JP7326106B2 - スパッタリング装置 - Google Patents
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Description
Claims (3)
- ターゲットが配置される真空チャンバと、ターゲットに所定電力を投入するスパッタ電源とを備え、ターゲットに電力投入して真空チャンバ内にプラズマ雰囲気を形成し、ターゲットをスパッタリングすることで、真空チャンバ内に存する基板表面に誘電体膜を成膜するスパッタリング装置であって、
ターゲットのスパッタリング時、アノードとして機能するリング状部材をターゲットの周囲を囲うように設けたものにおいて、
ターゲットの厚み方向に沿うターゲットのスパッタ面側を上として、リング状部材は、その上面がターゲットのスパッタ面より下方に位置するように配置されると共に、ターゲットの周囲に設けてリング状部材の上面を部分的に覆うフローティング電位の防着板が設けられ、リング状部材を正の電位に保持する正電位保持手段を更に備え、
前記リング状部材を冷却する冷却手段を更に備えることを特徴とするスパッタリング装置。 - ターゲットが配置される真空チャンバと、ターゲットに所定電力を投入するスパッタ電源とを備え、ターゲットに電力投入して真空チャンバ内にプラズマ雰囲気を形成し、ターゲットをスパッタリングすることで、真空チャンバ内に存する基板表面に誘電体膜を成膜するスパッタリング装置であって、
ターゲットのスパッタリング時、アノードとして機能するリング状部材をターゲットの周囲を囲うように設けたものにおいて、
ターゲットの厚み方向に沿うターゲットのスパッタ面側を上として、リング状部材は、その上面がターゲットのスパッタ面より下方に位置するように配置されると共に、ターゲットの周囲に設けてリング状部材の上面を部分的に覆うフローティング電位の防着板が設けられ、リング状部材を正の電位に保持する正電位保持手段を更に備え、
前記リング状部材の上面を除く部分に、スパッタガスの導入を可能とするガス導入手段が付設されることを特徴とするスパッタリング装置。 - 前記スパッタ電源がパルスDC電源で構成され、その負の出力が前記ターゲットに及びその正の出力が前記リング状部材に夫々接続されて前記スパッタ電源が正電位保持手段を兼用するように構成したことを特徴とする請求項1または請求項2記載のスパッタリング装置。
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