JP2016179969A - フルオレン骨格を有するジアミン、ポリアミック酸、及びポリイミド - Google Patents
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Abstract
Description
下記式(1)で示されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物。
下記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸。
下記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミド。
以下、本発明をその実施の形態とともに記載する。本願発明におけるフルオレン骨格を有するジアミン化合物は以下式(1)で表される。
本発明の上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物は公知の方法により合成することができる。例えば、下記式(5):
で表されるフルオレン骨格とスピロ構造とを併せ持つジオール類(以下スピロフルオレン類と称することもある。)と下記式(6):
で表されるハロゲン化ニトロベンゼン類を反応させて、下記式(7):
で表されるニトロ化安息香酸類又はその誘導体を反応させて、下記式(10):
(式中、R1、R2、R3、R4、m、n、p、qの意味は上述の通りである。)
で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物(上記式(1)においてZがエステル結合であるもの)を製造することができる。
上記式(7)で表されるビス(ニトロフェニルエーテル)体の製造方法として例えば、塩基性化合物存在下、上記式(5)で表されるスピロフルオレン類と上記式(6)で表されるハロゲン化ニトロベンゼン類とを反応することにより得られる。(以下、エーテル化反応と称することもある。)
上記式(10)で表されるビス(ニトロフェニルエステル)体の製造方法として例えば、上記式(5)で表されるスピロフルオレン類と上記式(9)で表されるニトロ安息香酸類とを高温で直接脱水反応させる方法、N,N’−ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水試薬を用いて脱水縮合させる方法、上記式(5)で表されるスピロフルオレン類のジアセテート化体と上記式(9)で表されるニトロ安息香酸類とを高温で反応させ脱酢酸してエステル化する方法(エステル交換法)、上記式(9)で表されるニトロ安息香酸類のカルボキシル基を酸ハライドに変換し、これを脱酸剤の存在下で反応させる方法(酸ハライド法)、トシルクロリド/N,N−ジメチルホルムアミド/ピリジン混合物を用いて上記式(9)で表されるニトロ安息香酸類のカルボキシル基を活性化してエステル化する方法など公知の方法を適用することができる。これらの方法の中でもエステル交換法や酸ハライド法、特に酸ハライド法が経済性、反応性の点で好ましい。以下、酸ハライド法について詳述する。
上記式(7)で表されるビス(ニトロフェニルエーテル)体または上記式(10)で表されるビス(ニトロフェニルエステル)体の末端の2つのニトロ基を還元して、本願発明の上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物を得る方法を説明する。(以下、還元工程と称することもある。)還元工程の実施方法として例えば、上記式(7)で表されるビス(ニトロフェニルエーテル)体または上記式(10)で表されるビス(ニトロフェニルエステル)体がメタノール、エタノール等のプロトン性溶媒に可溶である場合、塩化錫等の還元剤を用いて容易に還元することができる。また、上記式(7)で表されるビス(ニトロフェニルエーテル)体または上記式(10)で表されるビス(ニトロフェニルエステル)体を溶媒に溶解させ、水素雰囲気化、パラジウムや白金等の遷移金属原子を活性炭に担持させた触媒を用い、接触還元法により還元することも可能である。工業的な実施に際しては、上記式(7)で表されるビス(ニトロフェニルエーテル)体または上記式(10)で表されるビス(ニトロフェニルエステル)体を溶解するための溶媒の種類や反応温度の適用範囲の幅の広さや後処理の容易さの点から、接触還元法が好適に用いられる。
続いて、上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸(以下、本発明のポリアミック酸と称することもある)について詳述する。本発明のポリアミック酸は、下記式(2)で表される繰り返し単位を有している。
なお、上記式(2)における酸二無水物残基(A)とは、上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物及び必要に応じ他のジアミンと、後述する酸二無水物とを反応させる際に用いる酸二無水物の、二つの酸無水物基(−CO−O−CO−)以外の構造を表す。
。ポリアミック酸の分子量が1万以上であれば、成型可能であり、また良好な力学特性を維持しやすい。またポリアミック酸の分子量が20万以下であれば、合成する場合に分子量をコントロールしやすく、また適度な粘度の溶液が得られやすく取扱いが容易である場合が多い。なお、ポリアミック酸の分子量は、ポリアミック酸溶液の粘度を目安にすることができる。
続いて、上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミド(以下、本発明のポリイミドと称することもある)について詳述する。本発明のポリイミドは、下記式(3)で表される構造を有する。
次の測定条件でHPLC測定を行ったときの面積百分率値を実施例に記載している各化合物の純度とした。
液体クロマトグラフィー測定条件:
装置:島津製作所(株)製LC−2010C
カラム:ODS(5μm、4.6mmφ×150mm)
移動相:水/メタノール、流量:1.0ml/min
カラム温度:40℃、検出波長:UV254nm
次の測定条件で、重量平均分子量を測定した。
装置:東ソー(株)製 HLC−8200
カラム:TSK-GEL Super AWM―H (6.0 mmI.D.×15cm)
移動相:N,N−ジメチルホルムアミド、流量:1.0ml/min
カラム温度:40℃
分子量標準物質:ポリスチレン
1H−NMRは、内部標準としてテトラメチルシランを用い、溶媒として重クロロホルムあるいは重ジメチルスルホオキシド(DMSO)を用いて、JEOL−ESC400分光計によって記録した。
LC−MSは次の測定条件で分離、質量分析し、目的物を同定した。
・装置:(株)Waters製「Xevo G2 Q−Tof」
・カラム:(株)Waters製「ACQUITY CSH C18」
(1.7μm、2.1mmφ×100mm)
・カラム温度:40℃
・検出波長:UV 210−500nm
・移動相:A液=5mM酢酸アンモニウム水、B液=メタノール
・移動相流量:0.3ml/分
移動相グラジエント:B液濃度:50%(0分)→100%(10分後)→100%(15分後)
検出法:Q−Tof
イオン化法:ESI(+)法
Ion Source:電圧(+)2.0kV、温度150℃
電圧(−)1.0kV、温度150℃
Sampling Cone :電圧 30V、ガスフロー50L/h
Desolvation Cas:温度500℃、ガスフロー1000L/h
ヘイズメータ(スガ試験機(株)製「HGM−2DP」)を用いてポリイミドフィルムの全光線透過率を測定した。
アッベ屈折計((株)アタゴ製「多波長アッベ屈折計 DR−2M」)を用いて、20℃における屈折率(波長:589nm)及び23℃におけるアッベ数(波長:486、589、656nm)を測定した。
なお、上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物自身の屈折率及びアッベ数は下記の方法により測定した。
上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物をジメチルホルムアミドに溶解して10重量%、20重量%及び30重量%溶液を調製し、各溶液について屈折率及びアッベ数を測定した。次に、得られた3点の測定値から近似曲線を導き、これを100重量%に外挿したときの値を上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物の屈折率及びアッベ数とした。
また、ポリイミドフィルムについては、これをフィルム状に成形したものから短冊状に切り出した試験片を用い、上記条件にて測定を行った。
示差走査熱量計(エスアイアイナノテクノロジー(株)製「EXSTAR DSC 7020」)を用いて、昇温速度10℃/分で測定した。
示差走査熱量計(エスアイアイナノテクノロジー(株)製「EXSTAR DSC 7020」)を用いて、昇温速度10℃/分、または20℃/分で測定した。
次の条件で引張強度を測定した。
装置: 島津製作所(株)製 オートグラフ AGS−X
島津製作所(株)製 ロードセル SES−1000
測定条件:幅 5mm つかみ具間距離 100mm
引張速度 10mm/min
上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物の内、下記式(A−1)で表されるジアミン化合物の合成
続いて、水素導入管を有するオートクレーブに上記ビス(ニトロフェニルエーテル)体25.00g(0.041mmol)および水を50重量%含むパラジウム/カーボン粉末(パラジウム含量:乾燥重量換算で5重量%)2.50gを入れ、更にN,N−ジメチルホルムアミド125.00gを加えて80℃まで昇温しビス(ニトロフェニルエーテル)体を溶解させた。次に反応容器を水素で置換した後、水素圧力を506.7kPaに保ちながら80℃で2時間攪拌した。反応後、パラジウム/カーボン粉末を熱濾過して濾別・除去し、濾液を室温まで冷却後、該濾液を大量の水中に滴下することで結晶を析出させ、析出した結晶をろ別・水洗を行った後、該結晶を80℃で3時間真空乾燥して灰色の粗生成物21.07g(純度99.0%、有姿収率93.5%)を得た。得られた粗生成物13.00gをエタノールを用いて再結晶し得られた結晶を、80℃で3時間真空乾燥して灰色粉末12.34g(純度99.0%、有姿収率88.7%)を得た。以下分析結果から、得られた灰色粉末が上記式(A−1)で表される化合物であることを確認した。
1H−NMR(CDCl3)
δ3.56ppm(4H、s)、6.28(2H、d)、6.38(2H、ddd)、6.65(6H、m)、6.86(4H、d)、7.16(2H、d)、7.21(2H、t)、7.34(2H、t)、7.75(2H、d)
マススペクトル値 (M+H)+ 547.20
融点(DSC) 233℃
屈折率 1.66
上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物の内、下記式(A−2)で表されるジアミン化合物の合成
続いて、攪拌機、温度計及び還流冷却管を備えた四つ口フラスコに、上記ビス(ニトロフェニルエーテル)体10.70g(0.018mmol)および水を50重量%含むパラジウム/カーボン粉末(パラジウム含量:乾燥重量換算で10重量%)0.43gを入れ、エタノール139.21g及びヒドラジン一水和物18.19g(0.363mmol)を更に加え、80℃で2時間攪拌した。反応後、パラジウム/カーボン粉末を熱濾過して濾別・除去した後、濾液を室温まで冷却し、該濾液を大量の水中に滴下することで結晶を析出させ、析出した結晶をろ別・水洗を行った後、該結晶を80℃で3時間真空乾燥することで灰色粉末6.98g(純度96.2%、有姿収率72.4%)を得た。以下分析結果から、得られた灰色粉末が上記式(A−2)で表される化合物であることを確認した。
1H−NMR(CDCl3)
δ3.73ppm(4H、s)、6.31(2H、d)、6.43(2H、ddd)、6.71(4H、m)、6.80(2H、d)、6.88(2H、d)、6.98(2H、t)、7.16(2H、d)、7.24(2H、t)、7.37(2H、t)、7.75(2H、d)
マススペクトル値 (M+H)+ 547.20
融点(DSC) 溶融ピークなし
屈折率 1.66
上記式(1)で表されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物の内、下記式(A−3)で表されるジアミン化合物の合成
続いて、水素導入管を有するオートクレーブに上記ビス(ニトロフェニルエステル)体24.52g(0.037mmol)および水を50重量%含むパラジウム/カーボン粉末(パラジウム含量:乾燥重量換算で5重量%)2.45gを入れ、N,N−ジメチルホルムアミド122.60gを更に加えて80℃に加熱し、ビス(ニトロフェニルエステル)体を溶解させた。次に反応容器を水素で置換した後、水素圧力を506.7kPaに保ちながら、80℃で3時間攪拌した。反応後、パラジウム/カーボン粉末を熱濾過して濾別・除去し、濾液を室温まで冷却した後、該濾液を大量の水中に滴下することで結晶を析出させ、析出した結晶をろ別・水洗し結晶を得た。得られた結晶を乾燥することなくメタノールに溶解させ、再結晶して得られた結晶を、80℃で3時間真空乾燥して灰色の生成物20.65g(純度95.0%、有姿収率92.5%)を得た。以下分析結果から、得られた灰色粉末が上記式(A−3)で表される化合物であることを確認した。
1H−NMR(重DMSO)
δ6.15ppm(4H、s)、6.28(2H、d)、6.59(4H、ddd)、6.71(2H、d)、7.17(4H、m)、7.26(2H、t)、7.41(2H、t)、7.74(4H、m)、7.98(2H、d)
マススペクトル値 (M+H)+ 603.19
融点(DSC) 322℃
屈折率 1.68
(1)本発明の上記式(1)で表されるジアミン化合物と酸二無水物から得られるポリアミック酸及びポリイミドの製造例
(上記式(A−1)で表されるジアミン化合物と3,3’,4,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(以下BTDAと称することもある)から得られるポリイミドの製造)
実施例1で得られたジアミン化合物(A−1)2.00g(3.66mmol)を脱水N,N−ジメチルアセトアミド7.9g中に溶解した。次いで、BTDA1.18g(3.66mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させ、上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、113,275であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド4.8gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約23μmであった。
(上記式(A−2)で表されるジアミン化合物とBTDAから得られるポリイミドの製造)
実施例1で得られたジアミン化合物(A−2)2.00g(3.66mmol)を脱水N,N−ジメチルアセトアミド7.9g中に溶解した。次いでBTDA1.18g(3.66mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させ、上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、21,628であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド4.8gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約28μmであった。
(上記式(A−3)で表されるジアミン化合物とBTDAから得られるポリイミドの製造)
実施例1で得られたジアミン化合物(A−3)2.00g(3.32mmol)を脱水N ,N−ジメチルアセトアミド7.9g中に溶解した。次いで、BTDA1.07g(3.32mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させ、上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、23,144であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド4.8gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約27μmであった。
(9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(BAPF)とBTDAから得られるポリイミドの製造)
BAPF2.00g(5.74mmol)を脱水N,N−ジメチルアセトアミド9.5g中に溶解した。次いで、BTDA1.84g(5.74mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は79,954であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド5.9gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱したが、製膜できずポリイミドフィルムは得られなかった。
(上記式(A−1)で表されるジアミン化合物と3,3’,4,4’―ビフェニルテトラカルボン酸二無水物(以下BPDAと称することもある)から得られるポリイミドの製造)
実施例1で得られたジアミン化合物(A−1)1.00g(1.83mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド3.8g中に溶解した。次いで、BPDA0.54g(1.83mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させ上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、256,987であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド2.4gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約25μmであった。
(9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(BAPF)とBPDAから得られるポリイミドの製造)
BAPF2.00g(5.74mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド9.1g中に溶解した。次いで、BPDA1.69g(5.74mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、128,151であった。次いで、N ,N−ジメチルアセトアミド5.7gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱したが、製膜できずポリイミドフィルムは得られなかった。
(上記式(A−1)で表されるジアミン化合物及び4,4’−ジアミノジフェニルエーテル(以下4,4’−DPEと称することもある)、並びにBTDAから得られるポリイミドの製造)
ジアミン化合物(A−1)4.00g(7.32mmol)、4,4’−DPE1.47g(7.32mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド25.2g中に溶解した。次いでBTDA4.72g(14.64mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させ上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、24,329であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド15.6gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約24μmであった。以下表1に、得られたポリイミド薄膜の引張強度、ガラス転移温度(Tg)、屈折率、全光線透過度の測定結果を示す。
(上記式(A−3)で表されるジアミン化合物及び4,4’−DPE、並びにBTDAから得られるポリイミドの製造)
ジアミン化合物(A−3)4.00g(6.64mmol)、4,4’−DPE1.33g(6.64mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド23.8g中に溶解した。次いでBTDA4.28g(13.28mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させ上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、20,614であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド14.6gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約22μmであった。以下表1に、得られたポリイミド薄膜の引張強度、ガラス転移温度(Tg)、屈折率、全光線透過度の測定結果を示す。
(9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(BAPF)及び4,4’−DPE、並びにBTDAから得られるポリイミドの製造)
BAPF4.00g(11.48mmol)、4,4’−DPE2.30g(11.48mmol)をN ,N−ジメチルアセトアミド33.9g中に溶解した。次いでBTDA7.40g(22.96mmol)をゆっくり加えて、室温で16時間反応させポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、33,611であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド20.9gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱してポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約20μmであった。以下表1に、得られたポリイミド薄膜の引張強度、ガラス転移温度(Tg)、屈折率、全光線透過度の測定結果を示す。
(上記式(A−3)で表されるジアミン化合物及び4,4’−DPE、並びに4,4’−オキシジフタル酸二無水物(以下ODPAと称することもある)から得られるポリイミドの製造)
ジアミン化合物(A−3)4.00g(6.64mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド23.4g中に溶解後、ODPA4.12g(13.28mmol)をゆっくり加えて、15℃で1時間反応させた。次いで、4,4’−DPE1.33g(6.64mmol)をゆっくり加え、15℃で1時間反応後、室温で16時間反応させ上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、42,674であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド14.4gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約26μmであった。以下表1に、得られたポリイミド薄膜の引張強度、ガラス転移温度(Tg)、屈折率、全光線透過度の測定結果を示す。
(上記式(A−3)で表されるジアミン化合物及び1,3−ビス(3−アミノフェノキシ)ベンゼン(以下APBと称することもある)、並びにODPAから得られるポリイミドの製造)
ジアミン化合物(A−3)4.00g(6.64mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド24.9g中に溶解後、ODPA4.12g(13.28mmol)をゆっくり加えて、15℃で1時間反応させた。次いで、APB1.94g(6.64mmol)をゆっくり加え、15℃で1時間反応後、室温で16時間反応させ上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、29,943であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド15.3gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約23μmであった。以下表1に、得られたポリイミド薄膜の引張強度、ガラス転移温度(Tg)、屈折率、全光線透過度の測定結果を示す。
(上記式(A−3)で表されるジアミン化合物及び4,4’−メチレンビス(4−シクロヘキシルアミン)(以下4,4’−DCHMと称することもある)、並びにODPAから得られるポリイミドの製造)
ジアミン化合物(A−3)4.00g(6.64mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド24.9g中に溶解後、ODPA4.12g(13.28mmol)をゆっくり加えて、15℃で1時間反応させた。次いで、4,4’−DCHM13.97g(6.64mmol)をゆっくり加え、15℃で1時間反応後、室温で16時間反応させ上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、34,824であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド15.3gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱して上記式(3)で表される繰り返し単位を有するポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約20μmであった。以下表1に、得られたポリイミド薄膜の引張強度、ガラス転移温度(Tg)、屈折率、全光線透過度の測定結果を示す。
(9,9−ビス(4−アミノフェニル)フルオレン(BAPF)及び4,4’−DCHM、並びにODPAから得られるポリイミドの製造)
BAPF4.00g(11.48mmol)をN,N−ジメチルアセトアミド35.8g中に溶解後、ODPA7.12g(22.96mmol)をゆっくり加えて、15℃で1時間反応させた。次いで、4,4’−DCHM24.15g(11.48mmol)をゆっくり加え、15℃で1時間反応後、室温で累計16時間反応させ上記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリアミック酸を合成した。ポリアミック酸の重量平均分子量(Mw)は、32,343であった。次いで、N,N−ジメチルアセトアミド22.1gを加えることでポリアミック酸溶液を希釈した後、1時間撹拌した。得られたポリアミック酸溶液をガラス板上に塗布した後、150℃で1時間、250℃で1時間加熱してポリイミドの薄膜を得た。薄膜の膜厚は約20μmであった。以下表1に、得られたポリイミド薄膜の引張強度、ガラス転移温度(Tg)、屈折率、全光線透過度の測定結果を示す。
Claims (3)
- 下記式(1)で示されるフルオレン骨格を有するジアミン化合物。
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