JP2016187787A - 水素分離膜及びアンモニアの生成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バナジウム、ニオブ及びタンタルからなる群より選択される5A族金属からなる金属膜ならびに前記5A族金属及び前記5A族金属以外の元素成分からなる合金膜のいずれか一方である5A族金属膜を備え、前記5A族金属膜の少なくとも一方の表面の一部は、パラジウム、又はパラジウムとパラジウム以外の元素成分とからなるパラジウム合金で被覆されている水素分離膜。
【選択図】なし
Description
Pd合金膜に代わる水素分離膜としては、例えば、V、Nb、Taなどの5A族元素を用いた水素分離膜が挙げられる。この5A族元素を用いた水素分離膜は、水素によって脆化しやすいという短所はあるものの、Pd合金膜と比較して安価であり、かつ水素透過性能が高く、将来的な実用化が期待されている。5A族元素を用いた水素分離膜としては、例えば、以下のような膜が提案されている。
また、V合金膜の両面(プロセス側、透過側の両面)にPd又はPd合金よりなる表面触媒層が形成された水素分離膜が提案されている(例えば、特許文献2参照)。
また、金属水素化物を含む水素原子透過膜(Pd合金膜)で構成される陰極を用いて電解質物質に電流を流し、電解質物質を電気分解して陰極の電解質物質に接する表面に水素を発生させ、陰極の電解質物質に接触した面と反対側の面上に担持した触媒材料に供給された窒素と、陰極を透過した水素と、を反応させてアンモニアを合成するアンモニア製造方法が提案されている(例えば、特許文献4参照)。
また、上記特許文献1、2に記載の水素分離膜もアンモニアの生成に使用できるが、アンモニアの生成量が十分でないという問題がある。
<1> バナジウム、ニオブ及びタンタルからなる群より選択される5A族金属からなる金属膜ならびに前記5A族金属及び前記5A族金属以外の元素成分からなる合金膜のいずれか一方である5A族金属膜を備え、前記5A族金属膜の少なくとも一方の表面の一部は、パラジウム、又はパラジウムとパラジウム以外の元素成分とからなるパラジウム合金で被覆されている水素分離膜。
<2> 前記5A族金属膜の一方の表面の一部が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆され、前記5A族金属膜の他方の表面の全体が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されている<1>に記載の水素分離膜。
<3> 前記5A族金属は、バナジウムである<1>又は<2>に記載の水素分離膜。
<4> 一部が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された前記表面の被覆部分の面積は、前記5A族金属膜の表面の面積に対して20%〜80%である<1>〜<3>のいずれか1つに記載の水素分離膜。
<5> 一部が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された表面は、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された被覆部分と、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されていない露出部分と、が交互に位置している<1>〜<4>のいずれか1つに記載の水素分離膜。
<6> 一部が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された表面は、前記パラジウム又は前記パラジウム合金によって格子状に被覆されている<1>〜<5>のいずれか1つに記載の水素分離膜。
<8> 前記5A族金属膜の一方の表面の一部が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆され、前記5A族金属膜の他方の表面の全体が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されており、前記水素供給工程は、全体が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されている前記他方の表面側に水素を供給する工程である<7>に記載のアンモニアの生成方法。
本発明の一実施形態に係る水素分離膜は、バナジウム、ニオブ及びタンタルからなる群より選択される5A族金属からなる金属膜ならびに前記5A族金属及び前記5A族金属以外の元素成分からなる合金膜のいずれか一方である5A族金属膜を備え、前記5A族金属膜の少なくとも一方の表面の一部は、パラジウム、又はパラジウムとパラジウム以外の元素成分とからなるパラジウム合金で被覆されている。
本実施形態に係る水素分離膜は、バナジウム(V)、ニオブ(Nb)及びタンタル(Ta)からなる群より選択される5A族金属からなる金属膜ならびに前記5A族金属及び前記5A族金属以外の元素成分からなる合金膜のいずれか一方である5A族金属膜を備える。
金属元素としては、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銅(Cu)、アルミニウム(Al)、チタン(Ti)、スズ(Sn)、タングステン(W)、亜鉛(Zn)、ジルコニウム(Zr)、希土類元素、VIII族元素(8族元素〜10族元素)が挙げられる。
非金属元素としては、例えば、ホウ素(B)、炭素(C)、硫黄(S)、ゲルマニウム(Ge)が挙げられる。
パラジウム又はパラジウム合金の被覆がないV膜(バナジウム膜)を、純度99.9%、膜厚100μmの市販の薄膜から切り出した。そして、このV膜の表面に550℃の空気を流通した後の、V膜の組成について調べた。具体的には、真空引きした上でV膜を550℃まで昇温し、0.5NL/分で1分間大気圧の空気流通、真空引き、400kPaの純水素ガスを0.5NL/分で1分間流通、真空引きを順に2回繰り返した。
以下のようにしてアンモニアの生成実験を行なった。なお、水素分離膜として、実施例1では、V合金膜の一方の表面の一部がパラジウム合金によって格子状に被覆され、V合金膜の他方の表面の全体がパラジウム合金で被覆された水素分離膜を用い、比較例1では、Pd−23質量%Ag水素分離膜を用い、比較例2では、V合金膜の一方の表面のみが全面に亘ってパラジウム合金で被覆された水素分離膜を用い、比較例3では、V合金膜の両面が全面に亘ってパラジウム合金で被覆された水素分離膜を用いた。
トリアーク溶解炉を用いてV合金のボタンインゴットを作製し、放電加工により直径12mm、厚さ約0.65mmのディスク状に加工した。得られたディスクの表面をアルミナ研磨紙で磨いた後、バフ研磨により約0.5mmの厚さの試料(V合金膜)を得た。その後、V合金膜の一方の表面にスパッタリングにより、厚さ200nmであるPd−27質量%AgのPd合金被覆を形成し、V合金膜の他方の表面にメッシュ(φ100μm、ピッチ250μm、開口率64%)を配置した後、スパッタリングにより、メッシュの開口部に、厚さ36nmであるPd−27質量%AgのPd合金被覆を形成した。これにより、図2に示すように、V合金膜の一方の表面(表面B)の一部がパラジウム合金によって格子状に被覆され、V合金膜の他方の表面(表面A)の全体がパラジウム合金で被覆された水素分離膜を得た。図2は、Pd合金によって格子状に被覆されたV合金膜表面(表面B)の拡大写真図である。
Pd77質量%、Ag23質量%の組成の合金溶湯からインゴットを得て、これを圧延して厚さ30μm、直径12mmのPd−23質量%Ag水素分離膜を製造した。この水素分離膜をアンモニア生成装置にセットした後、実施例1と同様の方法によりアンモニア生成量を評価した。
比較例2にて製造したV合金膜の一方の表面のみに、スパッタリングにより、厚さ200nmであるPd−27質量%AgのPd合金被覆を形成し、V合金膜の一方の表面(表面A)のみが全面に亘ってパラジウム合金で被覆された水素分離膜を得た。そして、水素が供給される1次側に、表面Aが位置し、窒素が供給される2次側にV合金膜の表面が位置するように、この水素分離膜をアンモニア生成装置にセットした。その後、実施例1のように、水素分離膜を350℃に保持した状態で、1次側に400kPaの水素圧を負荷したところ、水素透過流束は観察されなかった。この状態で2次側に、2.5mL/cm2/分の窒素ガスを供給したが、アンモニアの生成は確認できなかった。
比較例3にて製造したV合金膜の片側(表面A)にスパッタリングにより、厚さ200nmであるPd−27質量%AgのPd合金被覆を全面形成し、他方の表面(表面B)にスパッタリングにより、厚さ36nmであるPd−27質量%AgのPd合金被覆を全面形成した。これにより、V合金膜の両面が全面に亘ってパラジウム合金で被覆された水素分離膜を得た。そして、表面Aが水素供給側、表面Bが水素透過側になるように、この水素分離膜をアンモニア生成装置にセットした後、実施例1と同様の方法によりアンモニア生成量を評価した。
実施例1、比較例1、3についてアンモニアと反応すると透明から褐色に変化するネスラー試薬を用いて、アンモニア生成量を評価した。実施例1では、ネスラー試薬の変色が見られたが、比較例1では、ネスラー試薬がわずかに変色するに留まり、比較例3では、ネスラー試薬はほとんど変色しなかった。したがって、実施例1のように、V合金膜の一方の表面の一部がパラジウム合金に格子状に被覆され、V合金膜の他方の表面の全体がパラジウム合金で被覆され水素分離膜を用いることで、低温かつ温和な圧力条件下で効率よくアンモニアを生成できることが見出された。
2 窒素供給経路
3 5A族金属膜
A、B 表面
4 水素分離膜
5、6 排出経路
11、12 被膜
100 アンモニア生成装置
Claims (8)
- バナジウム、ニオブ及びタンタルからなる群より選択される5A族金属からなる金属膜ならびに前記5A族金属及び前記5A族金属以外の元素成分からなる合金膜のいずれか一方である5A族金属膜を備え、
前記5A族金属膜の少なくとも一方の表面の一部は、パラジウム、又はパラジウムとパラジウム以外の元素成分とからなるパラジウム合金で被覆されている水素分離膜。 - 前記5A族金属膜の一方の表面の一部が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆され、
前記5A族金属膜の他方の表面の全体が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されている請求項1に記載の水素分離膜。 - 前記5A族金属は、バナジウムである請求項1又は請求項2に記載の水素分離膜。
- 一部が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された前記表面の被覆部分の面積は、前記5A族金属膜の表面の面積に対して20%〜80%である請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の水素分離膜。
- 一部が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された表面は、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された被覆部分と、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されていない露出部分と、が交互に位置している請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の水素分離膜。
- 一部が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された表面は、前記パラジウム又は前記パラジウム合金によって格子状に被覆されている請求項1〜請求項5のいずれか1項に記載の水素分離膜。
- 請求項1〜請求項6のいずれか1項に記載の水素分離膜を用いてアンモニアを生成するアンモニアの生成方法であって、
前記5A族金属膜の、一部が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆された一方の表面側に窒素を供給する窒素供給工程と、
窒素が供給されていない前記5A族金属膜の他方の表面側に水素を供給する水素供給工程と、
前記水素供給工程にて供給された水素は前記水素分離膜を透過し、透過した水素は前記窒素供給工程にて供給された窒素と反応してアンモニアを生成するアンモニア生成工程と、を含むアンモニアの生成方法。 - 前記5A族金属膜の一方の表面の一部が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆され、前記5A族金属膜の他方の表面の全体が、前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されており、
前記水素供給工程は、全体が前記パラジウム又は前記パラジウム合金で被覆されている前記他方の表面側に水素を供給する工程である請求項7に記載のアンモニアの生成方法。
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