JP2016164973A5 - - Google Patents

Description

上方吐出ユニットは、外側ガス導管２７と、該外側ガス導管２７内に同軸に配置された内側液体導管２５とを含む。導管２５、２７は、ともに、蓋１４を突き抜け、チャンバ１３内で上を向いているウエハＷ面に液体及び気体が供給されることを可能にする。

ガスシャワーヘッドは、その下側を、図２の平面図にも示されている出口板２８によって区切られる。出口板２８は、多数の排出穴２９を含み、これらの穴は、プロセスガスがガスシャワーヘッドを経て、ガス分布チャンバ３７からウエハＷの上向き面に隣接する領域へ出ていくことを可能にする。この実施形態における排出穴２９は、それぞれ、０．３〜２．０ｍｍ ² 、好ましくは０．５〜１．５ｍｍ ² 、更に好ましくは０．７〜１．２ｍｍ ² の範囲の断面積を有する。好ましくは少なくとも２０の、更に好ましくは少なくとも８０の、よりいっそう好ましくは少なくとも３００の、穴２９がある。

本発明は、その好ましい実施形態に関連付けて説明されてきたが、これらの実施形態が、発明の例示ために提供されたにすぎないこと、並びに発明が、これらの実施形態に限定されず、むしろ、添付の特許請求の範囲の真の範囲及び趣旨によって定められた内容を含むことが理解される。
本発明は以下の適用例としても実現できる。
［適用例１］
ウエハ状物品を処理するための装置であって、
ウエハ状物品を所定の向きで保持するためのスピンチャックと、
前記スピンチャックによって保持されたときのウエハ状物品の表面にプロセスガスを供給するための回転式シャワーヘッドであって、その中央領域及び周辺領域のそれぞれに複数の開口が形成された出口板を含む回転式シャワーヘッドと、
プロセスガスをガス分布チャンバに供給するためのプロセスガス供給部であって、前記ガス分布チャンバは、前記シャワーヘッドに形成された複数の開口と流体連通している、プロセスガス供給部と、
を備える装置。
［適用例２］
適用例１に記載の装置であって、
前記出口板は、前記スピンチャックに取り付けられ、その中央領域を覆っている、装置。
［適用例３］
適用例１に記載の装置であって、
前記出口板は、少なくとも前記スピンチャックのリング部分と一体に形成される、装置。
［適用例４］
適用例１に記載の装置であって、
前記複数の開口のそれぞれは、０．３〜２．０ｍｍ2の、好ましくは０．５〜１．５ｍｍ2の、更に好ましくは０．７〜１．２ｍｍ2の断面積を有する、装置。
［適用例５］
適用例１に記載の装置であって、
前記複数の開口は、少なくとも５０の、好ましくは少なくとも８０の開口を含む、装置。
［適用例６］
適用例１に記載の装置であって、
前記複数の開口は、流体を前記ガス分布チャンバから流れる流体を前記複数の開口を経て前記スピンチャックの半径方向外向きに流れるように方向付けるために、傾斜している、装置。
［適用例７］
適用例１に記載の装置であって、
前記出口板は、その中央領域がその周辺領域よりも、前記スピンチャック上に位置決めされたときのウエハ状物品から遠く離れているように、ドーム状である、装置。
［適用例８］
適用例１に記載の装置であって、
前記出口板は、セラミック材料で形成される、装置。
［適用例９］
適用例１に記載の装置であって、
前記スピンチャックは、チャンバ内に配置される、装置。
［適用例１０］
適用例８に記載の装置であって、
前記チャンバは、密閉チャンバである、装置。
［適用例１１］
適用例１に記載の装置であって、
前記スピンチャックは、磁気ロータであり、前記装置は、更に、前記磁気ロータを取り囲む磁気ステータを備える装置。
［適用例１２］
ウエハ状物品を処理するための装置であって、
ウエハ状物品を所定の向きで保持するためのスピンチャックと、
前記スピンチャックによって保持されたときのウエハ状物品の表面にプロセスガスを供給するための回転式シャワーヘッドと、
前記プロセスガスをガス分布チャンバに供給するためのプロセスガス供給部であって、前記ガス分布チャンバは、前記シャワーヘッドに形成された複数の開口と流体連通している、プロセスガス供給部と、
を備え、前記スピンチャックは、磁気ロータであり、前記装置は、更に、前記磁気ロータを取り囲む磁気ステータを備える装置。
［適用例１３］
適用例１２に記載の装置であって、
前記回転式シャワーヘッドは、排出開口が形成された出口板を含み、前記出口板は、前記磁気ロータに取り付けられ、その中央領域を覆っている、装置。
［適用例１４］
適用例１２に記載の装置であって、
前記出口板は、その中央領域がその周辺領域よりも、前記スピンチャック上に位置決めされたときのウエハ状物品から遠く離れているように、ドーム状である、装置。
［適用例１５］
適用例１２に記載の装置であって、
前記チャンバは、前記磁気ロータの上方に位置決めされた周縁領域と、前記磁気ロータ内で下方へ伸びる中央領域とを有する上壁を含み、前記上壁の内表面と、前記出口板とが、前記ガス分布チャンバを形成している、装置。
［適用例１６］
適用例１５に記載の装置であって、
前記上壁は、固定されている、装置。
［適用例１７］
適用例１２に記載の装置であって、更に、
前記磁気ロータの周縁表面と、前記チャンバの内表面との間に形成された間隙に部六ガスを供給するためのブロックガス供給部を備え、前記間隙は、前記ガス分布チャンバ内にプロセスガスを閉じ込めるように位置決めされる、装置。
［適用例１８］
適用例１２に記載の装置であって、更に、
前記上壁内に位置決めされ、前記出口板の中央開口に通されるガス注入ヘッドを備える装置。
［適用例１９］
適用例１２に記載の装置であって、
前記回転式シャワーヘッドは、前記ウエハ状物品に向かって液体を供給することができる中央開口を含む、装置。

Claims (19)

1. ウエハ状物品を処理するための装置であって、
   ウエハ状物品を所定の向きで保持するためのスピンチャックと、
   前記スピンチャックによって保持されたときのウエハ状物品の表面にプロセスガスを供給するための回転式シャワーヘッドであって、その中央領域及び周辺領域のそれぞれに複数の開口が形成された出口板を含む回転式シャワーヘッドと、
   プロセスガスをガス分布チャンバに供給するためのプロセスガス供給部であって、前記ガス分布チャンバは、前記シャワーヘッドに形成された複数の開口と流体連通している、プロセスガス供給部と、
   を備える装置。
2. 請求項１に記載の装置であって、
   前記出口板は、前記スピンチャックに取り付けられ、その中央領域を覆っている、装置。
3. 請求項１に記載の装置であって、
   前記出口板は、少なくとも前記スピンチャックのリング部分と一体に形成される、装置。
4. 請求項１に記載の装置であって、
   前記複数の開口のそれぞれは、０．３〜２．０ｍｍ²の、好ましくは０．５〜１．５ｍｍ²の、更に好ましくは０．７〜１．２ｍｍ²の断面積を有する、装置。
5. 請求項１に記載の装置であって、
   前記複数の開口は、少なくとも５０の、好ましくは少なくとも８０の開口を含む、装置。
6. 請求項１に記載の装置であって、
   前記複数の開口は、流体を前記ガス分布チャンバから流れる流体を前記複数の開口を経て前記スピンチャックの半径方向外向きに流れるように方向付けるために、傾斜している、装置。
7. 請求項１に記載の装置であって、
   前記出口板は、その中央領域がその周辺領域よりも、前記スピンチャック上に位置決めされたときのウエハ状物品から遠く離れているように、ドーム状である、装置。
8. 請求項１に記載の装置であって、
   前記出口板は、セラミック材料で形成される、装置。
9. 請求項１に記載の装置であって、
   前記スピンチャックは、チャンバ内に配置される、装置。
10. 請求項８に記載の装置であって、
    前記チャンバは、密閉チャンバである、装置。
11. 請求項１に記載の装置であって、
    前記スピンチャックは、磁気ロータであり、前記装置は、更に、前記磁気ロータを取り囲む磁気ステータを備える装置。
12. ウエハ状物品を処理するための装置であって、
    ウエハ状物品を所定の向きで保持するためのスピンチャックと、
    前記スピンチャックによって保持されたときのウエハ状物品の表面にプロセスガスを供給するための回転式シャワーヘッドと、
    前記プロセスガスをガス分布チャンバに供給するためのプロセスガス供給部であって、前記ガス分布チャンバは、前記シャワーヘッドに形成された複数の開口と流体連通している、プロセスガス供給部と、
    を備え、前記スピンチャックは、磁気ロータであり、前記装置は、更に、前記磁気ロータを取り囲む磁気ステータを備える装置。
13. 請求項１２に記載の装置であって、
    前記回転式シャワーヘッドは、排出開口が形成された出口板を含み、前記出口板は、前記磁気ロータに取り付けられ、その中央領域を覆っている、装置。
14. 請求項１３に記載の装置であって、
    前記出口板は、その中央領域がその周辺領域よりも、前記スピンチャック上に位置決めされたときのウエハ状物品から遠く離れているように、ドーム状である、装置。
15. 請求項１３に記載の装置であって、
    前記チャンバは、前記磁気ロータの上方に位置決めされた周縁領域と、前記磁気ロータ内で下方へ伸びる中央領域とを有する上壁を含み、前記上壁の内表面と、前記出口板とが、前記ガス分布チャンバを形成している、装置。
16. 請求項１５に記載の装置であって、
    前記上壁は、固定されている、装置。
17. 請求項１３に記載の装置であって、更に、
    前記磁気ロータの周縁表面と、前記チャンバの内表面との間に形成された間隙に部六ガスを供給するためのブロックガス供給部を備え、前記間隙は、前記ガス分布チャンバ内にプロセスガスを閉じ込めるように位置決めされる、装置。
18. 請求項１５に記載の装置であって、更に、
    前記上壁内に位置決めされ、前記出口板の中央開口に通されるガス注入ヘッドを備える装置。
19. 請求項１２に記載の装置であって、
    前記回転式シャワーヘッドは、前記ウエハ状物品に向かって液体を供給することができる中央開口を含む、装置。