JPH06230014A - 自動分析装置 - Google Patents

自動分析装置

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JPH06230014A
JPH06230014A JP1552893A JP1552893A JPH06230014A JP H06230014 A JPH06230014 A JP H06230014A JP 1552893 A JP1552893 A JP 1552893A JP 1552893 A JP1552893 A JP 1552893A JP H06230014 A JPH06230014 A JP H06230014A
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liquid
cleaning
cuvette
cleaning liquid
liquid level
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JP1552893A
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Masao Ushikubo
昌夫 牛久保
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Olympus Optical Co Ltd
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N35/00Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor
    • G01N35/02Automatic analysis not limited to methods or materials provided for in any single one of groups G01N1/00 - G01N33/00; Handling materials therefor using a plurality of sample containers moved by a conveyor system past one or more treatment or analysis stations
    • G01N35/04Details of the conveyor system
    • G01N2035/0401Sample carriers, cuvettes or reaction vessels
    • G01N2035/0437Cleaning cuvettes or reaction vessels

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  • Automatic Analysis And Handling Materials Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】洗浄液がキュベットから溢れることを自動的に
防止することが可能な自動分析装置を提供することにあ
る。 【構成】キュベット8に洗浄液19を供給してキュベッ
ト8を洗浄するとともに洗浄液19を供給しながら回収
して洗浄液19の液面19aの高さを保つキュベット洗
浄装置33を備え、キュベット8をキュベット洗浄装置
33により洗浄して繰返し使用する自動分析装置31に
おいて、洗浄装置31に洗浄液19の液面19aの高さ
を検知する液面センサ35、35を設け、この液面セン
サ35、35の出力に基づいて洗浄液19の供給量と回
収量とを制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば、複数のキュベ
ット(被洗浄容器)を洗浄しながら繰返し使用する自動
分析装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、多項目の分析を行う自動分析装
置には、複数の分析項目を同一の反応ライン上のキュベ
ットを用いて分析するタイプのものや、更に同一の反応
ライン上のキュベットを用いて複数の分析項目を不連続
に分析するタイプのもの等が在る。これらの分析装置に
おいては、一つのキュベットで分析される項目はその都
度異なる。
【0003】さらに、上述のような自動分析装置には、
複数のキュベットを洗浄して繰返して使用するタイプの
ものが在る。そして、この種の分析装置1には、例えば
図6に示すように構成されたキュベット洗浄装置2が備
えられている。
【0004】キュベット洗浄装置2には移動プレ−ト3
が備えられており、この移動プレ−ト3には、検液吸引
ノズル4、洗浄部5、及び、乾燥ノズル6が取付けられ
ている。そして、この移動プレ−ト3は、反応ディスク
7の上で上下方向に自在に移動する。
【0005】ここで、反応ディスク7上には複数の被洗
浄容器としてのキュベット8…が並べられている。そし
て、反応ディスク7は所定角度ずつ間欠回転し、キュベ
ット8…を順次所定位置に送る。
【0006】前記検液吸引ノズル4は検液専用タンク9
と繋がっており、検液吸引ノズル4と検液専用タンク9
との間には、回転・移動式のポンプ10が設けられてい
る。そして、検液がポンプ10の作用によって、キュベ
ット8…内の分析を終えた検液が検液吸引ノズル4に吸
引され、検液専用タンク9に廃棄される。
【0007】洗浄部5は、吸引ノズル11、オ−バ−フ
ロ−吸引ノズル12、及び、洗浄液吐出ノズル13を備
えている。これらのうち、吸引ノズル11は他の二つの
ノズルよりも下方に突出している。また、両吸引ノズル
11、12はバッファタンク14に繋がっており、バッ
ファタンク14には真空ポンプ15が接続されている。
【0008】さらに、洗浄液吐出ノズル13は洗浄液タ
ンク16に繋がっており、洗浄液吐出ノズル13と洗浄
液タンク16との間には三方式の切換弁17と洗浄液供
給ポンプ18とが介在している。そして、洗浄液タンク
16には洗浄液19が溜められている。
【0009】洗浄液供給ポンプ18が駆動されると、洗
浄液19が吸上げられ、洗浄液吐出ノズル13から所定
のキュベット8に吐出される。一方、真空ポンプ15は
常時動作状態になっており、吸引ノズル11及びオ−バ
−フロ−吸引ノズル12の内部は常に真空吸引されてい
る。
【0010】つまり、洗浄液19の供給と回収とが同時
に行われている。さらに、洗浄液がキュベット8から溢
れないよう供給量と回収量を調節しながらキュベット8
の洗浄が行われる。オ−バ−フロ−吸引ノズル12は、
キュベット8の上端の近傍で洗浄液を吸引し、洗浄液の
液面が過度にオ−バ−フロ−位置を越えないよう作用す
る。そして、キュベット8内での洗浄液の液面の高さ
は、真空圧、洗浄液の供給量、移動プレ−ト3の移動速
度、及び、切換弁17の動作時間によって調節される。
【0011】また、吸引ノズル11及びオ−バ−フロ−
吸引ノズル12によってキュベット8内から吸上げられ
た洗浄液は、バッファタンク14に送られたのち、回転
・移動式のポンプ20によって送られながら廃棄され
る。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
なキュベット洗浄装置2を備えた自動分析装置1におい
ては、例えばオ−バ−フロ−吸引ノズル12に異物がつ
まった場合や、真空ポンプ15の真空圧が低下した場合
等には、洗浄液の供給と吸引とのバランスが崩れ、全体
的な吸引量が低下してキュベット8から洗浄液が溢れ出
てしまう。このため、明らかな原因の有無にかかわら
ず、各ノズル11〜13の定期的な清掃を頻繁に実施し
なければならず、ユ−ザ−メンテナンスが面倒だった。
【0013】特に、前述のようにキュベットが水中に置
かれていない方式、即ちドライバス方式の分析装置にお
いては、溢れた洗浄液が、キュベット8の測光位置を汚
して測光精度に悪影響を与えたり、装置の機械部分の破
損に繋がったりする場合があった。本発明の目的とする
ところは、洗浄液がキュベットから溢れることを自動的
に防止することが可能な自動分析装置を提供することに
ある。
【0014】
【課題を解決するための手段および作用】上記目的を達
成するために本発明は、被洗浄容器に洗浄液を供給して
被洗浄容器を洗浄するとともに洗浄液を供給しながら回
収して洗浄液の液面の高さを保つ洗浄装置を備え、被洗
浄容器を洗浄装置により洗浄して繰返し使用する自動分
析装置において、洗浄装置に洗浄液の液面の高さを検知
する液面センサを設け、この液面センサの出力に基づい
て洗浄液の供給量と回収量とを制御することにある。こ
うすることによって本発明は、洗浄液がキュベットから
溢れることを自動的に防止できるようにしたことにあ
る。
【0015】
【実施例】以下、本発明の各実施例を図1〜図5に基づ
いて説明する。なお、従来の技術と重複する部分につい
ては同一番号を付し、その説明は省略する。
【0016】図1〜図3は本発明の第1実施例を示すも
ので、図1中の符号21は自動分析装置である。この自
動分析装置21は本体22上に、サンプラ23と反応デ
ィスク7とが備えられている。これらのうちサンプラ2
3においては、複数のサンプルカップ24…がホルダ−
チェ−ン25によって保持されており、各サンプルカッ
プ24には、採取された血清や尿等の試料が収容されて
いる。
【0017】また、反応ディスク7には複数の被洗浄容
器としてのキュベット8…が保持されており、キュベッ
ト8…は同心円上に並べられている。さらに、反応ディ
スク7は一定周期で間欠的に回転し、キュベット8…を
所定位置に送る。
【0018】さらに、本体22上には、第1及び第2の
試薬トレイ26A、26B、サンプル用プロ−ブ27、
第1の試薬用プロ−ブ28、及び、第2の試薬用プロ−
ブ29が備えられている。これらのうち第1及び第2の
試薬トレイ26A、26Bには所望の分析に必要な試薬
が装着されている。
【0019】第1の試薬用プロ−ブ28は、所定の吸引
位置において、第1の試薬トレイ26Aから第1試薬を
吸引し、反応ディスク7上の所定のキュベット8に分注
する。さらに、サンプル用プロ−ブ27が、サンプラ2
3に保持された各サンプルカップ24…から試料を吸引
し、所定のキュベット8に分注する。また、第2の試薬
用プロ−ブ29が、第2の試薬トレイ26Bから第2試
薬を吸引し、所定のキュベット8に分注する。
【0020】このように試料及び試薬がキュベット8内
に分注されて被検液が作成され、所定時間経過した後、
被検液を収容したキュベット8が測光位置へ搬送され
る。そして、被検液が、分析項目に応じた所定の波長の
光によって測定され、測定値が分析項目に応じた濃度換
算係数と照合されて分析デ−タが作成される。分析デ−
タは図示しないプリンタから出力される。
【0021】また、自動分析装置21の本体22上に
は、キ−ボ−ド30と異常表示手段としてのCRTディ
スプレイ31とが備えられており、これらは図2中に示
すように制御装置32に接続されている。制御装置32
は本体22に組込まれており、キ−ボ−ド30を介して
情報を入力される。そして、制御装置32は、各分析項
目に応じて、試料分注量、試薬分注量、測定波長、及
び、濃度換算係数等の分析条件を予め記憶している。さ
らに、CRTディスプレイ31には、キ−ボ−ド30に
打込まれた入力情報や、被検液の測定によって得られた
分析デ−タ、或いは、メッセ−ジ等が表示される。そし
て、測定の終了した被検液は後述するキュベット洗浄装
置33へ移送される。ここで、自動分析装置21の種々
の機械部分として、従来の一般的な機械部分を利用する
ことが可能である。
【0022】図2にはキュベット洗浄装置33が示され
ている。このキュベット洗浄装置33においては、吸引
ノズル11、オ−バ−フロ−吸引ノズル12、及び、洗
浄液吐出ノズル13が平行に並べられており、これら三
つのノズル11〜13によって洗浄部34が構成されて
いる。図3中に示すように三つのノズル11〜13のう
ち、吸引ノズル11は最も下方に突出しており、オ−バ
−フロ−吸引ノズル12は洗浄液吐出ノズル13よりも
幾分下方に突出している。さらに、吸引ノズル11の洗
浄液吐出ノズル13に対する突出量は、キュベット8の
深さよりも幾分小さく設定されている。
【0023】また、洗浄部34には二つの液面センサ3
5、35が備えられている。液面センサ35、35はと
もに棒状のもので、液面センサ35、35の先端は球状
に成形されている。また、液面センサ35、35は、三
つのノズル11〜13と平行に並べられるとともに、吸
引ノズル11と洗浄液吐出ノズル13の外側に配置され
ている。
【0024】さらに、両液面センサ35、35の先端
は、互いに略同じ高さに設定されるとともに、洗浄液吐
出ノズル13よりも幾分高く位置している。そして、両
液面センサ35、35の先端の位置と吸引ノズル11の
先端の位置との差は、キュベット8の深さに略一致して
いる。つまり、図3中に示すように吸引ノズル11の先
端がキュベット8の底に達したとき、液面センサ35、
35の先端はキュベット8の上端8aの高さに略一致す
る。
【0025】図2中に示すように、液面センサ35、3
5の出力信号は制御装置32に送られる。制御装置32
は、液面センサ35、35の出力に基づいて三方式の切
換弁17を制御する。また、切換弁17の切換時間はC
PU36によって確認される。ここで、CPU36とし
て制御装置32に組込まれているCPUを利用してもよ
い。つぎに、上述の自動分析装置21の作用を説明す
る。
【0026】まず、洗浄液吐出ノズル13から吐出され
た洗浄液が吸引ノズル11により吸引されながら所定の
キュベット8内に溜り、洗浄液の液面が徐々に上昇す
る。さらに、図3中に示すように、洗浄液19の液面1
9aがオ−バ−フロ−吸引ノズル12を越えて液面セン
サ35、35に達すると、液面センサ35、35は洗浄
液19の液面19の高さがオ−バ−フロ−位置を越えた
ことを制御装置32へ出力する。
【0027】制御装置32は切換弁17を切換えて洗浄
液19を洗浄液タンク16へ逃がし、洗浄液19のキュ
ベット8への供給を停止する。この結果、液面19aが
徐々に下がり、洗浄液19がキュベット8から溢れ出る
ことが防止される。
【0028】ここで、液面センサ35、35が液面19
aを検知してから切換弁17が動作するまでの時間を考
慮して、液面センサ35、35の先端の位置をキュベッ
ト8の上端8aよりも幾分低くなるよう設定してもよ
い。
【0029】液面センサ35、35が液面19aを連続
して検知した場合、切換弁17の切換時間が一定値以上
になると、制御装置32が洗浄液供給ポンプ18の運転
を停止させる。さらに、制御装置32はCRTディスプ
レイ31に吸引異常表示を出力する。そして、この吸引
異常表示によって、吸引異常の発生が操作者に知らされ
る。
【0030】すなわち、このような自動分析装置31に
おいては、キュベット洗浄装置33に液面センサ35、
35が備えられており、この液面センサ35、35の出
力に基づいて切換弁17が制御されて洗浄液19の供給
が停止するので、洗浄液19がキュベット8から溢れる
ことを自動的に防止できる。さらに、洗浄液19の溢れ
を防止できるので、溢れた洗浄液を原因としていた各機
械部分の破損も防止できる。
【0031】また、洗浄液の溢れが自動的に防止される
ので、吸引ノズル11やオ−バ−フロ−吸引ノズル12
の定期的な清掃を頻繁に行う必要がなくなる。そして、
各ノズル11、12の清掃の頻度は、キュベット洗浄装
置33の使用頻度に応じて決めることができる。したが
って、自動分析装置31のメンテナンスが容易になる。
また、吸引異常の発生がCRTディスプレイ31によっ
て知らされるので、操作者は、異常が発生したときにそ
の異常を確実に知ることができる。
【0032】図4は本発明の第2実施例の要部を示して
おり、図中の符号41は洗浄部である。この洗浄部41
には一つの液面センサ42が備えられている。この液面
センサ42は静電容量式のもので、一つの液面センサ4
2を利用して、洗浄液19の液面19aが上限に達した
ことを制御装置32へ出力する。そして、液面センサ4
2の出力を基にして切換弁17が制御される。また、液
面センサ42は洗浄液吐出ノズル13の側に配置されて
おり、図中に示すように洗浄液吐出ノズル13の側の液
面を検知する。すなわち、本実施例の洗浄部41によれ
ば、液面センサ42の数が一つであるので、第1実施例
の場合と比較して構成が簡単になる。また、液面センサ
42が洗浄液吐出ノズル13の側に配置されているの
で、洗浄液19の溢れを確実に防止できる。
【0033】つまり、オ−バ−フロ−吸引ノズル12が
洗浄液19を吸引し、洗浄液吐出ノズル13が洗浄液1
9を吐出するので、洗浄液19の液面19aは、図4中
に示すように洗浄液吐出ノズル13の側で高くなり易
い。このため、本実施例のように液面センサ42を洗浄
液吐出ノズル13の側に配置すれば、液面19aの盛り
上がった箇所が検知される。したがって、より早く液面
19がオ−バ−フロ−吸引ノズル12に達したことを判
断できる。
【0034】図5は本発明の第3実施例の要部を示して
おり、図中の符号51は洗浄部である。この洗浄部51
には、第1及び第2の液面センサ52、53が備えられ
ている。第1の液面センサ52は洗浄液吐出ノズル13
の側に配置されており、第2の液面センサ53は吸引ノ
ズル11の側に配置されている。また、第1の液面セン
サ53は、第1実施例及び第2実施例のオ−バ−フロ−
吸引ノズル12の代わりとして備えられており、本実施
例においてはオ−バ−フロ−吸引ノズル12が省略され
ている。
【0035】両液面センサ52、53の間には高低差が
設定されており、第2の液面センサ53の先端は第1の
液面センサ52の先端よりも低い。そして、第1の液面
センサ52の先端の高さはキュベット8の上端8aと略
一致しており、第2の液面センサ53は洗浄液吐出ノズ
ル13の先端よりも低い。
【0036】両液面センサ52、53の出力は制御装置
32へ送られる。そして、第1の液面センサ52が液面
19aを検知すると、液面19aがオ−バ−フロ−位置
に達したことが判断され、切換弁17が制御される。一
方、第2の液面センサ53が液面19aを検知すると切
換弁17が切換えられて洗浄液19の供給が停止する。
つまり、両液面センサ52、53の出力を利用して、液
面19aが常に両液面センサ52、53の間に在るよう
洗浄液19の供給量が調節される。そして、キュベット
8内の洗浄液19の量が常に一定値以上に保たれる。
【0037】また、一定時間以上経過しても液面19a
が第2の液面センサ53に達しない場合には、洗浄液不
足が判断されて、洗浄液供給ポンプ18の運転が停止さ
せられる。そして、CRTディスプレイ31に液量異常
表示が出力され、液量異常の発生が操作者に知らされ
る。なお、本発明は、要旨を逸脱しない範囲で種々に変
形することが可能である。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、被洗浄容
器に洗浄液を供給して被洗浄容器を洗浄するとともに洗
浄液を供給しながら回収して洗浄液の液面の高さを保つ
洗浄装置を備え、被洗浄容器を洗浄装置により洗浄して
繰返し使用する自動分析装置において、洗浄装置に洗浄
液の液面の高さを検知する液面センサを設け、この液面
センサの出力に基づいて洗浄液の供給量と回収量とを制
御するものである。したがって本発明は、洗浄液がキュ
ベットから溢れることを自動的に防止できるという効果
がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1実施例の自動分析装置を示す構成
図。
【図2】本発明の第1実施例のキュベット洗浄装置を示
す構成図。
【図3】本発明の第1実施例の洗浄部を示す説明図。
【図4】本発明の第2実施例の洗浄部を示す説明図。
【図5】本発明の第3実施例の洗浄部を示す説明図。
【図6】従来例のキュベット洗浄装置を示す構成図。
【符号の説明】
8…キュベット(被洗浄容器)、19…洗浄液、19a
…洗浄液の液面、21…自動分析装置、31…CRTデ
ィスプレイ、32…制御装置、33…キュベット洗浄装
置(洗浄装置)、35、35…液面センサ。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被洗浄容器に洗浄液を供給して上記被洗
    浄容器を洗浄するとともに上記洗浄液を供給しながら回
    収して上記洗浄液の液面の高さを保つ洗浄装置を備え、
    上記被洗浄容器を上記洗浄装置により洗浄して繰返し使
    用する自動分析装置において、上記洗浄装置に上記洗浄
    液の液面の高さを検知する液面センサを設け、この液面
    センサの出力に基づいて上記洗浄液の供給量と回収量と
    を制御することを特徴とする自動分析装置。
  2. 【請求項2】 上記液面センサの出力に基づいて異常を
    検知し、この異常を異常表示手段に表示することを特徴
    とする前記請求項1記載の自動分析装置。
JP1552893A 1993-02-02 1993-02-02 自動分析装置 Withdrawn JPH06230014A (ja)

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