JP4821999B2 - シリコンターゲット材 - Google Patents
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〔1〕ターゲット材表面のエロージョン部に挟まれた非エロージョン部が溝状に形成されているシリコンターゲット材であり、この非エロージョン部溝の深さが1mm以上であってターゲット材厚さの5%〜50%であり、さらに該非エロージョン部溝の両端コーナ部が湾曲面によって形成されており、その底部コーナ部の湾曲面の曲率が0.5mm以上であることを特徴とするシリコンターゲット材。
〔2〕非エロージョン部溝の底部コーナ部の曲率が3mm以上である上記[1]に記載するシリコンターゲット材。
〔3〕非エロージョン部溝の底部コーナ部が曲率0.5mm以上に相当する傾斜面によって形成されている上記[1]または上記[2]に記載するターゲット材。
〔4〕ターゲット材が矩形であり、非エロージョン部溝の両端のコーナ部が湾曲面によって形成されており、さらにターゲット材の板厚10mmに対して面取り角度45°および面取り長さ(L)14mmの比で、ターゲット材側端の非エロージョン部が面取り加工されている上記[1]〜上記[3]の何れかに記載するターゲット材。
本発明に係るターゲット材を図1〜図4に示す。図1は本発明に係るターゲット材の平面図、図2はその断面図、図3はその使用態様を示す模式図、図4はその浸食状態を示す模式図である。
図1に示す本発明のターゲット材を使用してスパッタリングを行った(実施例)。ターゲット材の仕様は、ターゲット材全体の縦800mm、横100mm、厚10mm、非エロージョン部溝の幅15mm、溝の深さ5mm、ターゲット側端部分の非エロージョン部の面取り角度45°面取長さ(L)14mmである。一方、比較例として、非エロージョン部溝およびターゲット側端部分の面取りを設けない以外は同寸法のターゲット材を使用し、実施例と同様の条件下でスパッタリングを行った。この結果を表1に示した。
Claims (4)
- ターゲット材表面のエロージョン部に挟まれた非エロージョン部が溝状に形成されているシリコンターゲット材であり、この非エロージョン部溝の深さが1mm以上であってターゲット材厚さの5%〜50%であり、さらに該非エロージョン部溝の両端コーナ部が湾曲面によって形成されており、その底部コーナ部の湾曲面の曲率が0.5mm以上であることを特徴とするシリコンターゲット材。
- 非エロージョン部溝の底部コーナ部の曲率が3mm以上である請求項1に記載するシリコンターゲット材。
- 非エロージョン部溝の底部コーナ部が曲率0.5mm以上に相当する傾斜面によって形成されている請求項1または請求項2に記載するターゲット材。
- ターゲット材が矩形であり、非エロージョン部溝の両端のコーナ部が湾曲面によって形成されており、さらにターゲット材の板厚10mmに対して面取り角度45°および面取り長さ(L)14mmの比で、ターゲット材側端の非エロージョン部が面取り加工されている請求項1〜請求項3の何れかに記載するターゲット材。
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