JP2016180159A - 成膜装置 - Google Patents

Abstract

【課題】成膜処理時に成膜材料が付着するとともに、ダストとして成膜室内に戻って成膜対象物に付着することを防止できる成膜装置を提供する。【解決手段】成膜装置１００は、減圧可能な成膜室１１と、ターゲットＧと、ターゲットＧから飛翔する成膜材料の成膜室１１の内壁面への付着を防止する防着板３と、を有する。防着板３は、内壁面近傍に、内壁面との間に空間を空けて対向して配置され、この空間における成膜室１１の内底面側に傾いた鉛直下向きの傾斜面３３ａを有する【選択図】図１

Description

本発明は、例えば、成膜装置の成膜室の内壁面への成膜材料の付着を防止する防着板を有する成膜装置に関する。

減圧空間において、成膜源から成膜材料を蒸発あるいは飛散させて成膜対象物表面に飛翔する成膜材料を成膜する蒸着装置やスパッタリング装置においては、成膜を行うたびに成膜対象外の成膜室の内壁面などにも成膜材料が付着する。付着する膜が厚く成長すると、剥離してパーティクル(ダスト)となることから、定期的に清掃する必要がある。しかし、成膜室内の清掃は困難であることから、成膜室の内壁面に成膜材料が付着することを防止するために、防着板を配置し、成膜材料が付着した防着板を交換、清掃するようにしている。

このような防着板の一例を、図１５に示す。防着板２は、例えば、金属製の板である。防着板２は、成膜室１１の内側面１２に沿って取り付けられている。防着板２は、交換や清掃を行うメンテナンスのために取り外すことができる。

特開２００３−７３８０１号公報

しかしながら、図１５に示すように、防着板２に堆積して膜Ｍとなった成膜材料は、過度に厚くなると膜応力が増加し、成膜時の熱収縮、ターゲット交換時の大気暴露で吸湿等が加わることによって、界面ストレスが密着力を超過すると、膜剥離が発生する。剥離した膜Ｍは、細かいダストＤとなる。

このようなダストＤが基板Ｓに付着すると、ピンホールなど成膜品質の不良の原因となる。しかし、かかる過度の厚膜の形成、大気暴露による膜剥がれを完全に防止することは困難である。

また、仮にダストＤが成膜室１１の内側面１２や内底面１３の近傍に滞在し、剥離時に直接基板Ｓに付着しなくても、給排気時の気流や搬送時の衝撃で舞い上がり、基板Ｓに付着する可能性がある。このため、防着板２に付着した膜Ｍが剥離する前に、膜Ｍを排除する必要があり、頻繁なメンテナンスが必要となる。

本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、成膜室の内壁面に成膜材料が付着することを防止するとともに、ダストとして成膜箇所側に戻って成膜対象物に付着することを防止し、製品の歩留まりの低下を防止でき、メンテナンス期間を長くして生産性を高めることができる防着板を有する成膜装置を提供することにある。

上記の目的を達成するため、実施形態の成膜装置は、減圧可能な成膜室と、成膜源と、前記成膜源から飛翔する成膜材料の前記成膜室の内壁面への付着を防止する防着板と、を有し、前記防着板は、前記内壁面近傍に、前記内壁面との間に空間を空けて対向して配置され、前記空間における前記成膜室の内底面側に傾いた鉛直下向きの傾斜面を有する。

前記傾斜面は複数であってもよい。前記複数の傾斜面は、隣接する傾斜面が重複する部分を有してもよい。前記傾斜面から剥離した成膜材料を、前記成膜室の内壁面と前記防着板との間の空間から外部へ排出する気流を生じさせる排気装置を有してもよい。前記防着板に振動を加える加振装置を有してもよい。

本発明によれば、防着板が、防着板と内壁面との間の空間における内底面側に向かう傾斜面を有するため、成膜材料の落とし込み構造が形成される。従って、成膜処理時に傾斜面に成膜材料が付着するとともに、傾斜面から剥離することにより発生するダストは、成膜箇所側に戻って成膜対象物に付着することが防止され、製品の歩留まりの低下を防止できる。

第１の実施形態における成膜室の内側面に配置された防着板を示す断面図 図１の防着板の正面図 第１の実施形態の防着板の他の例を示す正面図 第２の実施形態における成膜室の内底面に配置された防着板を示す断面図 図４の防着板の平面図 第２の実施形態の防着板の他の例を示す断面図 図６の防着板の平面図 他の実施形態の防着板の開口及び導出部を示す断面図 他の実施形態の導出部を形成する前の防着板のプレートの正面図（Ａ）、導出部を形成した後のＹ−Ｙ断面図（Ｂ） 他の実施形態の防着板の開口及び導出部を示す断面図 他の実施形態の防着板の開口及び導出部を示す断面図 他の実施形態の排気装置の配置例を示す平面図 他の実施形態の防着板の支持体及び導出部を示す正面図 他の実施形態の防着板の支持体及び導出部を示す正面図 従来の防着板を示す断面図

本発明の実施の形態（以下、実施形態と呼ぶ）として、成膜装置の一例を、図面を参照して具体的に説明する。成膜装置は、減圧可能な成膜室と成膜源を有し、成膜室内の減圧空間において、成膜源から成膜材料を飛翔させて成膜対象物の表面に成膜する装置である。なお、本発明は、防着板、これを用いた成膜装置、かかる成膜装置による成膜製品の製造方法としても捉えることができる。

［第１の実施形態］
［構成］
図１に示す成膜装置１００は、スパッタリング装置である。スパッタリング装置は、チャンバ１内の減圧可能な成膜室１１において、テーブルＴ等の載置面に載置された成膜対象である基板Ｓに対して、スパッタリングにより成膜を行う装置である。このように、成膜室１１内において、基板Ｓ等の成膜対象に対して成膜を行う場所が、成膜箇所である。本実施形態では、テーブルＴ上の基板Ｓの位置が成膜箇所となる。

かかる成膜装置１００は、成膜源として、基板Ｓに対向する位置に配置された成膜材料からなるターゲットＧに電圧を印加することにより、成膜室１１内に導入したガスをプラズマ化する。そして、これにより発生したイオンをターゲットＧに衝突させて、飛散して飛翔する成膜材料を基板Ｓに堆積させる。

防着板３は、成膜源から飛翔する成膜材料の成膜室１１の内壁面への付着を防止する部材である。防着板３は、成膜室１１の内壁面近傍に、内壁面との間に空間を空けて対向して配置され、この空間における成膜室１１の内底面側に傾いた鉛直下向きの傾斜面３３ａを有している。

以下、より詳細な構成を説明する。すなわち、図１においては、チャンバ１内の成膜室１１の内壁面の一部である内側面１２、内底面１３、テーブルＴ、成膜源であるターゲットＧを示し、その他の成膜装置１００の内部構成は、図示を省略している。

防着板３は、成膜装置１００のチャンバ１内に設置されている。この防着板３は、支持体として平板状のプレート３１を有する。プレート３１は、成膜室１１の内壁面の近傍に空間１４を空けて対向して配置されている。本実施形態では、プレート３１の上下は、スペーサ４１を介して、ボルト等の取付部材４２によって、内側面１２に取り付けられている。これによって、プレート３１は、内側面１２と一定の空間１４を空けて内底面１３に対して垂直に固定されている。

プレート３１には、図２に示すように、複数の導出部３３が支持されている。導出部３３は、プレート３１と同様の板状体である。複数の導出部３３は、傾斜面３３ａを有する。つまり、本実施形態は、傾斜面３３ａを複数有している。傾斜面３３ａは、プレート３１と成膜室１１の内壁面との間の空間１４における成膜室１１の内底面１３側に傾いている。内底面１３側に傾いているとは、内側面１２の近傍に設けられている場合には、内側面１２に平行な方向に対して傾斜していることをいい、チャンバ１の鉛直下方向に向かって傾斜していることをいう。複数の導出部３３の支持位置は、傾斜面３３ａに成膜処理による成膜材料が付着する位置となっている。複数の導出部３３は、開口３２が生じる間隔を空けて、プレート３１に支持されている。各開口３２の形状は、水平方向に連続して長い方形である。導出部３３と成膜室１１の内側面１２との間には、傾斜面３３ａから剥離した成膜材料が流通する空間が形成されている。なお、複数の傾斜面３３ａは、隣接する傾斜面３３ａが重複する部分を有していてもよい。例えば、複数の傾斜面３３ａを、プレート３１に垂直な方向から見て、重なりが生じる位置と大きさで形成してもよい。

開口３２以外のプレート３１の表面積は、小さいことが望ましい。つまり、開口３２の全面積よりも、開口３２以外の面積をできる限り小さくする。例えば、開口３２及び導出部３３の長辺方向の長さは、プレート３１の水平方向の長さの半分以上、より好ましくはプレート３１の水平方向の略全長とすることが望ましい。例えば、開口３２の長手方向における開口３２以外のプレート３１の残存部分の長さを、開口３２の短辺方向の長さよりも短くするとよい。また、開口３２同士の間隔は、開口３２の短辺方向の長さの半分以下、より好ましくは３分の１以下とすることが望ましい。また、プレート３１の配置位置により、導出部３３と成膜室１１の内側面１２との間には、傾斜面３３ａから剥離した成膜材料が流通する空間が形成されている。

防着板３は、プレート３１に形成した方形の開口３２の上辺に、導出部３３の上辺を取り付けることによって製造できる。プレート３１に切り込みを入れて、成膜室１１の内壁面側へ折り曲げることによって、より簡易に製造することができる。

例えば、図２に示すように、プレート３１における方形の開口３２となる領域の上辺を残して、左辺、下辺及び右辺を切断し、成膜室１１の内壁面側に押し込むことにより屈曲させる。これにより、導出部３３の傾斜面３３ａは、プレート３１の表面に連続した面となる。切断は、例えば、レーザー加工等により行うことが考えられる。

さらに、空間１４の下部における内底面１３の近傍には、排気領域１５が設けられている。この排気領域１５は、チャンバ１の外部に設けられた排気装置３４に連通している。この排気装置３４は、傾斜面３３ａから剥離した成膜材料を、成膜室１１の内壁面と防着板３との間の空間から外部へ排出する気流を生じさせる装置である。本実施形態における排気装置３４は、成膜材料を、成膜室１１の内底面１３から外部へ排出する気流を生じさせる。本実施形態の排気装置３４は、例えば、ファン及びフィルタにより構成されている。

［作用］
以上のような本実施形態では、成膜装置１００によって、基板Ｓに対して、成膜処理を行うと、成膜材料が成膜室１１内に飛散し、浮遊する。このような成膜材料は、防着板３に付着し、堆積することにより膜Ｍとなる。この膜Ｍは、プレート３１の垂直面に形成されるとともに、開口３２を通過した成膜材料によって、傾斜面３３ａにも形成される。

膜Ｍが厚くなると、上記のように膜剥離が発生する。剥離した膜ＭはダストＤとなって落下、浮遊する。但し、本実施形態においては、導出部３３は、プレート３１と内側面１２との間の空間１４に突出していて、傾斜面３３ａは内底面１３側を向いている。

このため、傾斜面３３ａからの膜Ｍの剥離によりダストＤが発生しても鉛直下向きすなわち真下に落ちるので、基板Ｓ側に行かず、内底面１３側の排気領域１５に落下する。また、傾斜面３３ａの真下がプレート３１と内側面１２との間の空間となっているので、ダストＤはその空間によって内底面１３側へガイドされて落下する。

さらに、傾斜面３３ａの真下が、下段の導出部３３の場合は、その導出部３３の傾斜によって、ダストＤは内側面１２へガイドされ、同様に内底面１３側へ落下する。そして、排気装置３４を作動させることにより、排気領域１５に落下したダストＤは、外部に排出される。なお、排気装置３４によるダストＤの排出は必ずしも行わなくてもよく、メンテナンス時にダストＤを排除してもよい。

［効果］
以上のような本実施形態の成膜装置１００は、減圧可能な成膜室１１と、ターゲットＧと、ターゲットＧから飛翔する成膜材料の成膜室１１の内壁面への付着を防止する防着板３と、を有している。防着板３は、内壁面近傍に、内壁面との間に空間を空けて対向して配置され、この空間における成膜室１１の内底面側に傾いた鉛直下向きの傾斜面３３ａを有する。

このため、成膜室１１の内壁面側に成膜材料の落とし込み構造が形成され、膜Ｍの剥離により発生するダストＤは、成膜室１１の内側面１２側の内底面１３に落下して、プレート３１によって成膜箇所側、特に基板Ｓに向かうことが防止される。従って、ダストＤが基板Ｓに付着する可能性を低減することができ、成膜品質が向上する。さらに、特許文献１では、粗面化処理に加えて、電位コントロールによって剥離衝撃を抑えるようにしている。これに対して、本実施形態は、このような特別な処理や複雑な機構を不要とすることができるので、装置コストを低減し、簡易な構造で容易にダスト抑制ができ、ひいては製品コストの低減に貢献する。

また、傾斜面３３ａは複数あるため、より多くのダストＤを落下させることができる。複数の傾斜面３３ａが、隣接する傾斜面３３ａが重複する部分を有していれば、重複部分により、ダストＤの成膜箇所への戻りが防止される。また、プレート３１の配置位置により、導出部３３と成膜室１１の内側面１２との間には、傾斜面３３ａから剥離した成膜材料が流通する空間が形成されている。このため、内側面１２に対する成膜材料の付着を防止しつつ、基板Ｓ側への成膜材料の落下を防止できる。したがって、例え防着板３の傾斜面３３ａから膜が剥離しても、そのまま成膜運転を続けることができ、メンテナンスの間隔を長期化できる。

また、本実施形態は、傾斜面３３ａから剥離した成膜材料を、成膜室１１の内底面１３から外部へ排出する気流を生じさせる排気装置３４を有する。このため、ダストＤが開口３２を介して、基板Ｓ側に逆流することが確実に防止される。

また、複数の導出部３３は、開口３２が生じる間隔を空けてプレート３１に支持されている。このため、開口３２の大きさの設定により、プレート３１の成膜箇所側の開口３２以外の表面積を小さくして、垂直面に成膜材料が付着する量を抑えることができる。つまり、傾斜面３３ａの面積を増やし、プレート３１の垂直な面を減らすことができるので、垂直面へ付着する成膜材料を低減し、より多くの成膜材料を傾斜面３３ａから排気領域１５に落下させて、基板Ｓへの影響を低減できる。また、導出部３３を上記のようにプレート３１の屈曲により形成すれば、切断の回数、屈曲の回数が比較的少ないため、導出部３３の形成が容易になる。なお、切断回数、屈曲回数は増えるが、複数の開口３２を、図３に示すように、マトリクス状に配置してもよい。

［第２の実施形態］
［構成］
第２の実施形態を、図４、図５を参照して説明する。なお、第１の実施形態と同様の部材は同一の符号を付して、説明を省略する。

本実施形態では、図４に示すように、支持体であるプレート３１の両端近傍が、スペーサ４１を介して、ボルト等の取付部材４２によって、内底面１３に取り付けられている。このため、プレート３１は、内底面１３と一定の空間である排気領域１５を空けて、水平に固定されている。

そして、プレート３１には、図５に示すように、複数の導出部５３が支持されている。導出部５３は、プレート３１と同様の板状体である。複数の導出部５３は、傾斜面５３ａを有する。傾斜面５３ａは、プレート３１と成膜室１１の内壁面との間の空間である排気領域１５における成膜室１１の内底面１３側に傾いている。内底面１３側に傾いているとは、内底面１３の近傍に設けられている場合には、内底面１３に平行な方向に対して傾斜していることをいう。複数の導出部５３の支持位置は、傾斜面５３ａに成膜処理による成膜材料が付着する位置となっている。複数の導出部５３は、開口５２が生じる間隔を空けて、プレート３１に支持されている。各開口５２の形状は、水平方向に連続して長い方形である。導出部５３は、各開口５２における対向する縁部に一対設けられている。導出部５３と成膜室１１の内底面１３との間には、傾斜面５３ａから剥離した成膜材料が流通する空間が形成されている。

本実施形態においては、防着板３は、プレート３１における方形の開口５２の対向する２辺に、それぞれ導出部５３の上辺を取り付けることによって製造できる。プレート３１に切り込みを入れて、成膜室１１の内壁面側へ折り曲げることによって、より簡易に製造することができる。

例えば、図５に示すように、プレート３１に、Ｈ字状の切り込みを入れ、Ｈ字の中心線から分割されて開口５２となるように、Ｈ字の中心線を挟んだ面を、成膜室１１の内壁面側に押し込むことにより屈曲させる。これにより、導出部５３の傾斜面５３ａは、プレート３１の表面に連続した一対の面となる。もちろん、第１の実施形態のように、一方向の傾斜面が並ぶ形状でもよい。

なお、上記の第１の実施形態と同様に開口３２の大きさと、開口３２以外のプレート３１の表面積を設定することにより、プレート３１の基板Ｓ側の表面積を小さくして、水平面に成膜材料が付着する量を抑えることができる。ここで、成膜材料の付着が問題となるのは、第１の実施形態ではプレート３１の垂直面であったが、第２の実施形態ではプレート３１の水平面となる。

［作用］
以上のような本実施形態では、成膜装置１００によって、基板Ｓに対して成膜処理を行うと、成膜材料が成膜室１１内に飛散、浮遊する。このような成膜材料は、防着板３に付着し、堆積することにより膜Ｍとなる。この膜Ｍは、プレート３１の水平面に形成されるとともに、開口５２を通過した成膜材料によって、傾斜面５３ａにも形成される。

膜Ｍが厚くなると、上記のように膜剥離が発生する。剥離した膜ＭはダストＤとなって落下、浮遊する。但し、本実施形態においては、導出部５３は、プレート３１と内底面１３との間の排気領域１５に突出していて、傾斜面５３ａは内底面１３側を向いている。

このため、傾斜面５３ａからの膜Ｍの剥離によりダストＤが発生しても、基板Ｓ側に行かず、内底面１３側の排気領域１５に落下する。そして、排気装置３４を作動させることにより、排気領域１５に落下したダストＤは、外部に排出される。なお、排気装置３４によるダストＤの排出は必ずしも行わなくてもよく、メンテナンス時にダストＤを排除してもよい。成膜室１１側から見た開口面積に対して内底面１３側から見た開口面積が小さいので、内底面１３に降着したダストＤが放置されていて、例え舞い上がったとしても成膜箇所側へ戻ることはない。

［効果］
以上のような本実施形態は、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られる。さらに、本実施形態では、プレート３１の配置位置により、導出部５３と成膜室１１の内底面１３との間に、傾斜面５３ａから剥離した成膜材料が流通する空間が形成されている。このため、内底面１３に対する成膜材料の付着を防止しつつ、基板Ｓ側へのダストＤの浮上を防止できる。

さらに、本実施形態は、第１の実施形態とともに用いることにより、成膜室１１の内壁面全体への成膜材料の付着を防止できるとともに、側面側及び底面側からの基板Ｓへの影響を防止して、成膜品質を向上させることができる。

なお、隣接する複数の導出部５３を連続して設けることにより、導出部５３の間の面積を減少させた構成としてもよい。図６及び図７は、導出部５３の間を角形状として、プレート３１の水平面を減少させた構成例である。かかる構成とすれば、プレート３１の水平面が少ないため、成膜材料の大半を傾斜面５３ａに付着させて落下させることができ、基板Ｓへの影響をより一層防止できる。なお、隣接する導出部５３の間は曲面であってもよい。

［他の実施形態］
本発明は、上記の実施形態には限定されない。プレート３１の形状は、平面の方形状には限定されない。例えば、成膜室１１の内側面１２が曲面である場合には、曲面形状であってもよい。成膜室１１の内底面１３が円形である場合には、円形状であってもよい。成膜室１１の内側面１２の全周に亘る一つのプレート３１であっても、複数のプレート３１の組み合わせでもよい。成膜室１１の内底面１３の全体に渡る一つのプレート３１であっても、複数のプレート３１の組み合わせであってもよい。プレート３１の材質は、高温に耐えて、成膜材料を付着させる必要があるため、金属とすることが望ましい。例えば、ステンレスやアルミニウムとすることができる。

導出部３３、５３及び傾斜面３３ａ、５３ａの形状も、特定の形状には限定されない。三角形、多角形、円形、楕円形等であってもよい。角に丸みを帯びていてもよい。また、導出部３３、５３及び傾斜面３３ａ、５３ａは、上記のように、プレート３１を加工することによりプレート３１と同じもので形成してもよい。例えば、図８に示すように、方形の板状体を屈曲することにより、複数の導出部３３、５３を形成させた部材を、開口３２、５２を形成させたプレート３１に、開口３２、５２との間に成膜材料が流通する隙間を有しつつ、プレート３１に垂直な方向から見て、開口３２、５２を塞ぐように取り付けてもよい。これによって、後述する様、基板Ｓ側から成膜室１１の内壁面へ成膜材料が直接到達すること、成膜室１１の内壁面側からダストＤが基板Ｓ側へ戻ることを、より一層防止できる防着板３を容易に製作できる。

また、例えば、図９に示すように、プレート３１に貫通溝を形成することにより、導出部３３、５３を切り出して、導出部３３、５３を傾斜させることにより、傾斜面３３ａ、５３ａが生じるようにしてもよい。つまり、図９（Ａ）に示すように、プレート３１に、両短辺の中間部を残して、長方形状の貫通溝を形成するとともに、この貫通溝に連続して外縁方向に延びる切込みを、短辺に直交する方向に入れる。そして、図９（Ｂ）に示すように、切込みに対応する細長の部分を軸部Ｋとして、軸部Ｋを撚るように長方形状の板面部Ｐを所定角度回転させる。これにより、開口３２、５２に、傾斜面３３ａ、５３ａを有する導出部３３、５３が形成される。この態様でも、成膜室１１の内壁面側に成膜材料の落とし込み構造が形成され、膜Ｍの剥離によりダストＤが発生しても、成膜室１１の内底面１３側に落下し、さらに、隣接する導出部３３、５３との間に、プレート３１が存在しないため、プレート３１の垂直面への成膜材料の付着量をより一層低減できる。また、プレート３１と導出部３３との接続部分である軸部Ｋは小さいため、加工に要する力が少なくなり、導出部３３、５３の平坦を維持した加工がしやすい。

比較的厚いプレート３１に、内底面１３側に向かう傾斜した穴を形成して、この成膜対象側を開口３２、５２としてもよい。この場合、穴の内側を導出部３３、５３とし、穴の内側面の一部を内底面１３に向かう傾斜面３３ａ、５３ａとすることができる。

導出部３３、５３の傾斜面３３ａ、３３ａの角度と大きさは、開口３２、５２から成膜室１１の内壁面側へ、直接成膜材料が到達することを防止できるとともに、付着した成膜材料が内底面１３側へ確実に落下していく角度と大きさとすることが望ましい。このため、傾斜面３３ａ、５３ａは、開口３２、５２との間に成膜材料が流通する隙間を有しつつ、プレート３１に垂直な方向から見て、開口３２、５２を塞ぐ位置に設けてもよい。

このような場合の例を、図１０及び図１１を参照して説明する。例えば、図１０（Ａ）は、第１の実施形態のように、内底面１３に対して垂直方向のプレート３１に方形の導出部３３を設けた例である。この場合に、開口３２を垂直面に投影した面における垂直方向の辺の長さＨ１よりも、傾斜面３３ａを垂直面に投影した面における垂直方向の長さＨ２を大きくしてもよい。

また、図１０（Ｂ）は、第２の実施形態のように水平方向のプレート３１に方形の導出部５３を設けた例である。この場合に、開口５２を水平面に投影した面における水平方向の辺の長さＷ１よりも、傾斜面５３ａを水平面に投影した面における水平方向の辺の長さＷ２を大きくしてもよい。

また、図１１は、第２の実施形態のように水平方向のプレート３１の各開口５２に、一対の導出部５３を設けた例である。この場合に、図１１（Ａ）に示すように、一対の導出部５３を、互いに同等の長さで交差する方向に設けることもできる。また、図１１（Ｂ）に示すように、一対の導出部５３を、互いに異なる長さで交差する方向に設けることもできる。

以上の態様により、基板Ｓ側から成膜室１１の内壁面へ成膜材料が直接到達すること、成膜室１１の内壁面側からダストＤが基板Ｓ側へ戻ることを、より一層防止できる。しかも、傾斜面３３ａ、５３ａの面積を広くすることができるため、より多くの成膜材料を付着させることができる。

また、排気領域１５から排気装置３４への排気の流路を、チャンバ１の外周に複数設けてもよい。例えば、図１２に示すように、チャンバ１が平面視方形状である場合に、チャンバ１の外周の各辺に対応して排気装置３４を配置してもよい。また、チャンバ１が平面視円形状である場合に、全周に亘って所定の間隔で複数の排気装置３４を配置してもよい。これにより、図１２の矢印に示すように、チャンバ1の中心部から外側に向かっての気流がより確実に生じるので、プレート３１側から基板Ｓ側に成膜材料が流入又は逆流することが確実に防止され、ダストＤの基板Ｓへの付着を防止できる。

また、成膜室１１の内壁面と対向するプレート３１の内壁面側の表面及び導出部３３、特に傾斜面３３ａに、例えば、鏡面化等、成膜材料が剥がれやすい表面処理を施してもよい。これによって、より積極的にプレート３１と成膜室１１の内壁面との間に成膜材料を落とし込むことができ、基板Ｓへの影響を防止できる。

さらに、プレート３１の基板Ｓ側の開口３２以外の表面を粗面化してもよい。これによって、付着した成膜材料が剥がれにくくなるので、ダストＤの発生が抑制されて、基板Ｓへの影響を抑制することができる。

なお、付着した成膜材料の積極的剥離をさらに行うために、振動を加えてもよい。例えば、ターゲット交換、基板Ｓの交換時などで直接基板Ｓに付着する恐れがない時に、振動を加えることにより、傾斜面３３ａ、５３ａを介して、内底面１３側へ成膜材料を落下させることができる。振動を加える方法としては、手動による他、プレート３１に振動を与える加振装置を設けてもよい。加振装置としては、例えば、振動モータを駆動源とする装置が考えられる。このようなアイドル時間（待機時間、非成膜時間）で排気して内底面１３に溜まったダストＤを排出すると、時間の無駄もなく、基板Ｓへの付着の心配もなく、防着板３のメンテナンス間隔を飛躍的に長くすることができる。

さらに、上記の実施形態では、防着板３における支持体として、プレート３１を用いていた。しかし、本発明の支持体は、プレート３１には限定されず、成膜装置における成膜室１１の内壁面近傍に、空間を空けて対向して配置され、導出部３３、５３を支持する部材であればよい。例えば、図１３に示すように、支持体として、成膜室１１の内側面又は内底面近傍に、空間を空けて対向して配置された柱状の支柱部６０を用いてもよい。この支柱部６０は、成膜室１１の各内側面又は内底面にそれぞれ設けられた一対の２本の棒状の部材であり、２本の部材の間に、導出部３３、５３が支持されている。また、図１４に示すように、支持体として、成膜室１１の内側面又は内底面近傍に、空間を空けて対向して配置された方形の枠状体６１を用いてもよい。この枠状体６１は、その内側に、導出部３３、５３が支持されている。このように構成することにより、傾斜面３３ａ、５３ａ以外に、成膜材料が付着する面積を減少させることができる。このような支持体も、成膜室１１の内壁面の一辺に亘る長さであっても、複数の部材を組み合わせて長さを確保する構成であってもよいし、導出部３３、５３と一体的に形成されていてもよい。複数の導出部３３、５３の間の開口が、成膜材料が流通する隙間を維持しつつ、支持体に垂直な方向から見て塞がれるように、傾斜面３３ａ、５３ａが設けられていてもよい。

以上、説明した各実施形態の防着板３は、成膜室１１内に着脱できるように構成されており、メンテナンス時には取り外しができる。この取り外し前にも、振動を加えることにより、傾斜面３３ａ、５３ａに付着した成膜材料を、空間１４、排気領域１５から内底面側に落下させることにより、成膜箇所への影響を防止できる。内底面に落下させたダストＤは排気装置３４で排出ができる。防着板３はある程度付着物が落下して排除されるので、清掃も簡単にできる。なお、新品あるいは清掃済み防着板３を取り付けた後、排気装置３４でダストＤの排出を行えば、排気時に舞いがって成膜箇所側へ回り込むことを防止できる。

さらに、本発明は、成膜室内で成膜材料を飛散させて成膜対象に成膜する成膜装置に広く適用可能である。例えば、蒸着装置にも適用可能である。成膜対象も、基板Ｓには限定されない。本発明は、各種成膜対象を成膜して成膜製品を製造する成膜装置及び成膜製品の製造方法として捉えることができる。

１ チャンバ
２、３ 防着板
１１ 成膜室
１２ 内側面
１３ 内底面
１４ 空間
１５ 排気領域
３１ プレート
３２ 開口
３３ 導出部
３３ａ 傾斜面
３４ 排気装置
４１ スペーサ
４２ 取付部材
５２ 開口
５３ 導出部
５３ａ 傾斜面
６０ 支柱部
６１ 枠状体
１００ 成膜装置
Ｄ ダスト
Ｇ ターゲット
Ｋ 軸部
Ｍ 膜
Ｐ 板面部
Ｓ 基板
Ｔ テーブル

Claims (5)

1. 減圧可能な成膜室と、
   成膜源と、
   前記成膜源から飛翔する成膜材料の前記成膜室の内壁面への付着を防止する防着板と、
   を有し、
   前記防着板は、前記内壁面近傍に、前記内壁面との間に空間を空けて対向して配置され、前記空間における前記成膜室の内底面側に傾いた鉛直下向きの傾斜面を有することを特徴とする成膜装置。
2. 前記傾斜面が複数であることを特徴とする請求項１記載の成膜装置。
3. 前記複数の傾斜面は、隣接する傾斜面が重複する部分を有することを特徴とする請求項２記載の成膜装置。
4. 前記傾斜面から剥離した成膜材料を、前記成膜室の内壁面と前記防着板との間の空間から外部へ排出する気流を生じさせる排気装置を有することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の成膜装置。
5. 前記防着板に振動を加える加振装置を有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の成膜装置。

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