JP6928331B2 - スパッタリング装置及びスパッタリング方法 - Google Patents
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Description
本発明は、前記防着部は、前記ターゲットに対向する防着面を有し、当該防着面は、前記ステージ上に配置される基板の表面に対して前記ターゲット側の領域内で移動できるように構成されているスパッタリング装置である。
本発明は、前記防着部の防着面に対するターゲット材料の付着量に応じて前記防着部を前記ターゲットから離間させるように前記防着部駆動機構の動作を制御するように構成されているスパッタリング装置である。
本発明は、前記ステージ上に基板の表面が水平となるように配置され、前記防着部駆動機構が鉛直上方向又は下方向に移動できるように構成されているスパッタリング装置である。
また、本発明は、上記いずれか記載のスパッタリング装置を用いるスパッタリング方法であって、前記ターゲットの使用量と前記防着部の防着面に対するターゲット材料の付着量の関係を予め算出しておき、当該算出された前記ターゲットの使用量に基づいて前記防着部を前記ターゲットから離間させるように前記防着部駆動機構の動作を制御するステップを有するスパッタリング方法である。
本発明は、前記基板として、前記ターゲットの外径より小さい外径を有する基板を用いるスパッタリング方法である。
本発明は、前記ターゲットがアルミニウムからなるスパッタリング方法である。
図1は、本発明に係るスパッタリング装置の一例の内部構成を示す部分断面図である。
このステージ5は、例えばシリコンウェハ等の基板10を載置する本体部50を有し、この本体部50内には図示しない静電チャックが設けられている。
この防着面60は、ステージ5の載置部53並びに載置部53に載置された基板10の表面と平行になるように設けられている。
図2に示す例は、メンテナンス直後におけるスパッタリング時の成膜状態を示すものである。
そこで、本実施の形態では、防着部昇降機構7を動作させ、図5に示すように、防着部6をターゲット4から離間する方向、すなわち、鉛直下方に移動させる(例えば1mm程度)。
例えば上記実施の形態では、ターゲットとしてアルミニウムからなるものを用いたが、本発明はこれに限られず、他の材料からなるものを用いることもできる。
2……真空槽
3……バッキングプレート
4……ターゲット
5……ステージ
6……防着部
7……防着部昇降機構(防着部駆動機構)
8……アルミニウム膜
8a…隆起部分
10……基板
10a…端縁部
50……本体部
53……載置部
60……防着面
61……内側端縁部
Claims (7)
- 真空槽と、
前記真空槽内に設けられ、基板が配置されるステージと、
前記真空槽内に設けられ、スパッタリングの際、ターゲットから飛翔して前記ステージ上に配置される基板の縁部の外側近傍の領域に向って基板外方側から基板内方側に斜入射するスパッタ粒子を遮蔽するための防着部とを有し、
前記防着部を、前記ターゲットに対して近接又は離間させるための防着部駆動機構が設けられているスパッタリング装置。 - 前記防着部は、前記ターゲットに対向する防着面を有し、当該防着面は、前記ステージ上に配置される基板の表面に対して前記ターゲット側の領域内で移動できるように構成されている請求項1記載のスパッタリング装置。
- 前記防着部の防着面に対するターゲット材料の付着量に応じて前記防着部を前記ターゲットから離間させるように前記防着部駆動機構の動作を制御するように構成されている請求項1又は2のいずれか1項記載のスパッタリング装置。
- 前記ステージ上に基板の表面が水平となるように配置され、前記防着部駆動機構が鉛直上方向又は下方向に移動できるように構成されている請求項1乃至3のいずれか1項記載のスパッタリング装置。
- 請求項1乃至4のいずれか1項記載のスパッタリング装置を用いるスパッタリング方法であって、
前記ターゲットの使用量と前記防着部の防着面に対するターゲット材料の付着量の関係を予め算出しておき、当該算出された前記ターゲットの使用量に基づいて前記防着部を前記ターゲットから離間させるように前記防着部駆動機構の動作を制御するステップを有するスパッタリング方法。 - 前記基板として、前記ターゲットの外径より小さい外径を有する基板を用いる請求項1記載のスパッタリング方法。
- 前記ターゲットがアルミニウムからなる請求項5又は6のいずれか1項記載のスパッタリング方法。
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JP2017213422A JP6928331B2 (ja) | 2017-11-06 | 2017-11-06 | スパッタリング装置及びスパッタリング方法 |
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