に記載の積層体。
- 2.0GPa〜20GPaの曲げ弾性率を有する、請求項5または6に記載の積層体。
- 熱可塑性樹脂が、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、パーフルオロアルコキシ共重合体、エチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体、ポリフッ化ビニル、ポリフッ化ビニリデン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、およびビニリデンフルオライド−テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体から選択される1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項5〜7のいずれか1項に記載の積層体。
- 熱可塑性樹脂が、ポリテトラフルオロエチレン、パーフルオロアルコキシ共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン共重合体、エチレン−テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリフッ化ビニリデンまたはポリクロロトリフルオロエチレンから選択される1種または2種以上の混合物であることを特徴とする、請求項5〜8のいずれか1項に記載の積層体。
- 支持体を形成する樹脂材料が、ポリエチレン、ポロプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体、環状ポリオレフィン、変性ポリオレフィン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリ−(4−メチルペンテン−1)、アイオノマー、アクリル系樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル−スチレン共重合体、ブタジエン−スチレン共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリシクロヘキサンテレフタレート、ポリエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアセタール、ポリフェニレンオキシド、変性ポリフェニレンオキシド、ポリアリレート、芳香族ポリエステル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリフッ化ビニリデン、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、不飽和ポリエステル、シリコーン樹脂およびポリウレタンから選択される1種または2種以上の混合物である、請求項5〜9のいずれか1項に記載の積層体。
- バインダー層が、光硬化性樹脂から形成されている、請求項5〜10のいずれか1項に記載の積層体。
- インプリントモールドである、請求項5〜11のいずれか1項に記載の積層体。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015079439A JP6492904B2 (ja) | 2015-04-08 | 2015-04-08 | 成形体 |
CN201680020697.6A CN107428071A (zh) | 2015-04-08 | 2016-04-04 | 成型体 |
KR1020177020161A KR102004630B1 (ko) | 2015-04-08 | 2016-04-04 | 성형체 |
PCT/JP2016/061011 WO2016163334A1 (ja) | 2015-04-08 | 2016-04-04 | 成形体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015079439A JP6492904B2 (ja) | 2015-04-08 | 2015-04-08 | 成形体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2016198914A true JP2016198914A (ja) | 2016-12-01 |
JP6492904B2 JP6492904B2 (ja) | 2019-04-03 |
Family
ID=57072042
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015079439A Active JP6492904B2 (ja) | 2015-04-08 | 2015-04-08 | 成形体 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6492904B2 (ja) |
KR (1) | KR102004630B1 (ja) |
CN (1) | CN107428071A (ja) |
WO (1) | WO2016163334A1 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021079694A (ja) * | 2019-11-19 | 2021-05-27 | リア・コーポレーションLear Corporation | 丸みを帯びた傾斜を付けたエンボス加工 |
WO2022075316A1 (ja) * | 2020-10-08 | 2022-04-14 | ダイキン工業株式会社 | 成形品およびその製造方法、ダイヤフラムおよびダイヤフラムバルブ |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109177134A (zh) * | 2018-08-15 | 2019-01-11 | 信利光电股份有限公司 | 一种制备扩散片的压印模具和一种扩散片 |
WO2020251056A1 (ja) * | 2019-06-14 | 2020-12-17 | ダイキン工業株式会社 | 電気化学デバイス用被圧縮部材 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008015842A1 (fr) * | 2006-08-03 | 2008-02-07 | Asahi Glass Company, Limited | Procédé permettant de produire un moule |
WO2012018045A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | 綜研化学株式会社 | 樹脂製モールド、その製造方法およびその使用方法 |
JP2015015448A (ja) * | 2012-12-21 | 2015-01-22 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 微細パタン形成用積層体 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4712663B2 (ja) * | 2006-09-29 | 2011-06-29 | 大日本印刷株式会社 | 樹脂製複製版、及びその製造方法 |
KR101565221B1 (ko) * | 2010-12-09 | 2015-11-02 | 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 | 미세 구조 적층체, 미세 구조 적층체의 제작 방법 및 미세 구조체의 제조 방법 |
-
2015
- 2015-04-08 JP JP2015079439A patent/JP6492904B2/ja active Active
-
2016
- 2016-04-04 CN CN201680020697.6A patent/CN107428071A/zh active Pending
- 2016-04-04 WO PCT/JP2016/061011 patent/WO2016163334A1/ja active Application Filing
- 2016-04-04 KR KR1020177020161A patent/KR102004630B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008015842A1 (fr) * | 2006-08-03 | 2008-02-07 | Asahi Glass Company, Limited | Procédé permettant de produire un moule |
WO2012018045A1 (ja) * | 2010-08-06 | 2012-02-09 | 綜研化学株式会社 | 樹脂製モールド、その製造方法およびその使用方法 |
JP2015015448A (ja) * | 2012-12-21 | 2015-01-22 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | 微細パタン形成用積層体 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2021079694A (ja) * | 2019-11-19 | 2021-05-27 | リア・コーポレーションLear Corporation | 丸みを帯びた傾斜を付けたエンボス加工 |
JP7121091B2 (ja) | 2019-11-19 | 2022-08-17 | リア・コーポレーション | 丸みを帯びた傾斜を付けたエンボス加工 |
WO2022075316A1 (ja) * | 2020-10-08 | 2022-04-14 | ダイキン工業株式会社 | 成形品およびその製造方法、ダイヤフラムおよびダイヤフラムバルブ |
JP2022062685A (ja) * | 2020-10-08 | 2022-04-20 | ダイキン工業株式会社 | 成形品およびその製造方法、ダイヤフラムおよびダイヤフラムバルブ |
JP7060832B2 (ja) | 2020-10-08 | 2022-04-27 | ダイキン工業株式会社 | 成形品およびその製造方法、ダイヤフラムおよびダイヤフラムバルブ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6492904B2 (ja) | 2019-04-03 |
KR102004630B1 (ko) | 2019-07-26 |
WO2016163334A1 (ja) | 2016-10-13 |
CN107428071A (zh) | 2017-12-01 |
KR20170096037A (ko) | 2017-08-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Zahner et al. | A facile approach to superhydrophilic–superhydrophobic patterns in porous polymer films | |
JP6492904B2 (ja) | 成形体 | |
WO2011111741A1 (ja) | 樹脂モールド | |
MX2011005900A (es) | Metodo para producir materiales modelados. | |
WO2015152310A1 (ja) | 成形体およびその製造方法 | |
JP2007245702A (ja) | テンプレートおよび転写微細パターンを有する処理基材の製造方法 | |
KR101284113B1 (ko) | 사이드 본딩에 의한 대면적 나노템플레이트 제작 방법 | |
JP2019028109A (ja) | 複層フィルム及びその製造方法 | |
JP5567313B2 (ja) | 立体形状導電性成形品及びその製造方法 | |
TWI476093B (zh) | Resin mold core, and the production of a molded article of the method as | |
KR20120020012A (ko) | 유기-무기 복합체 및 이로부터 제조된 나노임프린트용 스탬프 | |
JP5343682B2 (ja) | インプリント用モールドおよびその製造方法 | |
KR20230088573A (ko) | 나노 임프린팅용 마스터 몰드 및 이를 이용한 나노 임프린팅 방법 | |
KR101776065B1 (ko) | 나노패턴을 포함하는 광학시트 및 그 제조방법 | |
JP5371286B2 (ja) | 樹脂製モールド作製用積層体および樹脂製モールドの製造方法 | |
TWI571381B (zh) | 保護貼片及其製造方法 | |
JP7281545B2 (ja) | バイオアッセイ用微細ウェルフィルム、バイオアッセイ用微細ウェルフィルム形成用感光性樹脂組成物、及び、バイオアッセイ用微細ウェルフィルムの製造方法 | |
JP6856661B2 (ja) | 機能性フィルムおよび有機el素子 | |
Uchida et al. | Transfer properties of moth-eye structure film by RTR UV-NIL | |
Noma et al. | Fabrication of Second Generation Replica Mold by Hybrid Polymer Material OrmostampTM | |
TW202333934A (zh) | 薄膜塑模 | |
JP2020090084A5 (ja) | ||
JP6548030B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物を用いた凹凸膜付き基材の製造方法 | |
JP6547278B2 (ja) | 撥水性フィルムの製造方法 | |
JP2020032578A (ja) | 樹脂製モールドの製造方法、凹凸パターンの形成方法、中間版モールドの製造方法、中間版モールド及び光学素子の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20180221 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20181113 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190115 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20190205 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20190218 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 6492904 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |