JP2016186492A - ベッセル洗浄装置 - Google Patents

Abstract

【課題】洗浄対象ベッセルの洗浄時間を短縮する。【解決手段】ベッセル用ラック１６に配列保持されている全６つの洗浄対象ベッセル２を１回目の洗浄処理にベッセル２Ａ１、ベッセル２Ｂ１、ベッセル２Ｃ１、２回目の洗浄処理にベッセル２Ａ２、ベッセル２Ｂ２、ベッセル２Ｃ２、ずつそれぞれ３つを２回に分けて洗浄する。【選択図】図１７

Description

本発明はベッセル洗浄装置に関し、特に溶出試験装置に溶出容器として設けられたベッセルを試験器からはずさずに完全に洗浄できるようにしたものである。

この種の溶出試験装置は、錠剤や顆粒剤などの固形製剤を、溶出容器であるベッセルに入れた溶出用試験液（３７〔°Ｃ〕に保たれている）中に落し込んで撹拌しながら溶出させ、時間の経過に従って得られる溶液を採取してその成分を分析することにより、人が当該錠剤や顆粒剤などの固形製剤を服用したときの安全性及び効果を確認するもので、その溶出試験手法は国際標準である薬局方により厳しく規定されている。

薬局方の規定によれば、この固形製剤の溶出試験は恒温槽内に併設された６個のベッセルを使って各固形製剤について所定回数だけ溶出液のサンプリングを繰り返すことが必要で、使用されたベッセルは、１回の溶出試験ごとに自動操作で（特許文献１参照）、又は手動操作で（特許文献２参照）で、洗浄する手法が従来から提案されている。

特開２０１０−２３０３４２公報 ＵＳ２０１０／００８９４２８Ａ１

ところで、溶出容器であるベッセルは、溶出試験装置内に設定される際には、使用前に、ユーザによって、薬局方で決められた設定条件を充足するように細かく校正された後溶出試験動作に入るようになされているので、上記所定回数だけ繰り返される溶出試験の間は、当該校正条件を変更しないようにしなければ、高い精度の試験結果が得られない。

また、恒温槽内に併設された６個のベッセルの洗浄作業は、ユーザの負担が増えないように、簡便な手間で、しかも正確に行い得るようにすることが望ましい。

本発明は以上の点を考慮してなされたもので、ベッセルの洗浄を簡便かつ正確に行えるようにしたベッセル洗浄装置を提案しようとするものである。

かかる課題を解決するため本発明においては、製剤溶出試験装置１５において溶出容器として用いられる３つの洗浄対象ベッセル２Ａ、２Ｂ、２Ｃに上方から差し込まれた状態で洗浄水を噴射すると共に、洗浄水７によって洗浄された後の洗浄排水液８を排水する３つの洗浄ノズル３を保持する洗浄ノズルホルダ７３を具え、製剤溶出試験装置１５はベッセル用ラック１６に６つの洗浄対象ベッセル２をそれぞれ横方向に配列保持する構成を有し、洗浄ノズルホルダ７３は、洗浄対象ベッセル２Ａ、２Ｂ、２Ｃを洗浄する際に、先ずベッセル用ラック１６に配列保持された全６つの洗浄対象ベッセル２のうち３つの洗浄対象ベッセル２に、保持している３つの洗浄ノズル３を差し込んで洗浄処理をした後、次に当該洗浄処理を終った当該３つの洗浄ベッセル２から上記３つの洗浄ノズル３を引き抜いてベッセル用ラック１６に配列保持されている全６つの洗浄対象ベッセル２のうち残る３つの洗浄対象ベッセル２に当該保持している３つの洗浄ノズル３を差し込んで洗浄処理をする。

（削除）

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本発明によれば、ベッセル用ラックに配列保持されている全６つの洗浄対象ベッセルを１回の洗浄処理に３つずつ２回に分けて洗浄することができることにより、１回の洗浄処理に洗浄対象ベッセルを１つずつ洗浄する場合と比較して格段的に短時間の間に６つの洗浄対象ベッセルの洗浄を行うことができる。

ベッセル洗浄装置の全体構成を示す系統図である。 ベッセル洗浄装置を適用する製剤溶出試験装置の概略構成を示す略線図である。 製剤溶出試験装置のベッセル洗浄モードの説明に供する略線図である。 図１の洗浄ノズルを示す側面図である。 洗浄ノズルの詳細構成を示す略線的断面図である。 第１の噴射口の説明に供する略線図である。 第２の噴射口の説明に供する略線図である。 第３の噴射口の説明に供する略線図である。 図１の洗浄操作部５０の詳細構成を示す略線的系統図である。 図９の操作制御回路の詳細構成を示す電気的接続図である。 洗浄作業の制御操作手順を示す信号波形図である。 ダイヤフラムポンプの説明に供する略線図である。 第２の実施の形態の洗浄操作部を示す系統図である。 第２の実施の形態における操作制御回路を示す電気的接続図である。 図１４の制御操作手順を示す信号波形図である。 第３の実施の形態によるベッセル洗浄装置を示す系統図である。 製剤溶出試験装置のベッセル用ラック上の洗浄対象ベッセルの配置を示す略線図である。 三連の洗浄ノズルホルダを示す略線的斜視図である。 三連の洗浄ノズルホルダの構造を示す略線的平面図である。 洗浄ノズルホルダの第１支持板を示す正面図及び平面図である。 洗浄ノズルホルダの第２支持板を示す略線的側面図及び平面図である。 洗浄ノズルホルダの第３支持板を示す略線的側面図及び平面図である。 洗浄ノズルホルダの第４支持板を示す略線的側面図及び平面図である。 図１６の操作制御回路８５の詳細構成を示す電気的接続図である。 操作制御回路８５の操作制御手順を示すタイムチャートである。 図１６の洗浄・排水駆動回路の詳細構成を示す略線的電気接続図である。 図１９の変形例（１）を示す略線的平面図である。 図１９の変形例（２）を示す略線的平面である。 変形例（３）の操作制御回路を示す電気的接続図である。 図２４の操作制御回路の制御操作手順を示すタイムチャートである。 第４の実施の形態によるベッセル洗浄装置を示すブロック図である。 図３１の洗浄対象ベッセルに使用する洗浄ノズルホルダを示す略線的斜視図である。 図３２の洗浄ノズルホルダ７３Ａの支持板を示す略線的側面図及び平面図である。 図３２の洗浄ノズルの装着状態を示す略線的平面図である。 図３１の操作制御回路８５Ｙを示す電気的接続図である。 図３１の洗浄・排水駆動回路８６Ｙを示す略線的電気接続図である。 図３５の操作制御回路８５Ｙの制御操作手順を示すタイムチャートである。 図３５の操作制御回路の変形例を示す電気的接続図である。 図３８の制御操作手順を示すタイムチャートである。

以下図面について、本発明の一実施の形態を詳述する。

（１）第１の実施の形態
図１において、１は全体としてベッセル洗浄装置を示し、洗浄対象ベッセル２に対して洗浄ノズル３を用いることにより、洗浄装置本体４に設けられた洗浄水ポンプ５によって洗浄液タンク６から純水又は加温された純水でなる洗浄水７を洗浄ノズル３を介して洗浄対象ベッセル２に供給し噴射すると共に、洗浄対象ベッセル２の洗浄された後の洗浄排水液８を排水ポンプ９によって排水液タンク１０に回収するように構成されている。

洗浄対象ベッセル２は、図２に示す製剤溶出試験装置１５において、ベッセル用ラック１６（作業台に立設された支持脚に固定されている）に溶出容器として６個分１列又は２列等に配設されており、当該６個の洗浄対象ベッセル２の上下方向の中心線に沿って溶出試験装置本体１７から垂直方向に下方に突出する６本の溶出動作機構部１８の先端操作部１９を上方から受け入れるようになされている。

溶出動作機構部１８は製剤溶出試験装置１５が溶出試験動作をするときには、溶出試験装置本体１７から各洗浄対象ベッセル２内に溶出用試験液を導入し、その後ベッセル用ラック１６の下部に設けられている恒温槽（図示せず）によって洗浄対象ベッセル２内の温度が恒温温度３７〔°Ｃ〕に保持された状態で、溶出動作機構部１８が、溶出試験対象である固形製剤を落し込むと共に撹拌機２０によって撹拌しながら落し込まれた製剤の溶液を所定の時間間隔で抽出して溶出試験装置本体１７に取り込ませるような溶出試験作業を行う。

かくして６個の洗浄用対象ベッセル２における溶液の採取が終了すると、溶出試験装置本体１７は、図３において矢印ａで示すように、ベッセル用ラック１６から垂直方向に上方に離間するように上昇し、これにより製剤溶出試験装置１５はベッセル洗浄モードに入る。

このベッセル洗浄モードにおいて、ユーザは、ベッセル洗浄用ラック１６と溶出試験装置本体１７の先端操作部１９との間に形成された空間を利用して、ベッセル用ラック１６に残された６本の洗浄対象ベッセル２に対して、順次１本ずつ洗浄ノズル３を装着して行くことにより、洗浄対象ベッセル２を１本ずつ順次洗浄して行く。

洗浄ノズル３は、図４に示すように、全体として外観形状が円柱構造を有し、手元側部材２１と先端側部材２２との間に鍔状のベッセル蓋部材２３が円環状に外方に突出されるように形成され、これにより洗浄ノズル３が１つの洗浄対象ベッセル２の上部開口に上方向から差込み操作されたとき、ベッセル蓋部材２３が洗浄対象ベッセル２の上端面を閉塞すると共に、洗浄ノズル３の中心線Ｌ１が洗浄対象ベッセル２の中心線Ｌ２上に一致した姿勢で、ベッセル蓋部材２３が洗浄ノズル３を保持できるようになされている。

この実施の形態の場合、ベッセル蓋部材２３は、洗浄対象ベッセル２の上端内縁部に嵌め込まれる形状を有する板状の位置決め部材２３Ａと、当該位置決め部材２３Ａ上に貼り合わされると共に、外周円部の下端面が洗浄対象ベッセル２の上方端部に当接して蓋をする板状の蓋部材２３Ｂとでなる。

かくして洗浄ノズル３が洗浄対象ベッセル２の上方から持ちきたされたとき、ベッセル蓋部材２３の位置決め部材２３Ａが洗浄対象ベッセル２の開口内周面に外周面が当接することにより、洗浄ノズル３をその中心線Ｌ１が洗浄対象ベッセル２の中心線Ｌ２と一致する位置に位置決めすると共に、蓋部材２３Ｂが洗浄対象ベッセル２を上方から閉塞するようになされている。

洗浄ノズル３の手元側部材２１の上端面には排水ノズル２５が外方に突出するように設けられ、これが図１の排水ポンプ９に連通する排水パイプ２６に結合されている。

また洗浄ノズル３の手元側部材２１の側面には、洗浄水ノズル２７が設けられ、これが図１の洗浄水ポンプ５に連通する洗浄水パイプ２８に結合されている。

かくして洗浄対象ベッセル２に洗浄ノズル３が装着された図４の状態において、洗浄水ポンプ５から送水される洗浄水７が洗浄水ノズル２７を介して洗浄ノズル３に供給されると共に、排水ポンプ９が洗浄排水液８を吸引方向に送水することにより、排水ノズル２５を介して洗浄ノズル３内の洗浄排水液８を排水するようになされている。

洗浄ノズル３は、図５に示すように、中心線Ｌ１上に二重構造に配設された大径管部３１及び小径管部３２を有し、大径管部３１が洗浄水ノズル２７に連通すると共に、大径管部３１の内部に配設されている小径管部３２が排水ノズル２５に連通している。

この実施の形態の場合、大径管部３１は、塩化ビニールパイプでなるパイプ本体３５に異径チーズ部材３６の大径部が嵌め込まれており、当該異径チーズ部材３６の側面から分岐した小径部が洗浄水ノズル２７を形成している。

パイプ本体３５にはソケット部材３７の大径部が嵌め込まれており、その先端側の絞り込まれた小径部が小径管部３２を構成する塩化ビニールパイプでなる排水パイプ部材３８を嵌込み保持している。

かくして排水パイプ部材３８は、排水口４６を有する先端部を異径ソケット部材３７によって保持された状態で、パイプ本体３５及び異径チーズ部材３６を通ってキャップ部材３９の先端面上に穿設された貫通孔４０に嵌め込まれている。

キャップ部材３９の貫通孔４０の手元側には排水ノズル２５を形成するエルボ部材４１が嵌め込まれており、かくして小径管部３２を構成する排水パイプ部材３８が、大径管部の中心線Ｌ１上に同心状に貫通してエルボ部材４１によって構成された排水ノズル２５に連通している。

この実施の形態の場合、異径チーズ部材３６とキャップ部材３９とは塩化ビニールパイプ製の連結部材４３で連結され、これにより大径管部３１の手元側端部がキャップ部材３９によって閉塞されている。

また洗浄水ノズル２７及び排水ノズル２５は、連結金具２７Ａ及び２５Ａによって洗浄水パイプ２８及び排水パイプ２６に連結している。

大径管部３１の先端部３１Ａの側面には、３種類の噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃが設けられている。

噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃは、それぞれ洗浄水ノズル２７から導入された洗浄水７（図１）を小径管部３２の表面との間の空所に受けて洗浄対象ベッセル２の内側表面に強く噴射させることにより、当該洗浄対象ベッセル２の内側表面に付着している残りかすを洗い落とすように作用する。

この実施の形態の場合、第１の噴射口４５Ａは、図６（Ｂ）に示すように、中心線Ｌ１を先端方向に見たとき、当該中心線Ｌ１に対してθ１（＝９０〔°〕）の方向（横方向）に放射方向に向くような透孔として、大径管部３１の厚みを横切るように穿設されている。

かくして第１の噴射口４５Ａから噴射する洗浄水は、大径管部３１の外側表面から直角方向に外方に噴射する。

この実施の形態の場合、第１の噴射口４５Ａは、パイプ本体３５の先端部分において、図６（Ａ）に示すように、中心線Ｌ１から見て大径管部３１の外周面に４５〔°〕の角等間隔を保つ位置に８個穿設されていると共に、当該８個の噴射口の組を中心線Ｌ１に沿って先端方向に４段分等間隔を持つように配列された構成を有し、これにより８×４＝３２個の第１の噴射口４５Ａを配設している。

第２の噴射口４５Ｂは、第１の噴射口４５Ａの先端側の異径ソケット部材３７の位置において、図７（Ｂ）に示すように、中心線Ｌ１の先端方向に見て浅く傾いた角度θ２（＝４５〔°〕）の方向に斜め先端方向に傾くように異径ソケット３７の厚みを横切るように穿設されている。

このとき第２の噴射口４５Ｂは、図７（Ａ）に示すように、中心線Ｌ１の周囲に４５〔°〕の角等間隔を保つ位置に１段分、すなわち８個だけ設けられている。

かくして洗浄水ノズル２７から供給された洗浄水は、大径管部３１の外表面から先端方向に４５〔°〕の角度で洗浄水を噴射する。

また第３の噴射口４５Ｃは、第２の噴射口４５Ｂの先端側の異径ソケット３７の位置において、図８（Ｂ）に示すように、先端方向に向かう中心線Ｌ１に対して、先端方向にさらに浅く傾いた角度θ３（＝１５〔°〕）の方向に大径管部３１の厚みを横切るように穿設されている。

この場合も図８（Ａ）に示すように、第３の噴射口４５Ｃは中心線Ｌ１を中心として４５〔°〕の角等間隔を保つ位置に１段分、従って８個の第３の噴射口４５Ｃが形成されている。

かくして洗浄水ノズル２７から供給された洗浄水は、大径管部３１の先端部位置において先端方向に１５〔°〕の角度で洗浄水を噴射する。

この実施の形態の場合、洗浄対象ベッセル２は、図４に示すように、円筒形状の上半部の下端側に、下端部分の形状がほぼ半球状に突出するように成形されており、これにより当該半球形状部分に５００〔ｍｌ〕の液面レベルＬＶ１までの製剤溶出液を入れることができるようになされている。

この液面レベルＬＶ１での範囲に対して、第２の噴射口４５Ｂ及び第３の噴射口４５Ｃが洗浄対象ベッセル２の中心線Ｌ２に対してそれぞれ４５〔°〕及び１５〔°〕の角度で噴射したとき、当該洗浄水はそれぞれ洗浄対象ベッセル２の内面にほぼ直角方向から当たるようになる。

これに対して洗浄対象ベッセル２は、１０００〔ｍｌ〕の液面レベルＬＶ２までの洗剤溶出液が入れられる場合には、内径形状が中心線Ｌ２に対して円筒形状をもつ部分に対して４段の第１の噴射口４５Ａから洗浄対象ベッセル２の内面にほぼ直角に当たるように洗浄水が噴射される。

小径管部３２を構成するパイプ部材３８の先端面の排水口４６は、ほぼ断面が半円形状に切り込まれており、これにより洗浄対象ベッセル２に洗浄ノズル３が装着されたとき、小径管部３２の先端面が洗浄対象ベッセル２の底面に当接した状態になることにより、洗浄対象ベッセル２の底面に溜まった製剤溶出排液を残さないように、切込された排水口４６を介して小径管部３２内に吸い込むことができるようになされている。

この実施の形態の場合、ベッセル蓋部材２３の下面には、図１に示すように、液面スイッチＳＷ２が設けられており、これにより洗浄対象ベッセル２に洗浄後の洗浄排水液が満杯状態になったとき、これを検出して液面検出信号Ｓ２を洗浄操作部５０の操作制御回路５５に入力するようになされている。

ベッセル洗浄装置１の洗浄水ポンプ５及び排水ポンプ９は、図１に示すように、操作制御回路５５と共に１つの筐体であるケース内に設けられ、これにより洗浄操作部５０を構成し、ユーザが操作制御回路５５を操作することにより、ベッセル洗浄装置１を全体として、洗浄水７の供給及び洗浄排水液８の排出制御を行う。

この実施の形態の場合、洗浄水ポンプ５及び排水ポンプ９は、図１２に示すような、ダイヤフラムポンプＤＰを用いている。

ダイヤフラムポンプＤＰは、ゴム、熱可塑性樹脂、又はテフロン（登録商標）性ダイヤフラムＤ１によって閉塞された流体保留室Ｄ２に対して、ダイヤフラム駆動部Ｄ３によってダイヤフラムＤ１を上下運動させることにより、上方に駆動したとき流体入口Ｄ４から逆止弁Ｄ５を開いて流体を吸い込み、その後ダイヤフラムＤ１を下方に押し下げたとき、流体保留室Ｄ２に保留されている流体を逆止弁Ｄ６を開動作させて流体出口Ｄ７に吐き出す。

かくして洗浄水ポンプ５及び排水ポンプ９はダイヤフラム駆動部Ｄ３に駆動電圧Ｓ１を印加して、ダイヤフラムＤ１を上下運動させることにより、洗浄水７又は洗浄排水液８を容積移送方式で、例え空気を含んでいるとしても、これを一緒に移送する。

（２）ベッセルの洗浄操作手順
以上の構成において、ユーザは、ベッセル洗浄モード（図３）において、洗浄ノズル３を６個の洗浄対象ベッセル２に順次装着したのち、図１１に示す操作手順に従って洗浄操作部５０の操作制御回路５５に設けられた電源スイッチＳＷ０及び洗浄スイッチＳＷ１（図１）を操作することにより、洗浄対象ベッセル２の洗浄処理を手動操作により行う。

まず図１１の時点ｔ0以前においては、電源がオフ状態（図１１（Ａ））であるので、図１０に示す操作制御回路５５の洗浄リレーＫ１及び排水リレーＫ２は共に非励磁状態にあり、これにより洗浄操作部５０（図９）において、洗浄リレーＫ１の常開接点Ｋ１−２ａがオフ状態にあると共に、操作制御回路５５（図１０）において、切換動作接点Ｋ１−１ｃが排水リレーＫ２側に切り換わった状態にある。

また排水リレーＫ２の常開接点Ｋ２−２ａ（図９）はオフ状態にあると共に、常閉接点Ｋ２−１ｂ（図１０）はオン状態にある。

この状態において時点ｔ0においてユーザが電源スイッチＳＷ０をオン操作すると、洗浄操作部５０従って操作制御回路５５に電源が与えられることにより、洗浄リレーＫ１の切換接点Ｋ１−１ｃを通じて排水リレーＫ２が励磁されることにより（図１１（Ｄ））、常開接点Ｋ２−２ａがオン動作することにより（図９）、排水ポンプ９が排水動作をする。

これにより、洗浄ノズル３は今回の洗浄操作する前に、洗浄対象ベッセル２に残留していた残留液を排水ポンプ９によって排水タンク１０に排水する。

この排水動作はユーザが洗浄対象ベッセル２内の状態を見ることにより確認できるので、ユーザはその後の時点ｔ1において洗浄操作部５０の操作制御回路５５に設けられている洗浄スイッチＳＷ１（図９）をオン操作することにより（図１０、図１１（Ｂ））、洗浄リレーＫ１をオン動作させ（図１０、図１１（Ｃ））、これにより、その常開接点Ｋ１−２ａ（図９）を通じて洗浄水ポンプ５を洗浄動作させる。

この洗浄リレーＫ１のオン動作は、切換接点Ｋ１−１ｃが切換え動作することにより（図１０）、排水リレーＫ２が非励磁状態になり（図１１（Ｄ））、これによりその常閉接点Ｋ２−１ｂを介して自己保持される。

かくして時点ｔ1から洗浄水ポンプ５によって洗浄水７が洗浄ノズル３に供給され、これが大径管部３１の第１、第２及び第３の噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃから洗浄対象ベッセル２の内面に噴射される。

このとき第１、第２及び第３の噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃから噴射する洗浄水は、当該第１、第２及び第３の噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃの穿設角度がθ１（＝９０〔°〕）、θ２（＝４５〔°〕）及びθ３（＝１５〔°〕）に選定されていることにより、洗浄対象ベッセル２の半球状湾曲部から円筒状の直立部の内面に亘ってほぼ直角に噴射する。

かくして例え、洗浄対象ベッセル２の内面に製剤溶出液の残りかすが付着していたとしても、これを第１、第２及び第３の噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃから強く噴射する洗浄水による洗浄効果が大きい洗浄作業によって洗浄することができる。

この洗浄作業の間に、洗浄対象ベッセル２内に供給された洗浄水によって洗浄対象ベッセル２内の液面が高くなって行って時点ｔ2において液面スイッチＳＷ２がオン動作すると（図１１（Ｅ））、その検出出力Ｓ２が操作制御回路５５（図１０）に到達することにより、液面スイッチＳＷ２がオン動作して排水リレーＫ２を励磁状態に保ち、（図１１（Ｄ））、その常閉接点Ｋ２−１ｂがオフ動作することにより洗浄リレーＫ１の自己保持状態が解除されて（図１１（Ｃ））その切換接点Ｋ１−１ｃが排水リレーＫ２側に戻って排水リレーＫ２の励磁状態を維持する（図１１（Ｄ））。

このとき、洗浄操作部５０において常開接点Ｋ１−２ａがオフ動作することにより洗浄水ポンプ５に対する駆動電源が与えられなくなると共に、常開接点Ｋ２−２ａがオン動作して排水ポンプ９に駆動電源が与えられることにより、排水ポンプ９が排水パイプ２６を介して洗浄ノズル３の小径管部３２から洗浄排水液８を引き抜く動作をする。

この結果洗浄対象ベッセル２内の洗浄水は、小径管部３２を通って排水ノズル２５を介して洗浄排水液８として引き抜かれて行くことにより、洗浄対象ベッセル２の洗浄排水液面が下がって行く。

これにより液面スイッチＳＷ２が時点ｔ3においてオフ動作するが（図１１（Ｅ））、このとき排水リレーＫ２に対して切換接点Ｋ１−１ｃ（図１０）を通じて排水リレーＫ２の励磁状態を維持する（図１１（Ｄ））ことにより、洗浄ノズル３からの排水動作を続ける。

この排水ポンプ９による洗浄対象ベッセルからの排水動作は、ユーザが目視確認できる。この時点で１回の洗浄サイクルは完了し、通常は１本のベッセルの洗浄は終わり次のベッセルに移行できる。

しかし、必要に応じて、このような確認をしながら、ユーザが時点ｔ4において洗浄スイッチＳＷ１を長押し操作をすると（図１１（Ｂ））、洗浄リレーＫ１がオン動作して、切換接点Ｋ１−１ｃ−常閉接点Ｋ２−１ｂ−洗浄リレーＫ１の回路によって自己保持されることにより、洗浄水ポンプ５が洗浄水を供給する状態になる。

ここで、時点ｔ4において洗浄スイッチＳＷ１を長押しするのは、排水ポンプ９による排水効果が遅れたために、液面検出信号Ｓ２（図１１（Ｅ））が検出動作を続けている間に洗浄スイッチＳＷ１を操作したような場合に、洗浄リレーＫ１の自己保持動作を確実に確保するためである。

かくして、時点ｔ4以降、再度確実に洗浄水ポンプ５による洗浄対象ベッセル２に対する洗浄効果を確実に確保できる。

時点ｔ4以降の洗浄動作によって、洗浄対象ベッセル２の液面が上昇して行き、やがて時点ｔ5において液面スイッチＳＷ２が動作すると（図１１（Ｅ））、排水リレーＫ２がオン動作することにより（図１１（Ｄ））、洗浄リレーＫ１の自己保持状態が解除され（図１１（Ｃ））、洗浄対象ベッセル２は小径管部３２から洗浄対象ベッセル２内の洗浄液を排水ノズル２５から排水する動作に移る。

この動作状態において、ユーザは時点ｔ6において洗浄スイッチＳＷ１を比較的短い時間の間オン動作させる（図１１（Ｂ））。

このときの状態は、洗浄対象ベッセル２の洗浄液が液面スイッチＳＷ２の検出レベル以上になっている状態において、排水リレーＫ２がオン動作することにより排水ポンプ９が排水動作をすると同時に、洗浄スイッチＳＷ１がオン動作することにより洗浄リレーＫ１がオン動作して洗浄水ポンプ５によって洗浄対象ベッセル２に洗浄水７を供給する状態になる。

この状態は、洗浄対象ベッセル２には液面スイッチＳＷ２を越える水位の洗浄水が入っている状態において、排水ポンプ９による排水動作と同時に、洗浄ノズル３の第１、第２及び第３の噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃから洗浄液を噴射する状態になっていることを意味する。

この状態は、洗浄対象ベッセル２内に十分な洗浄水がある状態においてさらに洗浄水を第１、第２及び第３の噴射口４５Ａ、４５Ｂ及び４５Ｃから洗浄対象ベッセル２内に噴射している状態にすることにより、洗浄水を強制循環させて洗浄対象ベッセル２を掻き回すように強く洗浄し、これにより、洗浄対象ベッセル２内に製剤溶出液が僅かに残っていたとしても、これを洗浄できることを意味する。

時点ｔ6の後の時点ｔ7においてユーザが洗浄スイッチＳＷ１の押圧操作を解除すると、洗浄リレーＫ１に対する励磁状態が解除される（図１１（Ｃ））、これにより洗浄水ポンプ５による洗浄対象ベッセル２に対する洗浄水の供給が終わる。

時点ｔ7において洗浄スイッチＳＷ１の操作が終わると、洗浄対象ベッセル２には洗浄水が供給されない状態になると共に、排水ポンプ９による排水動作が続き、やがて時点ｔ8において、液面スイッチＳＷ２がオフ動作する（図１１（Ｅ））。

排水リレーＫ２は、時点ｔ9において電源がオフ操作されたとき（図１１（Ａ））、オフ動作し（図１１（Ｄ））、これにより洗浄対象ベッセル２に対する一連の洗浄動作が終わる。

かくして、１本の洗浄対象ベッセル２に対する洗浄操作を終了する。

以上の構成によれば、ユーザが時点ｔ1において洗浄スイッチＳＷ１を操作することにより、洗浄水ポンプ５によって洗浄対象ベッセル２に洗浄水を供給することにより洗浄をした後、時点ｔ4において洗浄スイッチＳＷ１を長押しすることにより、洗浄対象ベッセル２を再度洗浄した後、時点ｔ6において洗浄対象ベッセル２内に液面スイッチＳＷ２を越える洗浄水がある状態において、ユーザが洗浄スイッチＳＷ１を押すことにより洗浄水ポンプ５によって洗浄水を供給すると同時に排水ポンプ９による排水をしながら、洗浄対象ベッセル２内の洗浄を効果的に行い得るようなベッセル洗浄装置１を実現できる。

この実施の形態の場合、洗浄水ポンプ５や、排水ポンプ９として、容積移送方式のダイヤフラムポンプを用いるようにしたことにより、洗浄水７や洗浄排水液８内に、空気の泡が含まれていても、これを容積移送成分の一部として移送できることにより、洗浄対象ベッセル２内の洗浄を支障を生じさせることなく確実になし得る。

以上の構成によれば、ユーザはベッセル用ラック１６に配設されている６本の洗浄対象ベッセル２に対して、１本ずつ洗浄ノズル３を装着して当該洗浄対象ベッセル２を手動で洗浄作業をすることができる。

かくするにつき、洗浄しようとする洗浄対象ベッセル２をその都度ベッセル用ラック１６から取り外して洗浄する必要がないことから、製剤溶出試験装置において薬局方の規定に従って洗浄対象ベッセル２をベッセル用ラック１６に一旦校正設定したとき、その後の洗浄した後に改めて校正し直す必要がなくなる。

かくして、一段と簡便かつ正確に洗浄対象ベッセル２を洗浄できると共に、製剤溶出試験装置１５の６個の洗浄対象ベッセル２に対して用意すべき洗浄手段は、１個の洗浄対象ベッセル２に見合った大きさの洗浄ノズル３を１個だけで済むので、簡易かつ小型になる作用効果が得られる。

これに加えて、排水後に必ず洗浄水が全流路を洗浄する為に、自らを浄化して汚染を防止する機能が効果を発揮する。

（３）第２の実施の形態
図１３〜図１５は第２の実施の形態を示し、図９〜図１３との対応部分に同一符号を付して示す。

この場合の洗浄操作部５０は、図１３に示すように、ダイヤフラムポンプで構成された１台の洗浄・排水ポンプ６０を有し、その流体入口Ｄ４側に電磁弁でなる流入側切換弁Ｖ１が設けられていると共に、流体出口Ｄ７側に電磁弁でなる流出側切換弁Ｖ２が設けられている。

この洗浄・排水ポンプ６０と流入側及び流出側切換弁Ｖ１及びＶ２は、図１４に示す操作制御回路５５の洗浄・排水スイッチＳＷ３、液面スイッチＳＷ２及び停止スイッチＳＷ５の動作に応じて、図１５に示す操作手順に従って洗浄ノズル３の洗浄水ノズル２７に洗浄水を供給すると共に、排水ノズル２５から排水液を引き出す動作をする。

この実施の形態の場合、洗浄・排水スイッチＳＷ３は、自己復帰型の中立接点Ｃと、洗浄側接点ＯＮ１及び排水側接点ＯＮ２とを有し、ユーザは中立接点Ｃを洗浄側接点ＯＮ１又は排水側接点ＯＮ２に切換操作することにより洗浄操作部５０に対して洗浄動作又は排水動作を指示するようになされている。

図１５の時点ｔ10以前においては、洗浄・排水スイッチＳＷ３が中立位置Ｃにあるので、洗浄側接点ＯＮ１がオフ動作にあり（図１５（Ａ））、洗浄・排水スイッチＳＷ３の排水側接点ＯＮ２もオフ状態にある（図１５（Ｂ））。

このとき洗浄リレーＫ１及び排水リレーＫ２は共に非励磁状態にあり（図１５（Ｃ）及び（Ｄ））、洗浄操作部５０（図１３）において洗浄リレーＫ１の常開接点Ｋ１−２ａがオフ動作していることにより、流入側切換弁Ｖ１が洗浄ノズル３の排水ノズル２５に連通した状態にあると共に、流出側切換弁Ｖ２が排水タンク１０に連通した状態になっている。

これにより、図１５（Ｆ）に示すように、流入側切換弁Ｖ１及び流入側Ｖ２が排水モードになっている。

このように洗浄リレーＫ１及び排水リレーＫ２が非励磁状態にあるとき、洗浄・排水ポンプ６０に対する駆動接点となる洗浄リレーＫ１の常開接点Ｋ１−３ａ及び排水リレーＫ２の常開接点Ｋ２−３ａが共にオフ動作していることにより、洗浄・排水ポンプ６０はオフ動作状態にある（図１４（Ｇ））。

この状態において、ユーザが、時点ｔ10において洗浄・排水スイッチＳＷ３を洗浄側接点ＯＮ１に切り換えると（図１４（Ａ））、洗浄リレーＫ１が励磁されることにより、当該洗浄リレーＫ１が停止スイッチＳＷ５−切換接点Ｋ１−１ｃ−常閉接点Ｋ２−１ｂを通じて自己保持状態になる。

これと共に、常開接点Ｋ１−３ａがオン動作することにより洗浄・排水ポンプ６０がオン動作する（図１５（Ｇ））。

これと共に、常開接点Ｋ１−２ａがオン動作することにより、流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２が洗浄モードに切り換わり（図１５（Ｆ））、流入側切換弁Ｖ１が洗浄水タンク６と連通する状態に切り換わると共に、流出側切換弁Ｖ２が洗浄水ノズル２７に連通する状態に切り換わる。

かくして洗浄・排水ポンプ６０は、洗浄水タンク６の洗浄水を洗浄ノズル３の洗浄水ノズル２７に供給して洗浄対象ベッセル２を洗浄する。

この状態になると、洗浄対象ベッセル２内の液面レベルが上昇して行き、やがて時点ｔ11において液面スイッチＳＷ２が動作すると（図１５（Ｅ））、この液面スイッチＳＷ２を通じて排水リレーＫ２がオン動作する（図１５（Ｄ））。

このとき常閉接点Ｋ２−１ｂがオフ動作することにより、停止スイッチＳＷ５−切換スイッチＫ１−１ｃ−常開接点Ｋ２−１ｂを通じた洗浄リレーＫ１の自己保持が解除される。

かくして洗浄リレーＫ１が非励磁になると共に排水リレーＫ２が励磁状態になったことにより、洗浄・排水ポンプ６０は常開接点Ｋ２−３ａを通じて動作し続けるのに対して、常開接点Ｋ１−２ａがオフ動作することにより、流入側切換弁Ｖ１が排水ノズル２５に連通しかつ流出側切換弁Ｖ２が排水タンク１０に連通する状態に切り換わる。

かくして流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２が排水モードに切り換わる（図１５（Ｆ））ことにより、洗浄対象ベッセル２に溜まっている洗浄後の洗浄水が洗浄排水液８として排水タンク１０に排水される。

この排水モードにおいて、やがて洗浄対象ベッセル２内の排水液が液面スイッチＳＷ４より下がることにより、時点ｔ12において当該液面スイッチＳＷ２がオフ動作するが、このとき排水リレーＫ２は停止スイッチＳＷ５−切換接点Ｋ１−１ｃの回路によって自己保持状態を維持するので、流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２は排水モードを維持する（図１５（Ｆ））。

この排水処理操作は、ユーザが洗浄ノズル３を現在洗浄しようとしている洗浄対象ベッセル２の洗浄状態及び排水状態を目視しながら作業でき、やがて当該洗浄対象ベッセル２の排水が終了したとき、ユーザは時点ｔ13において洗浄・排水スイッチＳＷ３を洗浄側接点ＯＮ１に切り換える（図１５（Ａ））。

このとき洗浄リレーＫ１が励磁されて切換接点Ｋ１−１ｃが洗浄接点側に切り換わることにより、排水リレーＫ２が非励磁となることにより、洗浄リレーＫ１が停止スイッチＳＷ５−切換接点Ｋ１−１ｃ−常閉接点Ｋ２−１ｂを通じて自己保持される。

かくして常開接点Ｋ１−２ａが閉じることにより流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２が洗浄モードに切り換わり（図１５（Ｆ））、洗浄・排水ポンプ６０は洗浄水タンク６から洗浄ノズル３に洗浄水を供給して再度洗浄対象ベッセル２を洗浄する状態になる。

この状態において、ユーザが、洗浄対象ベッセル２に溜まった洗浄後の洗浄水が液面スイッチＳＷ２が動作するまで液面が上がる前の時点ｔ14において洗浄・排水スイッチＳＷ１１を排水側接点ＯＮ２に切り換えると（図１５（Ｂ））、排水リレーＫ２が強制的に励磁されると共に、この励磁状態が停止スイッチＳＷ５−切換接点Ｋ１−１ｃの回路において自己保持されることにより、流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２が排水モードに切り換わり（図１５（Ｆ））、洗浄・排水ポンプ６０は洗浄対象ベッセル２からの排水をする。

その後ユーザが時点ｔ15において洗浄排水スイッチＳＷ３を洗浄側接点ＯＮ１側に長押しすると（図１５（Ａ））、洗浄リレーＫ１（図５（Ｃ））がオン動作して自己保持状態になる。

このとき排水リレーＫ２は自己保持を解除される（図１５（Ｄ））ことにより、流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２は洗浄モードに切り換わる（図１５（Ｆ））。

かくして洗浄対象ベッセル２は時点ｔ17に至るまで洗浄・排水スイッチＳＷ３が長押しされている間洗浄動作状態を続けるが、この間の時点ｔ16において液面スイッチＳＷ２がオン動作して（図１５（Ｅ））排水リレーＫ２が励磁されても（図１５（Ｄ））、洗浄・排水スイッチＳＷ３が洗浄側接点に長押しされていることにより、洗浄リレーＫ１の常開接点Ｋ１−２ａがオン動作を続けることによって、流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２は洗浄モードを続ける（図１５（Ｆ））。

かくしてユーザは、洗浄対象ベッセル２の洗浄を、液面スイッチＳＷ２が動作しても続けることができ、これにより洗浄対象ベッセル２を十分満足できるまで洗浄することができる。

洗浄・排水スイッチＳＷ３の洗浄側接点ＯＮ１への長押し状態が時点ｔ17において解除されると、これに応じて洗浄リレーＫ１がオフ動作し（図１５（Ｃ））、その切換接点Ｋ１−１ｃが排水リレーＫ２側に切り換わって、停止スイッチＳＷ５−切換接点Ｋ１−１ｃを通じて排水リレーＫ２の励磁状態が自己保持される（図１５（Ｄ））ことにより、流入側切換弁Ｖ１及び流出側切換弁Ｖ２が排水モードに切り換わって（図１５（Ｆ））、洗浄対象ベッセル２内の洗浄排水液を排水する。

以上の洗浄及び排水作業が終了すると、ユーザは時点ｔ18において停止スイッチＳＷ５を操作することにより（図１５（Ｈ））、洗浄リレーＫ１及び排水リレーＫ２の自己保持動作を解除することにより、ベッセル洗浄装置１は全体として停止状態に戻る。

かくしてユーザは当該洗浄対象ベッセル２に対する洗浄作業を終了したので、洗浄ノズル３のベッセル蓋部材２３及び先端側部材２２を当該洗浄対象ベッセル２から引き抜いて次の洗浄対象ベッセル２の洗浄に備えることができる。

以上の構成によれば、ベッセル洗浄装置１は、１台の洗浄・排水ポンプ６０を用いて、洗浄ノズル３による洗浄対象ベッセル２に対する洗浄処理と、排水処理とを、ユーザの希望に応じて行うことができる。

これに加えて、排水後に必ず洗浄水が全流路を洗浄するので、自らを浄化して汚染を防止する機能が効果を発揮する。

（４）変形例
上述の図１〜図１５の実施の形態においては、ベッセル蓋部材２３に液面スイッチＳＷ２を設けて、洗浄操作時に、洗浄対象ベッセル２が満水になったとき、これを液面スイッチＳＷ２の検出出力Ｓ２を操作制御回路５５に与えて自動的に対応処理するようにしたが、ユーザが洗浄対象ベッセル２の液面の高さを見て確認できることに基づいて、液面スイッチＳＷ２を省略して、満水時の処理をユーザの判断に任せるようにしても良い。

（５）第３の実施の形態
（５−１）図１６は第３の実施の形態を示すもので、図１との対応部分に、同一符号又はこれに添え字を付けて示す。

この実施の形態のベッセル洗浄装置１は、洗浄対象ベッセル２として、複数例えば３つの洗浄対象ベッセル２Ａ、２Ｂ及び２Ｃの第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃに対する洗浄処理を、共通に設けられた洗浄制御部７２によって連動するように制御する。

３つの洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃは、図１のベッセル洗浄装置１において、洗浄対象ベッセル２について、液面スイッチＳＷ２と、ベッセル蓋部材２３と、洗浄操作部５０とを設けないような構成を有し、これに代え、洗浄制御部７２によって各洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃに設けられた洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃと、排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃとを制御する。

この実施の形態の場合、製剤溶出試験装置１５のベッセル用ラック１６は、図２及び図３の場合と相違し、図１７に示すように、６個の洗浄対象ベッセル２がマトリクス状に２行３列に配置されており、洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃは各行毎に横方向に３列の洗浄対象ベッセル２Ａ、２Ｂ及び２Ｃ（すなわち１行分の洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１及び２Ｃ１、又は２Ａ２、２Ｂ２及び２Ｃ２）が１回の洗浄処理操作毎に選定される。

洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１及び２Ｃ１（又は２Ａ２、２Ｂ２及び２Ｃ２）は、図１８及び図１９に示すように、三連の洗浄ノズルホルダ７３によって保持された３本の洗浄ノズル３によって同時に洗浄操作処理される。

洗浄ノズルホルダ７３は、図２０、図２１、図２２及び図２３に示すように、長方形状の４枚の支持板、すなわち第１支持板７４、第２支持板７５、第３支持板７６及び第４支持板７７を有し、第１支持板７４、第２支持板７５及び第４支持板７７の下端面に１行３列分の洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１及び２Ｃ１（又は２Ａ２、２Ｂ２及び２Ｃ２）に対応する支持環部材７８Ａ、７８Ｂ及び７８Ｃが設けられている。

第２支持板７５の上及び下端縁には、断面Ｕ字状の案内レール７５Ａ及び７５Ｂが互いに対向するように設けられ、当該案内レール７５Ａ及び７５Ｂに対して左側から第１支持板７４の右端部が摺動自在に差し込まれることにより、第２支持板７５の左端部に第１支持板７４が連結保持される。

かくして第１支持板７４及び第２支持板７５が連結されたことにより第１支持板７４の左端位置に設けられた支持環部材７８Ａがベッセル用ラック１６の洗浄対象ベッセル２Ａ１（２Ａ２）に位置合せされたとき、第２支持板７５の右端位置に設けられた支持環部材７８Ｂがベッセル用ラック１６の右隣の洗浄対象ベッセル２Ｂ１（又は２Ｂ２）に位置合せされる。

当該位置合せ状態は、止めねじ７５Ｃによって第１支持板７４及び第２支持板７５の板厚を貫通するように係止することにより固定される。

この実施の形態の場合第２支持板７５の右端には、円筒形状の一対のヒンジ部材７５Ｄ及び７５Ｅが設けられて、当該ヒンジ部材７５Ｄ及び７５Ｅ間に第３支持板７６の左端に設けられた円筒状ヒンジ部材７６Ａが係合した状態でピン７５Ｆを差し込むことにより、第３支持板７６を第２支持板７５に対して折曲り自在に連結するヒンジ７９が形成されている。

第３支持板７６の上及び下縁部には断面Ｕ字状の案内レール７６Ｂ及び７６Ｃが設けられ、当該案内レール７６Ｂ及び７６Ｃに右方向から第４支持板７７が摺動自在に差し込まれることにより、第４支持板７７が第３支持板７６に結合される。

当該結合状態は、止めねじ７６Ｄによって固定される。

かくして第２支持板７５の支持環部材７８Ｂがベッセル用ラック１６の中央位置にある洗浄対象ベッセル２Ｂ１（又は２Ｂ２）に位置合せされたとき、第３支持板７６を介して第４支持板７７の支持環部材７８Ｃが右端の洗浄対象ベッセル２Ｃ１（又は２Ｃ２）と対応する位置に配置される。

この実施の形態の場合、第１支持板７４及び第４支持板７７には、板面と直交する方向に突出するように棒状の把持部材８０Ａ及び８０Ｂが設けられ、これにより、ユーザが第１、第２及び第４の支持板７４、７５及び７７の支持環部材７８Ａ、７８Ｂ及び７８Ｃにそれぞれ洗浄ノズル３を装着した状態において、当該洗浄ノズル３を対応する洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１及び２Ｃ１（又は２Ａ２、２Ｂ２及び２Ｃ２）に挿入した状態を得る際に、ユーザが把持部材８０Ａ及び８０Ｂを手に持って三連の洗浄ノズルホルダ７３を所定の形状（この実施の形態の場合真直に延長した状態）に設定できるようになされている。

洗浄制御部７２は、防水型筐体でなるケース７２Ａ内に収納された電気制御要素で構成されている操作制御回路８５と洗浄・排水駆動回路８６とで構成されている。

操作制御回路８５は、図２４に示すように、商用電源に接続されたコンセント９１Ａから電源を供給されるブレーカスイッチ９１Ｂでなる電源スイッチ９１を含む起動回路９０を有し、オペレータが電源スイッチ９１を入り操作をすることにより、第１電源９２Ａ、第２電源９２Ｂ及び第３電源９２Ｃの電源＋１２Ｖ−１、＋１２Ｖ−２及び＋１２Ｖ−３を図２５（Ａ）の時点ｔ21において立ち上げる。

これらの電源＋１２Ｖ−１、＋１２Ｖ−２、＋１２Ｖ−３は、操作回路９３の排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃ用の排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７を洗浄タイマＴＭの常閉接点ＴＭ−ｂを介して同時に励磁する。

これに対して洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃ用の洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６は安全蓋制御リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−２ａを通じ、さらに洗浄タイマＴＭの常開接点ＴＭ−ｂを通じて＋１２Ｖ−１、＋１２Ｖ−２及び＋１２Ｖ−３に接続されていることにより、洗浄タイマＴＭがオン動作したとき当該洗浄タイマＴＭの限時時間Ｔ１の間同時に励磁される。

ここで洗浄タイマＴＭは、洗浄制御部７２のケース７２Ａ上に設けられた洗浄スイッチＳＷ１１が図２５（Ｂ）の時点ｔ22においてオン操作されたとき、安全蓋制御リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−１ａを通じてオン動作することにより、その常開接点ＴＭ−ａ、安全蓋制御リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−１ａを通じて洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃ用の洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６をオン動作させる（図２５（Ｃ））。

このとき図２５（Ｅ）に示すように、タイマ回路ＴＭは、洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃ用の洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６をオン動作させた洗浄モードで設定時間Ｔ１の限時動作を開始する。

その後図２５（Ｅ）に示すように、タイマ回路ＴＭが設定時間Ｔ１の限時動作を時点ｔ23で終了すると、洗浄タイマＴＭの常開接点ＴＭ−ａがオフ動作すると同時に常閉接点ＴＭ−ｂがオン動作することにより、洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃ用の洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６が非励磁となると同時に、排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃ用の排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７がオン動作することにより、洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃを排水モードに切り換える。

洗浄・排水駆動回路８６は、図２６に示すように、第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃに対応する第１、第２及び第３駆動回路１０１Ａ、１０１Ｂ及び１０１Ｃを有し、当該第１、第２及び第３駆動回路１０１Ａ、１０１Ｂ及び１０１Ｃによって第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃの洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃを駆動することにより、それぞれ洗浄液タンク６の洗浄水を洗浄水パイプ２８を通じて洗浄水ノズル２７から洗浄ノズル３に対して洗浄水を供給する。

また第１、第２、第３駆動回路１０１Ａ、１０１Ｂ及び１０１Ｃは第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃの排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃを駆動することにより、洗浄ノズル３の排水ノズル２５から排水パイプ２６を介して洗浄排水液を抜き取って排水タンク１０に回収する。

第１、第２及び第３駆動回路１０１Ａ、１０１Ｂ及び１０１Ｃには、第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃに対する第１、第２及び第３ノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４及びＳＷ５が設けられ、当該第１、第２及び第３ノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４並びにＳＷ５が選択操作されたとき、第１、第２並びに第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ並びに７１Ｃの洗浄リレーＫ１２の常開接点Ｋ１２−１ａ及び排水リレーＫ１３の常開接点Ｋ１３−１ａ、洗浄リレーＫ１４の常開設定Ｋ１４−１ａ及び排水リレーＫ１５の常開接点Ｋ１５−１ａ並びに洗浄リレーＫ１６の常開点Ｋ１６−１ａ及び排水リレーＫ１７の常開接点Ｋ１７−１ａを通じて洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃ並びに排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃに駆動電源を供給するようになされている。

この実施の形態の場合、洗浄制御部７２のケース７２Ａには、安全蓋スイッチＳＷ１２が設けられ、ケース７２Ａの安全蓋が閉じられたとき、安全蓋スイッチＳＷ１２がオン動作することにより、操作制御回路８５の操作回路９３に設けられた安全蓋制御リレーＫ１１を励磁する。

安全蓋制御リレーＫ１１が励磁したとき、その常開接点Ｋ１１−１ａを通じて洗浄タイマＴＭをオン動作させることにより、その常開接点ＴＭ−ａをオン動作させると共に常閉接点ＴＭ−ｂをオフ動作させる。

洗浄タイマＴＭはオン動作したとき限時動作を開始し、所定の限時時間Ｔ１が経過したとき常開接点ＴＭ−ａをオフ動作させると共に常閉接点ＴＭ−ｂをオン動作させる。

洗浄タイマＴＭの常開接点ＴＭ−ａは安全蓋制御リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−２ａを通じてその限時時間Ｔ１の間制御リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６を励磁することにより当該限時時間Ｔ１の間洗浄・排水駆動回路８６に設けられた常開接点Ｋ１２−１ａ、Ｋ１４−１ａ及びＫ１６−１ａをオン動作させることにより、洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃを洗浄動作させる。

洗浄タイマＴＭの常閉接点ＴＭ−ｂは洗浄タイマＴＭが励磁動作していないとき、排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７を励磁動作させ、洗浄・排水駆動回路８６に設けられている常開接点Ｋ１３−１ａ、Ｋ１５−１ａ及びＫ１７−１ａをオン動作させることにより排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃを排水動作させる。

以上の構成において、ユーザがベッセル用ラック１６の洗浄対象ベッセル２を洗浄処理する際には、ユーザは三連の洗浄ノズルホルダ７３の支持環部材７８Ａ、７８Ｂ及び７８Ｃに３本の洗浄ノズル３を装着した状態で、１行３列分の洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１、２Ｃ１（又は２Ａ２、２Ｂ２、２Ｃ２）に挿入するように洗浄ノズルホルダ７３をベッセル用ラック１６に挿着し、この状態において洗浄制御部７２のケース７２Ａ上に設けられている第１、第２及び第３ノズル選択スイッチＳＷ１３、ＳＷ１４及びＳＷ１５をオン操作する。

この状態において、ケース７２Ａの安全蓋が閉じられており、その結果ケース７２Ａ内に洗浄水又は排液水が飛び込むおそれがないときには安全蓋スイッチＳＷ１２がオン動作している。

この状態において、ユーザは電源スイッチ９１をオン動作させると、操作制御回路８５及び洗浄・排水駆動回路８６に第１、第２及び第３電源９２Ａ、９２Ｂ及び９２Ｃから電源が供給される（図２５（Ａ）の時点ｔ21の状態）。

このとき操作制御回路８５の排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１６が洗浄タイマＴＭの常閉接点ＴＭ−ｂを通じて励磁されることにより、洗浄・排水駆動回路８６の排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃが排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７の常開接点Ｋ１３−１ａ、Ｋ１５−１ａ及びＫ１７−１ａを通じて駆動されて、図２５（Ｄ）に示すように排水動作をする。

これによりベッセル用ラック１６に設けられている洗浄対象ベッセル２のうち１行分の洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１、２Ｃ１（又は２Ａ２、２Ｂ２、２Ｃ２）に残留している排水液が排水パイプ２６を通じて第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃの排水タンク１０にそれぞれ排水される。

当該排水状態はユーザが目視確認できることにより、ユーザが洗浄処理をしたい時点ｔ22においてケース７２Ａ上に設けられている洗浄スイッチＳＷ１１（図２５（Ｂ））を操作すると、操作制御回路８５において洗浄タイマＴＭが励磁されることにより、その限時時間Ｔ１の間常開接点ＴＭ−ａがオン動作すると同時に常閉接点ＴＭ−ｂがオフ動作する。

このとき洗浄タイマＴＭの常開接点ＴＭ−ａを通じて洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６が励磁されることにより、洗浄・排水駆動回路８６の常開接点Ｋ１２−１ａ、Ｋ１４−１ａ及びＫ１６−１ａがオン動作することにより、第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃの洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃが駆動する（図２５（Ｃ））と同時に、排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７が非励磁状態になることにより、その常開接点Ｋ１３−１ａ、Ｋ１５−１ａ及びＫ１７−１ａを介して排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃが非動作状態になる。

かくしてベッセル用ラック１６の洗浄対象ベッセル２のうち、１行３列分の洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１、２Ｃ１（又は２Ａ２、２Ｂ２、２Ｃ２）が洗浄ノズル３から噴射される洗浄水によって洗浄される。

当該洗浄動作は、洗浄タイマＴＭの限時時間Ｔ１の間続けられ（図２５（Ｅ））、やがて当該限時時間Ｔ１が時点ｔ23において終了すると、洗浄タイマＴＭの常開接点ＴＭ−ａがオフ動作すると同時に、常閉接点ＴＭ−ｂがオン動作することにより、洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６がオフ動作し（図２５（Ｃ））、かつ排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７がオン動作することにより（図２５（Ｄ））、第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃの排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃが排水動作をする。

ここで、洗浄タイマＴＭは、図２５（Ｅ）に示すように、限時時間Ｔ１の限時動作を終了した時、限時動作終了表示ｄ１を点灯することにより、ユーザに知らせる。

このとき洗浄水ポンプ５Ａは、洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６はがオフ動作することにより洗浄水を洗浄ノズル３に供給する動作を停止する。

このような三連の洗浄ノズルホルダ７３に装着された３本の洗浄ノズル３による排水動作は、ユーザが目視確認できることにより時点ｔ24において洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１、２Ｃ１（又は２Ａ２、２Ｂ２、２Ｃ２）において排水液が無くなったことを確認することにより、当該３本の洗浄対象ベッセルの１回の洗浄動作を終了する。

この実施の形態の場合時点ｔ24において１回分の洗浄排水動作を終了したとき、例えば時点ｔ24においてユーザが洗浄スイッチＳＷ１１を操作すれば、洗浄タイマＴＭが新たに限時時間Ｔ１の限時動作を開始し、これにより洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃが洗浄動作をする（図２５（Ｃ））と共に、排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃがその排水動作を停止する（図２５（Ｄ））。

この状態において限時時間Ｔ１の間（ｔ24〜ｔ25）にケース２７Ａの安全蓋を開いて安全蓋スイッチＳＷ１２をオフ動作させると（図２５（Ｇ））、安全扉制御リレーＫ１１が非励磁になることにより、その常開接点Ｋ１１−２ａがオフ動作することにより洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６がオフ動作することによって洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃが洗浄動作を停止する（図２５（Ｃ））。

このとき当該限時時間Ｔ１の間に安全蓋が閉められると、その時点において安全蓋制御リレーＫ１１が励磁することにより、その常開接点Ｋ１１−２ａが閉じることによって洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃによる洗浄動作を続ける。

このときユーザが洗浄スイッチＳＷ１１を操作しても（図２５（Ｂ））、当該洗浄スイッチＳＷ１１への操作が無視されて洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃ（図２５（Ｃ））及び排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃの排水動作（図２５（Ｄ））に影響を与えないようになされている。

かくして、洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃによる洗浄動作をしている間に不用意に安全蓋が開けられたとしても、洗浄水ポンプが停止することにより洗浄水が不用意に飛び散るような不都合を有効に防止することができる。

またこの実施の形態の場合、時点ｔ25〜ｔ26間の動作として示すように、排水動作をしている（図２５（Ｄ））間にノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４又はＳＷ５をオフ動作させ（図２５（Ｆ））たとき、又は時点ｔ26〜ｔ27について洗浄タイマＴＭが励磁動作をすることにより洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃをオン動作させている間に、ノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４又はＳＷ５をオフ動作させる（図２５（Ｆ））と、洗浄・排水駆動回路８６において第１、第２又は第３洗浄機構７１Ａ、７１Ｂ又は７１Ｃの洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃ及び排水ポンプ９Ａ〜９Ｃを停止動作させる（図２５（Ｄ）及び図２５（Ｃ））。

これにより、ノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４、ＳＷ５の選択の仕方によって、洗浄処理が必要ではない洗浄対象ベッセル２を除いた他の洗浄対象ベッセルの洗浄処理を簡便に選択しながら洗浄処理を実行できる。

またこの実施の形態の場合、時点ｔ27以降の時点ｔ28において、安全蓋スイッチＳＷ１２がオフ動作している状態（従って安全蓋が開いた状態）において、ユーザが洗浄スイッチＳＷ１１を押圧操作すると（図２５（Ｂ））、操作制御回路８５において安全蓋制御リレーＫ１１の常開設点Ｋ１１−２ａがオフ動作することにより、洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６が非励磁状態を維持するのに対して、排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７は洗浄タイマＴＭの常閉接点ＴＭ−ｂを通じて励磁状態を維持することにより、洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃは洗浄動作をしないのに対して、排水ポンプ９Ａ〜９Ｃは引き続き排水動作をする。

かくして、不用意に安全蓋を開いても噴射圧及び噴射量が大きい洗浄水が供給されない状態になっているので、不用意にケース７２Ａ内の電子回路に洗浄水をかけないようにできる。

かくして、すべての処理動作が行われたので、時点ｔ29において電源スイッチ９１をオフ動作する（図２５（Ａ））ことにより、すべての洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃ及び排水ポンプ９Ａ〜９Ｃを停止動作させた休止状態にできる。

かくしてユーザは三連の洗浄ノズルホルダ７３によって保持された３本の洗浄ノズル３によって、ベッセル用ラック１６に設けられた洗浄対象ベッセル２Ａ１〜２Ｃ１（又は２Ａ２〜２Ｃ２）を３本ずつ処理できることにより、効率良く製剤溶出試験装置１５の洗浄を行うことができる。

かくするにつき、ユーザが洗浄処理操作をするときは、洗浄対象となる洗浄対象ベッセルを目視確認しながら手動で簡便にかつ安全に作業を行うことができる。

（５−２）図２７及び図２８は第３の実施の形態の変形例（１）及び（２）を示す。

図１９の場合には、三連の洗浄ノズルホルダ７３を、１列３行の洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１、２Ｃ１又は２Ａ２、２Ｂ２、２Ｃ２を横１列に配列しているものとして、これに適合するように、洗浄ノズル３を支持する支持環部材７８Ａ、７８Ｂ及び７８Ｃが横１列に配列するように、ヒンジ７９を直線状に伸ばした状態で適用するようにしたが、図２７及び図２８の場合は、これに代えて、ヒンジ７９を折り曲げるように使用することにより、２行３列に設けられている洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１、２Ｃ１及び２Ａ２、２Ｂ２、２Ｃ２のうちから互いに異なる行の３つを選択して洗浄ノズル３を挿入する。

図２７の場合は、２行目右側の２つの洗浄対象ベッセル２Ｂ２及び２Ｃ２と、１行目右側の１つの洗浄対象ベッセル２Ｃ１に洗浄ノズル３を挿入する。

これに対して図２８の場合は、１行目左側の２つの洗浄対象ベッセル２Ａ１及び２Ｂ１と、２行目左側の１つの洗浄対象ベッセル２Ａ２に洗浄ノズル３を挿入する。

図２７及び図２８の構成によれば、三連の洗浄ノズルホルダ７３を折り曲げて使用できることにより、ユーザは必要に応じて多様な使い方をしながらベッセル用ラック１６上に予め配置位置が決まっている複数の洗浄対象ベッセル２を簡便かつ効率良く洗浄処理することができるようなベッセル洗浄装置１を実現できる。

（５−３）図２９及び図３０は、図１６〜図２６について上述した第３の実施の形態における変形例（３）を示すもので、図２４及び図２５との対応部分に同一符号又はこれに添え字を付して示す。

上述の第３の実施の形態においては、洗浄タイマＴＭの限時時間Ｔ１の間洗浄対象ベッセル２を洗浄するようにしたが、図２９の操作制御回路８５Ｘは、当該洗浄タイマＴＭに代えて、洗浄用タイマＴＭ１と全行程時間タイマＴＭ２を設けた構成を有する。

これに対して、洗浄・排水駆動回路８６は、図２６のものを適用する。

当該全行程時間タイマＴＭ２の限時時間Ｔ１２（図３０（Ｆ））は、洗浄タイマＴＭ１が限時動作を開始することにより、洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃが洗浄対象ベッセル２（２Ａ１〜２Ｃ１、又は２Ａ２〜２Ｃ２）に洗浄水を供給している洗浄時間Ｔ１１（図３０（Ｆ））に対して、当該洗浄時間Ｔ１１と同時に開始した後、洗浄時間Ｔ１１の終了時点から洗浄対象ベッセル２に供給された洗浄水を排水ポンプ９Ａ〜９Ｃによって排水し終わるまでの時間（これを全行程時間と呼ぶ）に選定されている。

この図２９の実施の形態の場合、操作制御回路８５Ｘは、図２４の操作制御回路８５の対応部分に同一符号を付して示すように、洗浄スイッチＳＷ１１がオン操作されたとき、安全蓋スイッチＳＷ１２によってオン動作する安全蓋制御リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−１ａ、全行程時間タイマＴＭ２の常開接点ＴＭ２−２ｂを介して洗浄タイマＴＭ１が励磁されると共に、当該励磁状態を洗浄タイマＴＭ１の常開接点ＴＭ１−１ａを介して自己保持するようになされている。

洗浄タイマＴＭ１が励磁状態になったとき、その切換接点ＴＭ１−２ｃがその常開接点ａを通じ、さらに安全蓋制御リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−２ａを通じて、洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６を励磁することにより洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃを駆動するようになされていると共に、洗浄タイマＴＭ１が非励磁になってその切換接点ＴＭ１−２ｃが常閉接点ｂ側に切り換えられたとき、排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７を励磁することにより排水ポンプ９Ａ〜９Ｃを駆動するようになされている。

全行程時間タイマＴＭ２は洗浄タイマＴＭ１の切換接点ＴＭ１−２ｃの常開接点ａに接続され、かくして洗浄タイマＴＭ１が励磁されて洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃが駆動されたとき、全行程時間タイマＴＭ２が励磁されると共に、その常開接点ＴＭ２−１ａによって当該励磁状態に自己保持される。

かくして全行程時間タイマＴＭ２は洗浄タイマＴＭ１が励磁されたときこれと同時に励磁され、この励磁状態を自己保持するようになされている。

この実施の形態の場合の操作制御回路８５Ｘは、図２６について上述した洗浄・排水駆動回路８６を用いて、図３０に示す操作手順に従って、第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃを駆動制御する。

時点ｔ31において、ユーザが電源スイッチ９１をオン動作させることにより第１、第２及び第３電源９２Ａ、９２Ｂ及び９２Ｃをオン動作させたとき（図３０（Ａ））、洗浄タイマＴＭ１の切換接点ＴＭ１−２ｃの常閉接点ｂを通じて排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７が励磁される（図３０（Ｄ））ことにより、第１、第２及び第３駆動回路１０１Ａ、１０１Ｂ及び１０１Ｃの排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃをオン動作させる。

かくして洗浄対象ベッセル２（２Ａ１〜２Ｃ１、又は２Ａ２〜２Ｃ２）の残留液が排水された状態において、ユーザが時点ｔ32において洗浄スイッチＳＷ１１をオン動作させると（図３０（Ｂ））、このとき安全蓋スイッチＳＷ１２がオン動作している（図３０（Ｈ））ことにより安全蓋制御リレーＫ１１が励磁した状態にあるので、その常開接点Ｋ１１−１ａ、全行程時間タイマＴＭ２の常閉接点ＴＭ２−２ｂを通じて洗浄タイマＴＭ１の限時時間Ｔ１１の限時動作を開始し（図３０（Ｅ））、当該励磁状態がその常開接点ＴＭ１−１ａを通じてその限時時間Ｔ１１の間自己保持される。

このとき洗浄タイマＴＭ１の切換接点ＴＭ１−２ｃが常開接点ａ側に切り換わることにより、安全蓋リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−２ａを通じて洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６が励磁される（図３０（Ｃ））。

これにより第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃの洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ及び５Ｃが洗浄ノズル３に対して洗浄水を供給することにより洗浄時間Ｔ１１が経過する時点ｔ33まで洗浄処理をする。

このとき、全行程時間タイマＴＭ２が洗浄タイマＴＭ１の切換接点ＴＭ１−２ｃの常開接点ａを通じて励磁され、洗浄タイマＴＭ１の限時時間Ｔ１１より長い全行程時間Ｔ１２が経過する時点ｔ35まで自己保持状態を維持する。

かくして時点ｔ33において洗浄タイマＴＭ１の限時時間Ｔ１１が経過してその常開接点ＴＭ１−１ａがオフ動作すると、洗浄タイマＴＭ１の自己保持状態が解除されることにより、その切換接点ＴＭ１−２ｃが常閉接点ｂ側に切り換わって、当該時点ｔ33から排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７が励磁状態になる。

これにより時点ｔ33が過ぎた後、時点ｔ35において全行程時間タイマＴＭ２の限時時間Ｔ１２が経過した後も、排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７の励磁状態が維持されることにより、第１、第２及び第３洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ及び７１Ｃの排水ポンプ９Ａ、９Ｂ及び９Ｃが排水動作を続ける。

これにより洗浄対象ベッセルに残った洗浄水がほぼ完全に排水される。

この排水動作において、洗浄時間Ｔ１１が終了した時点ｔ33から全行程時間Ｔ１２が終了する時点ｔ35間の時点ｔ34において洗浄スイッチＳＷ１１が操作されても（図３０（Ｂ））、全行程時間タイマＴＭ２の常閉接点ＴＭ２−２ｂがオフ動作していることにより、洗浄タイマＴＭ１がオン動作しないので、洗浄動作を開始せずに排水動作を続ける（図３０（Ｃ）及び（Ｄ））。

これにより全行程時間Ｔ１２が終了するまでの間の排水動作が確保されることにより、洗浄対象ベッセル２に過剰な洗浄水を供給させないようにできる。

これに対して全行程時間Ｔ１２が終了した時点ｔ35においては、全行程時間タイマＴＭ２の常開接点ＴＭ２−１ａがオフ動作して全行程時間タイマＴＭ２の自己保持が解除されることにより、その後の任意の時点ｔ36において洗浄スイッチＳＷ１１が操作されると、このときオン動作状態に復帰した全行程時間タイマＴＭ２の常閉接点ＴＭ２−２ｂを通じて洗浄タイマＴＭ１が励磁されると共に、その常開接点ＴＭ１−１ａによって自己保持されることにより、再度洗浄時間Ｔ１１の限時動作が開始する（図３０（Ｅ））。このとき、その切換接点ＴＭ１−２ｃを通じて全行程時間タイマＴＭ２が励磁されると共に、その常開接点ＴＭ２−１ａによって自己保持されることにより、再度洗浄動作を開始する（図３０（Ｃ））と共に、排水動作を停止させる（図３０（Ｄ））動作を繰り返す。

この洗浄・排水動作時において、例えば時点ｔ37〜ｔ38の間に安全蓋スイッチＳＷ１２がオフ動作したとすると（図３０（Ｈ））、当該オフ動作をしている間（ｔ37〜ｔ38）の間、安全蓋制御リレーＫ１１側がオフ動作して、その常開接点Ｋ１１−２ａがオフ動作すると共に、洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６が非励磁状態になることにより、洗浄動作を停止する。

このとき安全蓋スイッチＳＷ１２が時点ｔ38においてオン動作に復帰すると、安全蓋制御リレーＫ１１の常開接点Ｋ１１−２ａが直ちにオン動作に復帰することにより洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６による洗浄動作が復帰される。

その後の時点ｔ39においてユーザが洗浄スイッチＳＷ１１を操作すると（図３０（Ｂ））、洗浄タイマＴＭ１はその常開接点ＴＭ１−１ａによって自己保持していてその切換接点ＴＭ１−２ｃが常開接点ａ側に切り換わった状態を維持していることにより、洗浄動作を維持すると共に排水動作をしない状態を維持する。

かくして、洗浄制御部７２のケース７２Ａの蓋が洗浄動作時に誤って開かれたとしても、当該安全蓋が閉じられるまで洗浄動作を停止することにより洗浄ノズル３による洗浄水がケース７２Ａ内に飛散するおそれを有効に回避し得る。

この場合もｔ40において洗浄時間Ｔ１１が終了すると洗浄動作を停止し（図３０（Ｃ））、全行程時間Ｔ１２における排水動作を開始する（図３０（Ｄ））。

この排水動作期間ｔ40〜ｔ43内の時点ｔ41〜ｔ42において、第１、第２及び第３ノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４、ＳＷ５がオフ操作されると（図３０（Ｇ））、当該オフ操作された系統の排水ポンプ９Ａ、９Ｂ、９Ｃが排水動作を停止する（図３０（Ｄ））。

同じように、その後の洗浄スイッチＳＷ１１の操作動作期間（ｔ44〜ｔ48）について示すように、洗浄時間Ｔ１１において第１、第２及び第３ノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４及びＳＷ５のいずれかが時点ｔ45〜ｔ46の間にオフ操作されたとき（図３０（Ｇ））、対応する洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ、５Ｃがオフ動作する（図３０（Ｃ））。

このようにして洗浄動作時又は排水動作時に第１、第２、第３の選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４、ＳＷ５のいずれかがオフ操作されたときには、対応する洗浄水ポンプ５Ａ、５Ｂ、５Ｃ又は排水ポンプ９Ａ、９Ｂ、９Ｃが停止することにより、第１、第２及び第３の洗浄機構部７１Ａ、７１Ｂ、７１Ｃのいずれか１つをユーザが洗浄処理を停止させたい場合には、これに確実に応動動作させることができる。

ユーザが時点ｔ51において電源スイッチ９１をオフ動作させることにより、第１、第２及び第３電源９２Ａ、９２Ｂ及び９２Ｃをオフ動作させれば、操作制御回路８５Ｘ及び洗浄・排水駆動回路８６の洗浄操作がすべて停止する。

ここで、洗浄タイマＴＭ１は、図３０（Ｅ）に示すように、限時時間Ｔ１１の限時動作を終了した時、限時動作終了表示ｄ１１を点灯することにより、ユーザに知らせる。

また、全行程時間タイマＴＭ２は、図３０（Ｆ）に示すように、限時時間Ｔ１２の限時動作を終了した時、限時動作終了表示ｄ１２を点灯することにより、ユーザに知らせる。

これによりユーザは、洗浄水ポンプ５Ａ〜５Ｃが洗浄動作をすることにより洗浄機構部７１Ａ〜７１Ｃが洗浄動作を行っていることを目視確認できると共に、限時動作終了表示ｄ１１が点灯したことを目視することにより洗浄機構部７１Ａ〜７１Ｃが排水動作に切り換わったことを確認でき、その後限時動作表示ｄ１２が点灯したことを目視することにより洗浄機構部７１Ａ〜７１Ｃが引き続き排水動作を行っていることを確認できる。

かくしてユーザは、各洗浄機構部７１Ａ〜７１Ｃを処理動作状態を的確に把握しながら、ベッセル洗浄装置１を全体として安全に手動で洗浄処理を行うことができる。

図２９及び図３０の構成によれば、洗浄タイマＴＭ１の限時時間Ｔ１１の間、原則として洗浄動作を行うと共に、当該洗浄タイマＴＭ１の限時動作が終了した後全行程時間タイマＴＭ２の限時時間Ｔ１２の間排水動作を維持するようにしたことにより、ベッセル用ラック１６の６個の洗浄対象ベッセル２に対して十分な洗浄水による洗浄と、当該洗浄後の排液の排水と、ユーザが目視確認しながら簡便に、かつ確実に洗浄操作を行うことができるようなベッセル洗浄装置を実現できる。

（６）第４の実施の形態
（６−１）図３１は第４の実施の形態を示すもので、図１６の第３の実施の形態との対応部分に同一符号を付して示すように、図１６の場合の３つの洗浄機構部７１Ａ〜７１Ｃのうちの１つ、例えば第１洗浄機構部７１Ａと同様の構成を有する。

この場合の洗浄ノズルホルダ７１Ａは図３２及び図３３に示すように、図１８の洗浄ノズルホルダ７３のうちの第１支持板７４（図２０）と同様の構成の支持板７４Ａの支持環部材７８Ａによって、１本の洗浄ノズル３を支持している。

かくしてユーザは、図１７について上述したベッセル用ラック１６に設けられた６個の洗浄対象ベッセル２について、図３４に示すように、洗浄ノズルホルダ７３Ａの把持部材８０Ａによって２行３列に設けられた６個の洗浄対象ベッセル２Ａ１、２Ｂ１、２Ｃ１及び２Ａ２、２Ｂ２、２Ｃ２に１本ずつ洗浄ノズル３を装着して洗浄操作をする。

この実施の形態の場合の操作制御回路８５Ｙ及び洗浄・排水駆動回路８６Ｙは、図３５及び図３６に示すように、図２４及び図２６について上述した操作制御回路８５及び洗浄・排水駆動回路８６のうち、１つのノズル選択スイッチに対応する１系統分の洗浄水ポンプ及び排水ポンプ、例えば第１ノズル選択スイッチＳＷ３に対応する洗浄水ポンプ５Ａ及び排水ポンプ９Ａを駆動制御する構成を有する。

かくして、操作制御回路８５Ｙ及び洗浄・排水駆動回路８６Ｙは、図３７に示す操作手順に従って、６個の洗浄対象ベッセル２Ａ１〜２Ｃ２を、ユーザが１つずつ洗浄処理するような操作を実行する。

図３７の操作手順は、図２５の操作手順のうち、図２５（Ｆ）に示すような第１〜第３ノズル選択スイッチＳＷ３〜ＳＷ５についての操作を除いて(ノズル選択スイッチは設けられていないので)、時点ｔ21〜ｔ29の操作と同様の操作を行う。

すなわち、ユーザが時点ｔ21において第１電源９２Ａをオン動作させた状態において（図３７（Ａ））、時点ｔ22において洗浄スイッチＳＷ１１をユーザがオン操作することにより（図３７（Ｂ））、洗浄リレーＫ１２をオン動作させる（図３７（Ｃ））と共に、洗浄タイマＴＭの限時動作を開始させ（図３７（Ｅ））、洗浄水ポンプ５Ａを洗浄動作させる（図３６）。

そして洗浄タイマＴＭが時点ｔ23において限時動作を終了したとき（図３７（Ｅ））、洗浄リレーＫ１２（図３７（Ｃ））をオフ動作させると共に、排水リレーＫ１３（図３７（Ｄ））をオン動作させることにより、排水ポンプ９Ａ（図３６）を排水動作させる。

この状態はその後の時点ｔ24においてユーザが新たに洗浄スイッチＳＷ１１をオン動作させる（図３７（Ｂ））まで維持され、当該操作時点ｔ24から新たな洗浄動作が開始される。

ユーザは、図３７の時点ｔ24〜ｔ29の操作手順について、図２５の時点ｔ24〜ｔ29の操作手順と同じように、洗浄操作を行う。

かくして操作制御回路８５Ｙ及び洗浄・排水駆動回路８６Ｙによって、１系統分の洗浄ノズルホルダ７３Ａに保持された洗浄ノズル３によって洗浄対象ベッセル２を１つずつ洗浄処理することができる。

以上の構成によれば、洗浄タイマＴＭを用いてユーザが手動操作によって洗浄対象ノズルを１つずつ洗浄できることにより、複数例えば６個の洗浄対象ベッセル２が設けられたベッセル用ラック１６を簡便な操作で確実に洗浄することができるベッセル洗浄装置１を実現できる。

（６−２）図３８は図３１〜図３７について上述した第４の実施の形態の変形例を示すもので、図２９との対応部分に同一符号及びこれに添え字を付して示す。

図３８の操作制御回路８５Ｚは、図３１〜図３７について上述した第４の実施の形態のうち、図３５の操作制御回路８５Ｙと置き換えると共に、図３６の洗浄・排水駆動回路８１Ｙと組み合わせて使用する。

図３８の操作制御回路８５Ｚは、図２９の操作制御回路８５Ｘが三連の洗浄ノズルホルダによって３つの洗浄ノズルを用いて洗浄処理する場合に適用されるものであるのに対して、図３２の一連の洗浄ノズルホルダ７３Ａを用いて洗浄処理を行う際に、図２９の場合と同様に、洗浄タイマＴＭ１と全行程時間タイマＴＭ２とによって洗浄リレーＫ１２と排水リレーＫ１３と制御する。

この洗浄リレーＫ１２及び排水リレーＫ１３の制御は、図２９の操作制御回路８５Ｘにおける３つの洗浄リレーＫ１２、Ｋ１４及びＫ１６のうちの１つ、すなわち洗浄リレーＫ１２だけを残し、また３つの排水リレーＫ１３、Ｋ１５及びＫ１７のうちの１つの排水リレーＫ１３だけを残した構成を有する。

かくして操作制御回路８５Ｚは、図３０との対応部分に同一符号を付して図３９に示すように、図３０の操作手順のうち、ノズル選択スイッチＳＷ３、ＳＷ４、ＳＷ５の操作（図３０（Ｇ））に関する操作を除いて、他の操作を図３０の場合と同様に実行する。

すなわち、ユーザが時点ｔ32において洗浄スイッチＳＷ１１を操作することにより（図３９（Ｂ））洗浄リレーＫ１２をオン動作させる（図３９（Ｃ））と共に、排水リレーＫ１３をオフ動作させ（図３９（Ｄ））、洗浄タイマＴＭ１の限時時間Ｔ１が終了した時点ｔ33（図３９（Ｅ））において洗浄リレーＫ１２をオフ動作させると共に、排水リレーＫ１３をオン動作させ、これにより洗浄時間Ｔ１の間に洗浄水ポンプ５Ａによって洗浄した後、全行程時間Ｔ２の残りの時間によって排水ポンプ９Ａに基づく排水処理を行う。

また全行程時間タイマＴＭ２の限時時間Ｔ２が終了した時点ｔ35（図３９（Ｆ））の後の時点ｔ36においてユーザが洗浄スイッチＳＷ１１を操作したとき、新たに洗浄リレーＫ１２をオン動作させると共に排水リレーＫ１３をオフ動作させることにより新たな洗浄処理を開始したとき、洗浄時間Ｔ１の間の時点ｔ36〜ｔ38において安全蓋スイッチＳＷ１２がオフ動作したとき（図３９（Ｈ））その間だけ洗浄リレーＫ１２をオフ動作させることにより、安全蓋が開いた状態で洗浄水がケース７２Ａ内に浸水しないようにする。

またその後の洗浄処理は、時点ｔ44〜ｔ48に示すように、洗浄動作時にユーザが洗浄スイッチＳＷ１１を操作することにより洗浄時間Ｔ１ないし全行程時間Ｔ２の間に洗浄水ポンプ５Ａによる洗浄及び排水ポンプ９Ａによる排水を安全に行う。

図３８及び図３９の構成によれば、一連の洗浄ノズルホルダ７３Ａに装着された１本の洗浄ノズル３によって、洗浄対象ベッセル２を、洗浄タイマＴＭ１及び全行程時間タイマＴＭ２を用いたユーザの手動操作によって確実かつ簡便に洗浄処理することができる。

本発明は溶液試験装置のベッセルを簡便に洗浄する場合に利用できる。

１……ベッセル洗浄装置、２、２Ａ１〜２Ｃ１、２Ａ２〜２Ｃ２……洗浄対象ベッセル、３……洗浄ノズル、４……洗浄装置本体、５、５Ａ〜５Ｃ……洗浄水ポンプ、６……洗浄液タンク、７……洗浄水、８……洗浄排水液、９、９Ａ〜９Ｃ……排水ポンプ、１０……排水タンク、１５……製剤溶出試験装置、１６……ベッセル用ラック、１７……溶出試験装置本体、１８……溶出動作機構部、１９……先端操作部、２０……撹拌機、２１……手元側部材、２２……先端側部材、２３……ベッセル蓋部材、２３Ａ……位置決め部材、２３Ｂ……蓋部材、２５……排水ノズル、２６……排水パイプ、２７……洗浄水ノズル、２８……洗浄水パイプ、３１……大径管部、３５……パイプ本体、３６……異径チーズ部材、３７……異径ソケット部材、３８……排水パイプ部材、３９……キャップ部材、４０……貫通孔、４１……エルボ部材、４３……連結部材、４５Ａ、４５Ｂ、４５Ｃ……噴射口、５０……洗浄操作部、５５……操作制御回路、７１Ａ〜７１Ｃ……第１〜第３洗浄機構部、７２……洗浄制御部、７２Ａ……ケース、８５……操作制御回路、８６……洗浄・排水駆動回路、９１……電源スイッチ、７３、７３Ａ……洗浄ノズルホルダ、７８Ａ〜７８Ｃ……支持環部材、８０Ａ〜８０Ｂ……把持部材、９０……起動回路、９２Ａ〜９２Ｃ……第１〜第３電源、９３……操作回路、Ｋ１、Ｋ１２、Ｋ１４、Ｋ１６……洗浄リレー、Ｋ２、Ｋ１３、Ｋ１５、Ｋ１７……排水リレー、ＳＷ１、ＳＷ１１……洗浄スイッチ、ＳＷ２……液面スイッチ、ＳＷ３……洗浄・排水スイッチ、ＳＷ５……停止スイッチ、ＤＰ……ダイヤフラムポンプ、ＴＭ……洗浄タイマ、ＴＭ１……洗浄タイマ、ＴＭ２……全行程時間タイマ、Ｋ１１……安全蓋制御リレー、Ｋ１２、Ｋ１４，Ｋ１６……洗浄リレー、Ｋ１３、Ｋ１５、Ｋ１７……排水リレー。

Claims (4)

1. 製剤溶出試験装置において溶出容器として用いられる３つの洗浄対象ベッセルに上方から差し込まれた状態で洗浄水を噴射すると共に上記洗浄水によって洗浄された後の洗浄排水液を排水する３つの洗浄ノズルを保持する洗浄ノズルホルダを具え、
   上記製剤溶出試験装置はベッセル用ラックに６つの洗浄対象ベッセルをそれぞれ横方向に配列保持する構成を有し、
   上記洗浄ノズルホルダは、上記洗浄対象ベッセルを洗浄する際に、先ず上記ベッセル用ラックに配列保持された全６つの洗浄対象ベッセルのうち３つの洗浄対象ベッセルに保持している上記３つの洗浄ノズルを差し込んで洗浄処理をした後、次に当該洗浄処理を終った当該３つの洗浄ベッセルから上記３つの洗浄ノズルを引き抜いて上記ベッセル用ラックに配列保持されている全６つの洗浄対象ベッセルのうち残る３つの洗浄対象ベッセルに当該保持している上記３つの洗浄ノズルを差し込んで洗浄処理をする
   ことを特徴とするベッセル洗浄装置。
2. 上記洗浄ノズルホルダは、保持している上記３つの洗浄ノズルを横一列の形状に配列保持することにより、上記ベッセル用ラックに横一列に配列された３つの洗浄対象ベッセルを同時に洗浄できる
   ことを特徴とする請求項１に記載のベッセル洗浄装置。
3. 上記洗浄ノズルホルダは、保持している上記３つの洗浄ノズルを横一列の形状から変形した折れ曲り形状に配列保持することにより、上記ベッセル用ラックにおいて折れ曲り形状に配列された３つの洗浄対象ベッセルを同時に洗浄できる
   ことを特徴とする請求項１に記載のベッセル洗浄装置。
4. 上記洗浄ノズルホルダは、保持する上記３つの洗浄ノズルをそれぞれ３つの支持板に支持すると共に、当該３つの支持板のうち隣り合う２つの支持板を順次ヒンジ部材によって折れ曲り自在に連結し、これにより上記３つの洗浄ノズルを上記横一列の形状又は折れ曲り形状に変形できることにより、上記ベッセル用ラックの上記洗浄ノズルの配列形状に適合するように上記３つの洗浄ノズルを上記ベッセル用ラックに差し込むことができるようにした
   ことを特徴とする請求項１に記載のベッセル洗浄装置。

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