JP2000334397A - 板状試料の流体処理装置及び板状試料の流体処理方法 - Google Patents
板状試料の流体処理装置及び板状試料の流体処理方法Info
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- B08—CLEANING
- B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
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- B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
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- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S134/00—Cleaning and liquid contact with solids
- Y10S134/902—Semiconductor wafer
Abstract
(57)【要約】
【課題】 洗浄時間の短縮、洗浄液の低減及び洗浄ムラ
の抑制を行うことができるようにする。 【解決手段】 上下ベルヌーイ板１２及び１４の裏面
に、これらの全面に渡って設けられる金属板２５を介し
て渦巻き状に循環パイプ２４をそれぞれ設け、この循環
パイプ２４に加熱媒体及び冷却媒体を循環させて上下ベ
ルヌーイ板１２及び１４を急熱及び急冷することができ
るようにするとともに、洗浄時には、上下ベルヌーイ板
１２及び１４を挟ギャップでかつこれらとウェハ１６と
の間のギャップが同じ大きさになるように配置する。
の抑制を行うことができるようにする。 【解決手段】 上下ベルヌーイ板１２及び１４の裏面
に、これらの全面に渡って設けられる金属板２５を介し
て渦巻き状に循環パイプ２４をそれぞれ設け、この循環
パイプ２４に加熱媒体及び冷却媒体を循環させて上下ベ
ルヌーイ板１２及び１４を急熱及び急冷することができ
るようにするとともに、洗浄時には、上下ベルヌーイ板
１２及び１４を挟ギャップでかつこれらとウェハ１６と
の間のギャップが同じ大きさになるように配置する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、上ベルヌーイ板
と下ベルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ
板の面と平行に対面するように板状試料（例えばウェ
ハ）を配置し、試料の上下面に処理液（例えば洗浄液）
を噴出しつつ試料を回転させて試料の流体処理（例えば
洗浄）を行う板状試料の液体処理装置に関するものであ
る。
と下ベルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ
板の面と平行に対面するように板状試料（例えばウェ
ハ）を配置し、試料の上下面に処理液（例えば洗浄液）
を噴出しつつ試料を回転させて試料の流体処理（例えば
洗浄）を行う板状試料の液体処理装置に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】板状試料の液体処理装置として、例え
ば、従来の枚葉洗浄装置は、図５に示されるような構造
を有しており、ウェハ１００をチャックピン１０２にて
チャックし、大気中にて噴射ノズル１０４から洗浄液を
ウェハ１００上に噴射して洗浄する。洗浄液は、ウェハ
１００の中央近傍に噴射され、ウェハ１００を回転させ
ることにより遠心力によりウェハ１００の外周に飛ばさ
れ洗浄される。洗浄液は、洗浄目的により薬液温度が８
０度前後で使用される。
ば、従来の枚葉洗浄装置は、図５に示されるような構造
を有しており、ウェハ１００をチャックピン１０２にて
チャックし、大気中にて噴射ノズル１０４から洗浄液を
ウェハ１００上に噴射して洗浄する。洗浄液は、ウェハ
１００の中央近傍に噴射され、ウェハ１００を回転させ
ることにより遠心力によりウェハ１００の外周に飛ばさ
れ洗浄される。洗浄液は、洗浄目的により薬液温度が８
０度前後で使用される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のものでは、噴射ノズル１０４より噴射された洗浄液
は、ウェハ１００上に噴射されるが、ウェハ１００は常
温であるため、ウェハ１００が昇温されるまでには時間
を要する。また、ウェハ１００の裏面からは熱放射され
るため、ウェハを８０度に昇温させるためには、大きな
熱容量、すなわち、多量の洗浄液を必要とする。さらに
は、洗浄液は着下点からウェハ１００の外周に行くほど
温度低下が顕著となるため、温度分布差が大きくなるの
で、洗浄ムラが発生したり、洗浄時間の短縮が不可能で
あったり、洗浄液の使用量が多くなったりという問題が
ある。
来のものでは、噴射ノズル１０４より噴射された洗浄液
は、ウェハ１００上に噴射されるが、ウェハ１００は常
温であるため、ウェハ１００が昇温されるまでには時間
を要する。また、ウェハ１００の裏面からは熱放射され
るため、ウェハを８０度に昇温させるためには、大きな
熱容量、すなわち、多量の洗浄液を必要とする。さらに
は、洗浄液は着下点からウェハ１００の外周に行くほど
温度低下が顕著となるため、温度分布差が大きくなるの
で、洗浄ムラが発生したり、洗浄時間の短縮が不可能で
あったり、洗浄液の使用量が多くなったりという問題が
ある。
【０００４】このような課題を解決するものとして、特
開平９−１７７６１号公報に示されるものがある。これ
に示されるものは、ウェハを回転可能に保持するスピン
チャックのチャック本体の保持面の下部側に、熱媒体を
循環させてスピンチャックに保持されるウェハと洗浄液
を所定温度に保つ温度調整用熱媒体循環通路を形成し、
スピンチャックの上方には、これと共働してウェハ及び
洗浄液の保温空間を形成するとともに、洗浄液を供給可
能な洗浄液供給ノズルを有する保温体が、スピンチャッ
クに対して上下方向に移動可能に設けられているもので
あり、これにより、洗浄液の供給量及び処理時間の安定
化を図り、スループットを向上させている。
開平９−１７７６１号公報に示されるものがある。これ
に示されるものは、ウェハを回転可能に保持するスピン
チャックのチャック本体の保持面の下部側に、熱媒体を
循環させてスピンチャックに保持されるウェハと洗浄液
を所定温度に保つ温度調整用熱媒体循環通路を形成し、
スピンチャックの上方には、これと共働してウェハ及び
洗浄液の保温空間を形成するとともに、洗浄液を供給可
能な洗浄液供給ノズルを有する保温体が、スピンチャッ
クに対して上下方向に移動可能に設けられているもので
あり、これにより、洗浄液の供給量及び処理時間の安定
化を図り、スループットを向上させている。
【０００５】しかしながら上記特開平９−１７７６１号
公報に示されるものでは、ウェハと保温体との隙間が大
きいため、ウェハを温めるために大量の洗浄液が必要と
なる。また、ウェハはスピンチャック上に直置されてお
り、保温されてウェハが反ったり、他の処理で既にウェ
ハが反っていたりすると、反ってスピンチャックから離
れている個所とスピンチャックに接している個所とで温
度差が生じるため、洗浄ムラが発生したりする可能性が
ある。
公報に示されるものでは、ウェハと保温体との隙間が大
きいため、ウェハを温めるために大量の洗浄液が必要と
なる。また、ウェハはスピンチャック上に直置されてお
り、保温されてウェハが反ったり、他の処理で既にウェ
ハが反っていたりすると、反ってスピンチャックから離
れている個所とスピンチャックに接している個所とで温
度差が生じるため、洗浄ムラが発生したりする可能性が
ある。
【０００６】この発明は、このような課題を解決するた
めのものであり、温度分布の均一化、処理（洗浄）タク
トの短縮、処理（洗浄）液の低減、処理（洗浄）ムラの
発生防止を図れ、歩留まりが向上できて、スループット
向上によるコスト低減を図ることができる板状試料の液
体処理装置を提供することを目的としている。
めのものであり、温度分布の均一化、処理（洗浄）タク
トの短縮、処理（洗浄）液の低減、処理（洗浄）ムラの
発生防止を図れ、歩留まりが向上できて、スループット
向上によるコスト低減を図ることができる板状試料の液
体処理装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、請求項１記載の発明は、上ベルヌーイ板と下ベ
ルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ板の面
と平行に対面するように板状試料を（例えばウェハ）が
配置され、該試料の少なくとも上面に処理液（例えば洗
浄液）を噴出しつつ、少なくとも上ベルヌーイ板と試料
とを相対的に回転させて試料の処理（例えば洗浄処理）
を行う板状試料の流体処理装置（例えばウェハの洗浄装
置）において、少なくとも前記上ベルヌーイ板と試料の
表面とのギャップが０．２〜２ｍｍの挟ギャップで配置
され、該上下ベルヌーイ板には、熱媒体又は冷却媒体を
供給することにより該上下ベルヌーイ板を加熱又は冷却
する流路が設けられていることを特徴とするものであ
る。
ために、請求項１記載の発明は、上ベルヌーイ板と下ベ
ルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ板の面
と平行に対面するように板状試料を（例えばウェハ）が
配置され、該試料の少なくとも上面に処理液（例えば洗
浄液）を噴出しつつ、少なくとも上ベルヌーイ板と試料
とを相対的に回転させて試料の処理（例えば洗浄処理）
を行う板状試料の流体処理装置（例えばウェハの洗浄装
置）において、少なくとも前記上ベルヌーイ板と試料の
表面とのギャップが０．２〜２ｍｍの挟ギャップで配置
され、該上下ベルヌーイ板には、熱媒体又は冷却媒体を
供給することにより該上下ベルヌーイ板を加熱又は冷却
する流路が設けられていることを特徴とするものであ
る。
【０００８】このように、少なくとも上ベルヌーイ板と
ウェハ表面との間は狭ギャップなので、ベルヌーイ板と
板状試料（ウェハ）との間に洗浄液のみを介在させるこ
とができ、これらの間が真空となるので、少量の洗浄液
でより正確にかつ早く試料を昇温させることができる。
ウェハ表面との間は狭ギャップなので、ベルヌーイ板と
板状試料（ウェハ）との間に洗浄液のみを介在させるこ
とができ、これらの間が真空となるので、少量の洗浄液
でより正確にかつ早く試料を昇温させることができる。
【０００９】また、請求項２記載の発明は、前記板状試
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
前記の挟ギャップを形成するように配置されることを特
徴としたものである。
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
前記の挟ギャップを形成するように配置されることを特
徴としたものである。
【００１０】このように、試料は上下ベルヌーイ板と非
接触の状態で温められるので、試料に部分的に温度差が
生じることはなく、全体が均一に昇温される。
接触の状態で温められるので、試料に部分的に温度差が
生じることはなく、全体が均一に昇温される。
【００１１】また、請求項３記載の発明は、前記板状試
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
同じ大きさのギャップを形成するように配置されること
を特徴としたものである。
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
同じ大きさのギャップを形成するように配置されること
を特徴としたものである。
【００１２】このように、上下ベルヌーイ板とウェハと
の間のギャップが同じ大きさなので、試料の表面側及び
裏面側に供給される洗浄液の温度を同じにすることがで
きるため、試料の表裏面とも均一の温度で昇温すること
ができる。
の間のギャップが同じ大きさなので、試料の表面側及び
裏面側に供給される洗浄液の温度を同じにすることがで
きるため、試料の表裏面とも均一の温度で昇温すること
ができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態をウ
ェハの洗浄装置に例を取って説明する。図１に第１の実
施の形態の洗浄装置１０の断面図を示す。洗浄装置１０
においては、互いの面が略平行に対面するように上ベル
ヌーイ板１２と下ベルヌーイ板１４とが上下方向に配置
されており、洗浄時にはこれらの間のギャップが、ウェ
ハの厚さを除くと略０．４〜４ｍｍになるように配置さ
れる。上下ベルヌーイ板１２及び１４には、熱電導が良
く、科学的に安定した素材のＳｉＣやグラファイト、グ
ラファイトにグラシーカーボンをコーティングしたもの
や、パイロカーボンをコーティングしたものなどが使用
される。
ェハの洗浄装置に例を取って説明する。図１に第１の実
施の形態の洗浄装置１０の断面図を示す。洗浄装置１０
においては、互いの面が略平行に対面するように上ベル
ヌーイ板１２と下ベルヌーイ板１４とが上下方向に配置
されており、洗浄時にはこれらの間のギャップが、ウェ
ハの厚さを除くと略０．４〜４ｍｍになるように配置さ
れる。上下ベルヌーイ板１２及び１４には、熱電導が良
く、科学的に安定した素材のＳｉＣやグラファイト、グ
ラファイトにグラシーカーボンをコーティングしたもの
や、パイロカーボンをコーティングしたものなどが使用
される。
【００１４】上ベルヌーイ板１２と下ベルヌーイ板１４
との間には、これらの面と平行に対面するようにウェハ
１６が配置され、洗浄時には、ウェハ１６と上ベルヌー
イ板１２及び下ベルヌーイ板１４との間は、それぞれの
面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍの挟ギャップと
なるように配置され、好ましくは各ギャップは同一の大
きさになるように設定される。ウェハ１６は、これを回
転可能に保持するウェハチャックピン１８に保持されて
おり、ウェハチャックピン１８よりもさらに外周側に
は、上端が下ベルヌーイ板１４に連結されるソトジク２
０が設けられている。
との間には、これらの面と平行に対面するようにウェハ
１６が配置され、洗浄時には、ウェハ１６と上ベルヌー
イ板１２及び下ベルヌーイ板１４との間は、それぞれの
面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍの挟ギャップと
なるように配置され、好ましくは各ギャップは同一の大
きさになるように設定される。ウェハ１６は、これを回
転可能に保持するウェハチャックピン１８に保持されて
おり、ウェハチャックピン１８よりもさらに外周側に
は、上端が下ベルヌーイ板１４に連結されるソトジク２
０が設けられている。
【００１５】上ベルヌーイ板１２及び下ベルヌーイ板１
４の中心には、これらを径方向に貫通して洗浄液をウェ
ハ１６に供給する洗浄液供給バルブ２２が設けられてお
り、上ベルヌーイ板１２及び下ベルヌーイ板１４の裏面
には、これらの全面に金属板２５がそれぞれ設けられて
いる。それぞれの金属板２５上には、水や空気などの加
熱媒体及び冷却媒体を循環可能な循環パイプ２４が、図
３に示されるように渦巻き状に設けられており、循環パ
イプ２４の外周側の端部に加熱媒体及び冷却媒体を供給
する供給パイプ２６が、内周側の端部に加熱媒体及び冷
却媒体を排出する排出パイプ２８が、それぞれ連結され
ている。
４の中心には、これらを径方向に貫通して洗浄液をウェ
ハ１６に供給する洗浄液供給バルブ２２が設けられてお
り、上ベルヌーイ板１２及び下ベルヌーイ板１４の裏面
には、これらの全面に金属板２５がそれぞれ設けられて
いる。それぞれの金属板２５上には、水や空気などの加
熱媒体及び冷却媒体を循環可能な循環パイプ２４が、図
３に示されるように渦巻き状に設けられており、循環パ
イプ２４の外周側の端部に加熱媒体及び冷却媒体を供給
する供給パイプ２６が、内周側の端部に加熱媒体及び冷
却媒体を排出する排出パイプ２８が、それぞれ連結され
ている。
【００１６】図１は、図３の洗浄液供給バルブ２２の中
心と排出パイプ２８の中心を結ぶ直線上で切って供給パ
イプ２６方向に見た図であるため、図１においては供給
パイプ２６と循環パイプ２４との連結部分は断面の奥に
あることになり図示されないが、排出パイプ２８と循環
パイプ２４の連結と同様に連結されている。循環パイプ
２４を流れる加熱媒体及び冷却媒体の熱は、金属板２５
を介して上下ベルヌーイ板１２及び１４の裏面全体に伝
わるようになっている。
心と排出パイプ２８の中心を結ぶ直線上で切って供給パ
イプ２６方向に見た図であるため、図１においては供給
パイプ２６と循環パイプ２４との連結部分は断面の奥に
あることになり図示されないが、排出パイプ２８と循環
パイプ２４の連結と同様に連結されている。循環パイプ
２４を流れる加熱媒体及び冷却媒体の熱は、金属板２５
を介して上下ベルヌーイ板１２及び１４の裏面全体に伝
わるようになっている。
【００１７】次に、洗浄装置１０の作用について説明す
る。上ベルヌーイ板１２が上昇した状態で、ウェハ１６
が搬送されてウェハチャックピン１８に保持される。こ
の後、図示してない昇降機構により上ベルヌーイ板１２
が、ウェハ表面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍに
なり、かつ上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間のギャップが略同一の大きさになる位置まで下降
する。
る。上ベルヌーイ板１２が上昇した状態で、ウェハ１６
が搬送されてウェハチャックピン１８に保持される。こ
の後、図示してない昇降機構により上ベルヌーイ板１２
が、ウェハ表面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍに
なり、かつ上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間のギャップが略同一の大きさになる位置まで下降
する。
【００１８】次いで、加熱媒体が供給パイプ２６から供
給され、循環パイプ２４を流れて排出パイプ２８から排
出されるという加熱媒体の循環を上下ベルヌーイ板１２
及び１４が所定の温度に加熱されるまで行われる。これ
により上下ベルヌーイ板１２及び１４が急熱され、これ
らの温度が所定の温度に達すると、ウェハチャックピン
１８が駆動してウェハ１６が回転するとともに、図４に
示されるような状態で洗浄液が洗浄液供給バルブ２２か
らウェハ１６上に供給されて、ウェハ１６の洗浄が行わ
れる。
給され、循環パイプ２４を流れて排出パイプ２８から排
出されるという加熱媒体の循環を上下ベルヌーイ板１２
及び１４が所定の温度に加熱されるまで行われる。これ
により上下ベルヌーイ板１２及び１４が急熱され、これ
らの温度が所定の温度に達すると、ウェハチャックピン
１８が駆動してウェハ１６が回転するとともに、図４に
示されるような状態で洗浄液が洗浄液供給バルブ２２か
らウェハ１６上に供給されて、ウェハ１６の洗浄が行わ
れる。
【００１９】洗浄液は、ウェハ１６の中心部近傍に供給
され、ウェハ１６の回転による遠心力で外周方向に流
れ、ソトジク２０を伝わって排出される。ウェハ１６の
洗浄中は、上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間が挟ギャップなので、これらの間に洗浄液のみを
介在させることができ、これらの間が真空となる。した
がって、少量の洗浄液でより正確かつ早くウェハ１６を
昇温させることができる。また、ウェハ１６と上下ベル
ヌーイ板１２及び１４とは非接触であるとともにギャッ
プの大きさが同じなので、ウェハ１６に部分的に温度差
が生じることはなく、また、洗浄液の温度もウェハ１６
の表面側と裏面側とで同じになるので、ウェハ１６全体
が均一に昇温される。
され、ウェハ１６の回転による遠心力で外周方向に流
れ、ソトジク２０を伝わって排出される。ウェハ１６の
洗浄中は、上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間が挟ギャップなので、これらの間に洗浄液のみを
介在させることができ、これらの間が真空となる。した
がって、少量の洗浄液でより正確かつ早くウェハ１６を
昇温させることができる。また、ウェハ１６と上下ベル
ヌーイ板１２及び１４とは非接触であるとともにギャッ
プの大きさが同じなので、ウェハ１６に部分的に温度差
が生じることはなく、また、洗浄液の温度もウェハ１６
の表面側と裏面側とで同じになるので、ウェハ１６全体
が均一に昇温される。
【００２０】上下ベルヌーイ板１２及び１４を冷却する
ときは、冷却媒体を供給パイプ２６から供給し、循環パ
イプ２４に流して排出パイプ２８から排出することによ
り行うことができ、これにより上下ベルヌーイ板１２及
び１４が所定の温度に急冷される。
ときは、冷却媒体を供給パイプ２６から供給し、循環パ
イプ２４に流して排出パイプ２８から排出することによ
り行うことができ、これにより上下ベルヌーイ板１２及
び１４が所定の温度に急冷される。
【００２１】実施の形態２．図２に第２の実施の形態を
示す。実施の形態２に示される洗浄装置は、上下ベルヌ
ーイ板３０及び３２の裏面に、これらと対面する側に図
３に示されるような渦巻き状の溝３４ａ及び３６ａを形
成した板状部材３４及び３６を取付け、図示してないＯ
リングでこれらの溝３４ａ及び３６ａを密閉構造とし、
溝３４ａ及び３６ａに加熱媒体及び冷却媒体を循環させ
て上下ベルヌーイ板３０及び３２を急熱及び急冷するも
のであり、その他の構造及び作用は第１の実施の形態の
ものと同じである。
示す。実施の形態２に示される洗浄装置は、上下ベルヌ
ーイ板３０及び３２の裏面に、これらと対面する側に図
３に示されるような渦巻き状の溝３４ａ及び３６ａを形
成した板状部材３４及び３６を取付け、図示してないＯ
リングでこれらの溝３４ａ及び３６ａを密閉構造とし、
溝３４ａ及び３６ａに加熱媒体及び冷却媒体を循環させ
て上下ベルヌーイ板３０及び３２を急熱及び急冷するも
のであり、その他の構造及び作用は第１の実施の形態の
ものと同じである。
【００２２】なお、上記第２の実施の形態においては、
板状部材３４及び３６に溝３４ａ及び３６ａを形成した
が、上下ベルヌーイ板３０及び３２と板状部材３４及び
３６との間に溝が形成されていればよいので、上下ベル
ヌーイ板３０及び３２に溝を形成したり、上下ベルヌー
イ板３０及び３２と板状部材３４及び３６の両方に溝を
形成したりしてもよい。
板状部材３４及び３６に溝３４ａ及び３６ａを形成した
が、上下ベルヌーイ板３０及び３２と板状部材３４及び
３６との間に溝が形成されていればよいので、上下ベル
ヌーイ板３０及び３２に溝を形成したり、上下ベルヌー
イ板３０及び３２と板状部材３４及び３６の両方に溝を
形成したりしてもよい。
【００２３】また、上下ベルヌーイ板１２及び１４に設
ける循環パイプ２４と上下ベルヌーイ板３０及び３２と
板状部材３４及び３６の間に形成する溝の形状は図３に
示されるような渦巻き状のものに限られるものではな
い。
ける循環パイプ２４と上下ベルヌーイ板３０及び３２と
板状部材３４及び３６の間に形成する溝の形状は図３に
示されるような渦巻き状のものに限られるものではな
い。
【００２４】さらには、上下ベルヌーイ板を急熱及び急
冷するために、第１の実施の形態では循環パイプ２４
を、第２の実施の形態では溝３４ａ及び３６ａをそれぞ
れ設けたが、上下ベルヌーイ板が急熱及び急冷されれば
上記以外の方法で行っても良い。
冷するために、第１の実施の形態では循環パイプ２４
を、第２の実施の形態では溝３４ａ及び３６ａをそれぞ
れ設けたが、上下ベルヌーイ板が急熱及び急冷されれば
上記以外の方法で行っても良い。
【００２５】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明は、少なくとも上ベルヌーイ板とウェハとの間が狭ギ
ャップなので、ベルヌーイ板とウェハのような板状試料
との間に洗浄液のような処理液のみを介在させることが
でき、これらの間が真空となるので、少量の処理液でよ
り正確かつ早く試料を昇温させることができる。したが
って、処理（洗浄）時間の短縮、処理液の低減を行うこ
とができ、歩留り向上、スループット向上によるコスト
の低減を図ることができる。
明は、少なくとも上ベルヌーイ板とウェハとの間が狭ギ
ャップなので、ベルヌーイ板とウェハのような板状試料
との間に洗浄液のような処理液のみを介在させることが
でき、これらの間が真空となるので、少量の処理液でよ
り正確かつ早く試料を昇温させることができる。したが
って、処理（洗浄）時間の短縮、処理液の低減を行うこ
とができ、歩留り向上、スループット向上によるコスト
の低減を図ることができる。
【００２６】また、複数種類の処理液を使用する際に
は、各処理液により使用目的温度が異なるが、それぞれ
の温度に対応してベルヌーイ板の温度を素早く変更し、
素早く試料を昇温させて処理を行うことができるので、
それぞれの温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置を使
用するのと比べて処理時間及びコストの低減を図ること
ができる。
は、各処理液により使用目的温度が異なるが、それぞれ
の温度に対応してベルヌーイ板の温度を素早く変更し、
素早く試料を昇温させて処理を行うことができるので、
それぞれの温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置を使
用するのと比べて処理時間及びコストの低減を図ること
ができる。
【００２７】また、請求項２記載の発明は、板状試料の
表裏面が上下ベルヌーイ板と非接触の状態で温められる
ので、試料の各部分により温度差が生じることはなく、
全体が均一に昇温される。したがって、洗浄ムラのよう
な処理ムラを抑制することができる。
表裏面が上下ベルヌーイ板と非接触の状態で温められる
ので、試料の各部分により温度差が生じることはなく、
全体が均一に昇温される。したがって、洗浄ムラのよう
な処理ムラを抑制することができる。
【００２８】また、請求項３記載の発明は、上下ベルヌ
ーイ板と板状試料（ウェハ）の表裏面との間のギャップ
が同じ大きさなので、試料の表面側及び裏面側に供給さ
れる処理液の温度を同じにすることができるため、試料
の表裏面とも均一の温度で昇温することができる。した
がって、処理ムラを抑制することができる。
ーイ板と板状試料（ウェハ）の表裏面との間のギャップ
が同じ大きさなので、試料の表面側及び裏面側に供給さ
れる処理液の温度を同じにすることができるため、試料
の表裏面とも均一の温度で昇温することができる。した
がって、処理ムラを抑制することができる。
【図１】第１の実施の形態に係る試料の液体処理装置の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】第２の実施の形態の液体処理装置の概略断面図
である。
である。
【図３】循環パイプ又は溝の形状を示す平面図である。
【図４】ウェハに洗浄液が供給される状態を示す概略断
面図である。
面図である。
【図５】従来の洗浄装置の概略図である。
１０ 洗浄装置 １２ 上ベルヌーイ板 １４ 下ベルヌーイ板 １６ ウェハ ２２ 洗浄液供給バルブ ２４ 循環パイプ ２６ 供給パイプ ２８ 排出パイプ
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成１２年５月３１日（２０００．５．３
１）
１）
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正内容】
【書類名】 明細書
【発明の名称】 板状試料の流体処理装置及び板状試料
の流体処理方法
の流体処理方法
【特許請求の範囲】
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、上ベルヌーイ板
と下ベルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ
板の面と平行に対面するように板状試料（例えばウェ
ハ）を配置し、試料の上下面に処理液（例えば洗浄液）
を噴出しつつ試料を回転させて試料の流体処理（例えば
洗浄）を行う板状試料の流体処理装置及び流体処理方法
に関するものである。
と下ベルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ
板の面と平行に対面するように板状試料（例えばウェ
ハ）を配置し、試料の上下面に処理液（例えば洗浄液）
を噴出しつつ試料を回転させて試料の流体処理（例えば
洗浄）を行う板状試料の流体処理装置及び流体処理方法
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】板状試料の流体処理装置として、例え
ば、従来の枚葉洗浄装置は、図５に示されるような構造
を有しており、ウェハ１００をチャックピン１０２にて
チャックし、大気中にて噴射ノズル１０４から洗浄液を
ウェハ１００上に噴射して洗浄する。洗浄液は、ウェハ
１００の中央近傍に噴射され、ウェハ１００を回転させ
ることにより遠心力によりウェハ１００の外周に飛ばさ
れ洗浄される。洗浄液は、洗浄目的により薬液温度が８
０度前後で使用される。
ば、従来の枚葉洗浄装置は、図５に示されるような構造
を有しており、ウェハ１００をチャックピン１０２にて
チャックし、大気中にて噴射ノズル１０４から洗浄液を
ウェハ１００上に噴射して洗浄する。洗浄液は、ウェハ
１００の中央近傍に噴射され、ウェハ１００を回転させ
ることにより遠心力によりウェハ１００の外周に飛ばさ
れ洗浄される。洗浄液は、洗浄目的により薬液温度が８
０度前後で使用される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のものでは、噴射ノズル１０４より噴射された洗浄液
は、ウェハ１００上に噴射されるが、ウェハ１００は常
温であるため、ウェハ１００が昇温されるまでには時間
を要する。また、ウェハ１００の裏面からは熱放射され
るため、ウェハを８０度に昇温させるためには、大きな
熱容量、すなわち、多量の洗浄液を必要とする。さらに
は、洗浄液は着下点からウェハ１００の外周に行くほど
温度低下が顕著となるため、温度分布差が大きくなるの
で、洗浄ムラが発生したり、洗浄時間の短縮が不可能で
あったり、洗浄液の使用量が多くなったりするという問
題がある。
来のものでは、噴射ノズル１０４より噴射された洗浄液
は、ウェハ１００上に噴射されるが、ウェハ１００は常
温であるため、ウェハ１００が昇温されるまでには時間
を要する。また、ウェハ１００の裏面からは熱放射され
るため、ウェハを８０度に昇温させるためには、大きな
熱容量、すなわち、多量の洗浄液を必要とする。さらに
は、洗浄液は着下点からウェハ１００の外周に行くほど
温度低下が顕著となるため、温度分布差が大きくなるの
で、洗浄ムラが発生したり、洗浄時間の短縮が不可能で
あったり、洗浄液の使用量が多くなったりするという問
題がある。
【０００４】このような課題を解決するものとして、特
開平９−１７７６１号公報に示されるものがある。これ
に示されるものは、ウェハを回転可能に保持するスピン
チャックのチャック本体の保持面の下部側に、熱媒体を
循環させてスピンチャックに保持されるウェハと洗浄液
を所定温度に保つ温度調整用熱媒体循環通路を形成し、
スピンチャックの上方には、これと共働してウェハ及び
洗浄液の保温空間を形成するとともに、洗浄液を供給可
能な洗浄液供給ノズルを有する保温体が、スピンチャッ
クに対して上下方向に移動可能に設けられているもので
あり、これにより、洗浄液の供給量及び処理時間の安定
化を図り、スループットを向上させている。
開平９−１７７６１号公報に示されるものがある。これ
に示されるものは、ウェハを回転可能に保持するスピン
チャックのチャック本体の保持面の下部側に、熱媒体を
循環させてスピンチャックに保持されるウェハと洗浄液
を所定温度に保つ温度調整用熱媒体循環通路を形成し、
スピンチャックの上方には、これと共働してウェハ及び
洗浄液の保温空間を形成するとともに、洗浄液を供給可
能な洗浄液供給ノズルを有する保温体が、スピンチャッ
クに対して上下方向に移動可能に設けられているもので
あり、これにより、洗浄液の供給量及び処理時間の安定
化を図り、スループットを向上させている。
【０００５】しかしながら上記特開平９−１７７６１号
公報に示されるものでは、ウェハと保温体との隙間が大
きいため、ウェハを温めるために大量の洗浄液が必要と
なる。また、ウェハはスピンチャック上に直置されてお
り、保温されてウェハが反ったり、他の処理で既にウェ
ハが反っていたりすると、反ってスピンチャックから離
れている個所とスピンチャックに接している個所とで温
度差が生じるため、洗浄ムラが発生したりする可能性が
ある。
公報に示されるものでは、ウェハと保温体との隙間が大
きいため、ウェハを温めるために大量の洗浄液が必要と
なる。また、ウェハはスピンチャック上に直置されてお
り、保温されてウェハが反ったり、他の処理で既にウェ
ハが反っていたりすると、反ってスピンチャックから離
れている個所とスピンチャックに接している個所とで温
度差が生じるため、洗浄ムラが発生したりする可能性が
ある。
【０００６】この発明は、このような課題を解決するた
めのものであり、温度分布の均一化、処理（洗浄）タク
トの短縮、処理（洗浄）液の低減、処理（洗浄）ムラの
発生防止を図れ、歩留まりが向上できて、スループット
向上によるコスト低減を図ることができる板状試料の流
体処理装置を提供することを目的としている。
めのものであり、温度分布の均一化、処理（洗浄）タク
トの短縮、処理（洗浄）液の低減、処理（洗浄）ムラの
発生防止を図れ、歩留まりが向上できて、スループット
向上によるコスト低減を図ることができる板状試料の流
体処理装置を提供することを目的としている。
【０００７】
【課題を解決するための手段】前述した目的を達成する
ために、請求項１記載の発明は、上ベルヌーイ板と下ベ
ルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ板の面
と平行に対面するように板状試料を（例えばウェハ）が
配置され、該試料の少なくとも上面に処理液（例えば洗
浄液）を噴出しつつ、少なくとも上ベルヌーイ板と試料
とを相対的に回転させて試料の処理（例えば洗浄処理）
を行う板状試料の流体処理装置（例えばウェハの洗浄装
置）において、少なくとも前記上ベルヌーイ板と試料の
表面とのギャップが０．２〜２ｍｍの狭ギャップで配置
され、該上下ベルヌーイ板には、熱媒体又は冷却媒体を
供給することにより該上下ベルヌーイ板を加熱又は冷却
する流路が設けられていることを特徴とするものであ
る。
ために、請求項１記載の発明は、上ベルヌーイ板と下ベ
ルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌーイ板の面
と平行に対面するように板状試料を（例えばウェハ）が
配置され、該試料の少なくとも上面に処理液（例えば洗
浄液）を噴出しつつ、少なくとも上ベルヌーイ板と試料
とを相対的に回転させて試料の処理（例えば洗浄処理）
を行う板状試料の流体処理装置（例えばウェハの洗浄装
置）において、少なくとも前記上ベルヌーイ板と試料の
表面とのギャップが０．２〜２ｍｍの狭ギャップで配置
され、該上下ベルヌーイ板には、熱媒体又は冷却媒体を
供給することにより該上下ベルヌーイ板を加熱又は冷却
する流路が設けられていることを特徴とするものであ
る。
【０００８】このように、少なくとも上ベルヌーイ板と
ウェハ表面との間は狭ギャップなので、ベルヌーイ板と
板状試料（ウェハ）との間に洗浄液のみを介在させるこ
とができ、これらの間が真空となるので、少量の洗浄液
でより正確にかつ早く試料を昇温させることができる。
ウェハ表面との間は狭ギャップなので、ベルヌーイ板と
板状試料（ウェハ）との間に洗浄液のみを介在させるこ
とができ、これらの間が真空となるので、少量の洗浄液
でより正確にかつ早く試料を昇温させることができる。
【０００９】また、請求項２記載の発明は、前記板状試
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
前記の狭ギャップを形成するように配置されることを特
徴としたものである。
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
前記の狭ギャップを形成するように配置されることを特
徴としたものである。
【００１０】このように、試料は上下ベルヌーイ板と非
接触の状態で温められるので、試料に部分的に温度差が
生じることはなく、全体が均一に昇温される。
接触の状態で温められるので、試料に部分的に温度差が
生じることはなく、全体が均一に昇温される。
【００１１】また、請求項３記載の発明は、前記板状試
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
同じ大きさのギャップを形成するように配置されること
を特徴としたものである。
料の表裏面と前記上下ベルヌーイ板との間は、それぞれ
同じ大きさのギャップを形成するように配置されること
を特徴としたものである。
【００１２】このように、上下ベルヌーイ板とウェハと
の間のギャップが同じ大きさなので、試料の表面側及び
裏面側に供給される洗浄液の温度を同じにすることがで
きるため、試料の表裏面とも均一の温度で昇温すること
ができる。
の間のギャップが同じ大きさなので、試料の表面側及び
裏面側に供給される洗浄液の温度を同じにすることがで
きるため、試料の表裏面とも均一の温度で昇温すること
ができる。
【００１３】また、請求項４記載の発明は、上ベルヌー
イ板と下ベルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌ
ーイ板の面と平行に対面するように板状試料を配置し、
該試料の少なくとも上面に処理液を噴出しつつ、少なく
とも上ベルヌーイ板と試料とを相対的に回転させて試料
の処理を行う板状試料の流体処理方法において、少なく
とも前記上ベルヌーイ板と試料の表面とのギャップが
０．２〜２ｍｍの狭ギャップで配置され、該上下ベルヌ
ーイ板に、熱媒体又は冷却媒体を供給することにより前
記処理液を所定の温度に加熱又は冷却することを特徴と
したものである。
イ板と下ベルヌーイ板を平行に設け、これら上下ベルヌ
ーイ板の面と平行に対面するように板状試料を配置し、
該試料の少なくとも上面に処理液を噴出しつつ、少なく
とも上ベルヌーイ板と試料とを相対的に回転させて試料
の処理を行う板状試料の流体処理方法において、少なく
とも前記上ベルヌーイ板と試料の表面とのギャップが
０．２〜２ｍｍの狭ギャップで配置され、該上下ベルヌ
ーイ板に、熱媒体又は冷却媒体を供給することにより前
記処理液を所定の温度に加熱又は冷却することを特徴と
したものである。
【００１４】このように、処理液を所定の温度に加熱又
は冷却して、試料の処理を行うことで、処理効果を高め
ることができる。
は冷却して、試料の処理を行うことで、処理効果を高め
ることができる。
【００１５】また、請求項５記載の発明は、前記処理液
は複数種類のものが用いられ、それぞれの処理液が前記
試料の少なくとも上面に噴出されるように供給される際
に、前記熱媒体又は冷却媒体により、各処理液がその使
用温度に加熱又は冷却されることを特徴とする。
は複数種類のものが用いられ、それぞれの処理液が前記
試料の少なくとも上面に噴出されるように供給される際
に、前記熱媒体又は冷却媒体により、各処理液がその使
用温度に加熱又は冷却されることを特徴とする。
【００１６】複数種類の処理液を使用する際には、各処
理液により使用目的温度が異なるが、それぞれの温度に
対応してベルヌーイ板の温度を素早く変更し、素早く処
理液および試料を昇温させて処理を行うことができるの
で、それぞれの温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置
を使用するのと比べて処理時間及びコストの低減を図る
ことができる。
理液により使用目的温度が異なるが、それぞれの温度に
対応してベルヌーイ板の温度を素早く変更し、素早く処
理液および試料を昇温させて処理を行うことができるの
で、それぞれの温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置
を使用するのと比べて処理時間及びコストの低減を図る
ことができる。
【００１７】
【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態をウ
ェハの洗浄装置に例を取って説明する。図１に第１の実
施の形態の洗浄装置１０の断面図を示す。洗浄装置１０
においては、互いの面が略平行に対面するように上ベル
ヌーイ板１２と下ベルヌーイ板１４とが上下方向に配置
されており、洗浄時にはこれらの間のギャップが、ウェ
ハの厚さを除くと略０．４〜４ｍｍになるように配置さ
れる。上下ベルヌーイ板１２及び１４には、熱電導が良
く、化学的に安定した素材のＳｉＣやグラファイト、グ
ラファイトにグラシーカーボンをコーティングしたもの
や、パイロカーボンをコーティングしたものなどが使用
される。
ェハの洗浄装置に例を取って説明する。図１に第１の実
施の形態の洗浄装置１０の断面図を示す。洗浄装置１０
においては、互いの面が略平行に対面するように上ベル
ヌーイ板１２と下ベルヌーイ板１４とが上下方向に配置
されており、洗浄時にはこれらの間のギャップが、ウェ
ハの厚さを除くと略０．４〜４ｍｍになるように配置さ
れる。上下ベルヌーイ板１２及び１４には、熱電導が良
く、化学的に安定した素材のＳｉＣやグラファイト、グ
ラファイトにグラシーカーボンをコーティングしたもの
や、パイロカーボンをコーティングしたものなどが使用
される。
【００１８】上ベルヌーイ板１２と下ベルヌーイ板１４
との間には、これらの面と平行に対面するようにウェハ
１６が配置され、洗浄時には、ウェハ１６と上ベルヌー
イ板１２及び下ベルヌーイ板１４との間は、それぞれの
面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍの狭ギャップと
なるように配置され、好ましくは各ギャップは同一の大
きさになるように設定される。ウェハ１６は、これを回
転可能に保持するウェハチャックピン１８に保持されて
おり、ウェハチャックピン１８よりもさらに外周側に
は、上端が下ベルヌーイ板１４に連結されるソトジク２
０が設けられている。
との間には、これらの面と平行に対面するようにウェハ
１６が配置され、洗浄時には、ウェハ１６と上ベルヌー
イ板１２及び下ベルヌーイ板１４との間は、それぞれの
面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍの狭ギャップと
なるように配置され、好ましくは各ギャップは同一の大
きさになるように設定される。ウェハ１６は、これを回
転可能に保持するウェハチャックピン１８に保持されて
おり、ウェハチャックピン１８よりもさらに外周側に
は、上端が下ベルヌーイ板１４に連結されるソトジク２
０が設けられている。
【００１９】上ベルヌーイ板１２及び下ベルヌーイ板１
４の中心には、これらを径方向に貫通して洗浄液をウェ
ハ１６に供給する洗浄液供給バルブ２２が設けられてお
り、上ベルヌーイ板１２及び下ベルヌーイ板１４の裏面
には、これらの全面に金属板２５がそれぞれ設けられて
いる。それぞれの金属板２５上には、水や空気などの加
熱媒体及び冷却媒体を循環可能な循環パイプ２４が、図
３に示されるように渦巻き状に設けられており、循環パ
イプ２４の外周側の端部に加熱媒体及び冷却媒体を供給
する供給パイプ２６が、内周側の端部に加熱媒体及び冷
却媒体を排出する排出パイプ２８が、それぞれ連結され
ている。
４の中心には、これらを径方向に貫通して洗浄液をウェ
ハ１６に供給する洗浄液供給バルブ２２が設けられてお
り、上ベルヌーイ板１２及び下ベルヌーイ板１４の裏面
には、これらの全面に金属板２５がそれぞれ設けられて
いる。それぞれの金属板２５上には、水や空気などの加
熱媒体及び冷却媒体を循環可能な循環パイプ２４が、図
３に示されるように渦巻き状に設けられており、循環パ
イプ２４の外周側の端部に加熱媒体及び冷却媒体を供給
する供給パイプ２６が、内周側の端部に加熱媒体及び冷
却媒体を排出する排出パイプ２８が、それぞれ連結され
ている。
【００２０】図１は、図３の洗浄液供給バルブ２２の中
心と排出パイプ２８の中心を結ぶ直線上で切って供給パ
イプ２６方向に見た図であるため、図１においては供給
パイプ２６と循環パイプ２４との連結部分は断面の奥に
あることになり図示されないが、排出パイプ２８と循環
パイプ２４の連結と同様に連結されている。循環パイプ
２４を流れる加熱媒体及び冷却媒体の熱は、金属板２５
を介して上下ベルヌーイ板１２及び１４の裏面全体に伝
わるようになっている。
心と排出パイプ２８の中心を結ぶ直線上で切って供給パ
イプ２６方向に見た図であるため、図１においては供給
パイプ２６と循環パイプ２４との連結部分は断面の奥に
あることになり図示されないが、排出パイプ２８と循環
パイプ２４の連結と同様に連結されている。循環パイプ
２４を流れる加熱媒体及び冷却媒体の熱は、金属板２５
を介して上下ベルヌーイ板１２及び１４の裏面全体に伝
わるようになっている。
【００２１】次に、洗浄装置１０の作用について説明す
る。上ベルヌーイ板１２が上昇した状態で、ウェハ１６
が搬送されてウェハチャックピン１８に保持される。こ
の後、図示してない昇降機構により上ベルヌーイ板１２
が、ウェハ表面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍに
なり、かつ上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間のギャップが略同一の大きさになる位置まで下降
する。
る。上ベルヌーイ板１２が上昇した状態で、ウェハ１６
が搬送されてウェハチャックピン１８に保持される。こ
の後、図示してない昇降機構により上ベルヌーイ板１２
が、ウェハ表面に対するギャップが略０．２〜２ｍｍに
なり、かつ上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間のギャップが略同一の大きさになる位置まで下降
する。
【００２２】次いで、加熱媒体が供給パイプ２６から供
給され、循環パイプ２４を流れて排出パイプ２８から排
出されるという加熱媒体の循環を上下ベルヌーイ板１２
及び１４が所定の温度に加熱されるまで行われる。これ
により上下ベルヌーイ板１２及び１４が急熱され、これ
らの温度が所定の温度に達すると、ウェハチャックピン
１８が駆動してウェハ１６が回転するとともに、図４に
示されるような状態で洗浄液が洗浄液供給バルブ２２か
らウェハ１６上に供給されて、ウェハ１６の洗浄が行わ
れる。
給され、循環パイプ２４を流れて排出パイプ２８から排
出されるという加熱媒体の循環を上下ベルヌーイ板１２
及び１４が所定の温度に加熱されるまで行われる。これ
により上下ベルヌーイ板１２及び１４が急熱され、これ
らの温度が所定の温度に達すると、ウェハチャックピン
１８が駆動してウェハ１６が回転するとともに、図４に
示されるような状態で洗浄液が洗浄液供給バルブ２２か
らウェハ１６上に供給されて、ウェハ１６の洗浄が行わ
れる。
【００２３】洗浄液は、ウェハ１６の中心部近傍に供給
され、ウェハ１６の回転による遠心力で外周方向に流
れ、ソトジク２０を伝わって排出される。ウェハ１６の
洗浄中は、上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間が狭ギャップなので、これらの間に洗浄液のみを
介在させることができ、これらの間が真空となる。した
がって、少量の洗浄液でより正確かつ早くウェハ１６を
昇温させることができる。また、ウェハ１６と上下ベル
ヌーイ板１２及び１４とは非接触であるとともにギャッ
プの大きさが同じなので、ウェハ１６に部分的に温度差
が生じることはなく、また、洗浄液の温度もウェハ１６
の表面側と裏面側とで同じになるので、ウェハ１６全体
が均一に昇温される。
され、ウェハ１６の回転による遠心力で外周方向に流
れ、ソトジク２０を伝わって排出される。ウェハ１６の
洗浄中は、上下ベルヌーイ板１２及び１４とウェハ１６
との間が狭ギャップなので、これらの間に洗浄液のみを
介在させることができ、これらの間が真空となる。した
がって、少量の洗浄液でより正確かつ早くウェハ１６を
昇温させることができる。また、ウェハ１６と上下ベル
ヌーイ板１２及び１４とは非接触であるとともにギャッ
プの大きさが同じなので、ウェハ１６に部分的に温度差
が生じることはなく、また、洗浄液の温度もウェハ１６
の表面側と裏面側とで同じになるので、ウェハ１６全体
が均一に昇温される。
【００２４】上下ベルヌーイ板１２及び１４を冷却する
ときは、冷却媒体を供給パイプ２６から供給し、循環パ
イプ２４に流して排出パイプ２８から排出することによ
り行うことができ、これにより上下ベルヌーイ板１２及
び１４が所定の温度に急冷される。
ときは、冷却媒体を供給パイプ２６から供給し、循環パ
イプ２４に流して排出パイプ２８から排出することによ
り行うことができ、これにより上下ベルヌーイ板１２及
び１４が所定の温度に急冷される。
【００２５】実施の形態２．図２に第２の実施の形態を
示す。実施の形態２に示される洗浄装置は、上下ベルヌ
ーイ板３０及び３２の裏面に、これらと対面する側に図
３に示されるような渦巻き状の溝３４ａ及び３６ａを形
成した板状部材３４及び３６を取付け、図示してないＯ
リングでこれらの溝３４ａ及び３６ａを密閉構造とし、
溝３４ａ及び３６ａに加熱媒体及び冷却媒体を循環させ
て上下ベルヌーイ板３０及び３２を急熱及び急冷するも
のであり、その他の構造及び作用は第１の実施の形態の
ものと同じである。
示す。実施の形態２に示される洗浄装置は、上下ベルヌ
ーイ板３０及び３２の裏面に、これらと対面する側に図
３に示されるような渦巻き状の溝３４ａ及び３６ａを形
成した板状部材３４及び３６を取付け、図示してないＯ
リングでこれらの溝３４ａ及び３６ａを密閉構造とし、
溝３４ａ及び３６ａに加熱媒体及び冷却媒体を循環させ
て上下ベルヌーイ板３０及び３２を急熱及び急冷するも
のであり、その他の構造及び作用は第１の実施の形態の
ものと同じである。
【００２６】なお、上記第２の実施の形態においては、
板状部材３４及び３６に溝３４ａ及び３６ａを形成した
が、上下ベルヌーイ板３０及び３２と板状部材３４及び
３６との間に溝が形成されていればよいので、上下ベル
ヌーイ板３０及び３２に溝を形成したり、上下ベルヌー
イ板３０及び３２と板状部材３４及び３６の両方に溝を
形成したりしてもよい。
板状部材３４及び３６に溝３４ａ及び３６ａを形成した
が、上下ベルヌーイ板３０及び３２と板状部材３４及び
３６との間に溝が形成されていればよいので、上下ベル
ヌーイ板３０及び３２に溝を形成したり、上下ベルヌー
イ板３０及び３２と板状部材３４及び３６の両方に溝を
形成したりしてもよい。
【００２７】また、上下ベルヌーイ板１２及び１４に設
ける循環パイプ２４と上下ベルヌーイ板３０及び３２と
板状部材３４及び３６の間に形成する溝の形状は図３に
示されるような渦巻き状のものに限られるものではな
い。
ける循環パイプ２４と上下ベルヌーイ板３０及び３２と
板状部材３４及び３６の間に形成する溝の形状は図３に
示されるような渦巻き状のものに限られるものではな
い。
【００２８】さらには、上下ベルヌーイ板を急熱及び急
冷するために、第１の実施の形態では循環パイプ２４
を、第２の実施の形態では溝３４ａ及び３６ａをそれぞ
れ設けたが、上下ベルヌーイ板が急熱及び急冷されれば
上記以外の方法で行っても良い。
冷するために、第１の実施の形態では循環パイプ２４
を、第２の実施の形態では溝３４ａ及び３６ａをそれぞ
れ設けたが、上下ベルヌーイ板が急熱及び急冷されれば
上記以外の方法で行っても良い。
【００２９】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明は、少なくとも上ベルヌーイ板とウェハとの間が狭ギ
ャップなので、ベルヌーイ板とウェハのような板状試料
との間に洗浄液のような処理液のみを介在させることが
でき、これらの間が真空となるので、少量の処理液でよ
り正確かつ早く試料を昇温させることができる。したが
って、処理（洗浄）時間の短縮、処理液の低減を行うこ
とができ、歩留り向上、スループット向上によるコスト
の低減を図ることができる。
明は、少なくとも上ベルヌーイ板とウェハとの間が狭ギ
ャップなので、ベルヌーイ板とウェハのような板状試料
との間に洗浄液のような処理液のみを介在させることが
でき、これらの間が真空となるので、少量の処理液でよ
り正確かつ早く試料を昇温させることができる。したが
って、処理（洗浄）時間の短縮、処理液の低減を行うこ
とができ、歩留り向上、スループット向上によるコスト
の低減を図ることができる。
【００３０】また、複数種類の処理液を使用する際に
は、各処理液により使用目的温度が異なるが、それぞれ
の温度に対応してベルヌーイ板の温度を素早く変更し、
素早く試料を昇温させて処理を行うことができるので、
それぞれの温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置を使
用するのと比べて処理時間及びコストの低減を図ること
ができる。
は、各処理液により使用目的温度が異なるが、それぞれ
の温度に対応してベルヌーイ板の温度を素早く変更し、
素早く試料を昇温させて処理を行うことができるので、
それぞれの温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置を使
用するのと比べて処理時間及びコストの低減を図ること
ができる。
【００３１】また、請求項２記載の発明は、板状試料の
表裏面が上下ベルヌーイ板と非接触の状態で温められる
ので、試料の各部分により温度差が生じることはなく、
全体が均一に昇温される。したがって、洗浄ムラのよう
な処理ムラを抑制することができる。
表裏面が上下ベルヌーイ板と非接触の状態で温められる
ので、試料の各部分により温度差が生じることはなく、
全体が均一に昇温される。したがって、洗浄ムラのよう
な処理ムラを抑制することができる。
【００３２】また、請求項３記載の発明は、上下ベルヌ
ーイ板と板状試料（ウェハ）の表裏面との間のギャップ
が同じ大きさなので、試料の表面側及び裏面側に供給さ
れる処理液の温度を同じにすることができるため、試料
の表裏面とも均一の温度で昇温することができる。した
がって、処理ムラを抑制することができる。
ーイ板と板状試料（ウェハ）の表裏面との間のギャップ
が同じ大きさなので、試料の表面側及び裏面側に供給さ
れる処理液の温度を同じにすることができるため、試料
の表裏面とも均一の温度で昇温することができる。した
がって、処理ムラを抑制することができる。
【００３３】また、請求項４記載の発明は、少なくとも
上ベルヌーイ板とウェハとの間が狭ギャップで配置さ
れ、該上下ベルヌーイ板に、熱媒体又は冷却媒体を供給
することにより前記処理液を所定の温度に加熱又は冷却
するようにしたため、処理効果を高めることができる。
上ベルヌーイ板とウェハとの間が狭ギャップで配置さ
れ、該上下ベルヌーイ板に、熱媒体又は冷却媒体を供給
することにより前記処理液を所定の温度に加熱又は冷却
するようにしたため、処理効果を高めることができる。
【００３４】また、請求項５記載の発明は、各処理液が
その使用温度に加熱又は冷却される。これによれば、複
数種類の処理液を使用する際には、各処理液により使用
目的温度が異なるが、それぞれの温度に対応してベルヌ
ーイ板の温度を素早く変更し、素早く処理液および試料
を昇温させて処理を行うことができるので、それぞれの
温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置を使用するのと
比べて処理時間及びコストの低減を図ることができる。
その使用温度に加熱又は冷却される。これによれば、複
数種類の処理液を使用する際には、各処理液により使用
目的温度が異なるが、それぞれの温度に対応してベルヌ
ーイ板の温度を素早く変更し、素早く処理液および試料
を昇温させて処理を行うことができるので、それぞれの
温度に合わせた専用の処理（洗浄）装置を使用するのと
比べて処理時間及びコストの低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施の形態に係る試料の流体処理装置の
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】第２の実施の形態の流体処理装置の概略断面図
である。
である。
【図３】循環パイプ又は溝の形状を示す平面図である。
【図４】ウェハに洗浄液が供給される状態を示す概略断
面図である。
面図である。
【図５】従来の洗浄装置の概略図である。
【符号の説明】 １０ 洗浄装置 １２ 上ベルヌーイ板 １４ 下ベルヌーイ板 １６ ウェハ ２２ 洗浄液供給バルブ ２４ 循環パイプ ２６ 供給パイプ ２８ 排出パイプ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡 齊 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 藤城 雅隆 東京都中野区東中野三丁目14番20号 国際 電気株式会社内 (72)発明者 大録 範行 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所内 (72)発明者 田中 雄一郎 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所内 Ｆターム(参考） 3B201 AA03 AB23 AB34 AB44 BB24 BB82 BB92 CB01
Claims (3)
- 【請求項１】 上ベルヌーイ板と下ベルヌーイ板を平行
に設け、これら上下ベルヌーイ板の面と平行に対面する
ように板状試料を配置し、該試料の少なくとも上面に処
理液を噴出しつつ、少なくとも上ベルヌーイ板と試料と
を相対的に回転させて試料の処理を行う板状試料の流体
処理装置において、 少なくとも前記上ベルヌーイ板と試料の表面とのギャッ
プが０．２〜２ｍｍの挟ギャップで配置され、該上下ベ
ルヌーイ板には、熱媒体又は冷却媒体を供給することに
より該上下ベルヌーイ板を加熱又は冷却する流路が設け
られていることを特徴とする板状試料の流体処理装置。 - 【請求項２】 前記板状試料の表裏面と前記上下ベルヌ
ーイ板との間は、それぞれ前記の挟ギャップを形成する
ように配置される請求項１記載の板状試料の流体処理装
置。 - 【請求項３】 前記板状試料の表裏面と前記上下ベルヌ
ーイ板との間は、それぞれ同じ大きさのギャップを形成
するように配置される請求項１又は２記載の板状試料の
流体処理装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11152334A JP2000334397A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | 板状試料の流体処理装置及び板状試料の流体処理方法 |
| TW089110512A TW459281B (en) | 1999-05-31 | 2000-05-30 | Method and apparatus for treating plate-shaped specimen with fluid |
| KR1020000029211A KR20010039627A (ko) | 1999-05-31 | 2000-05-30 | 판형상시료의 유체처리장치 및 판형상시료의 유체처리방법 |
| US09/579,142 US6443168B1 (en) | 1999-05-31 | 2000-05-30 | Plate-like specimen fluid-treating apparatus and plate-like specimen fluid-treating method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11152334A JP2000334397A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | 板状試料の流体処理装置及び板状試料の流体処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000334397A true JP2000334397A (ja) | 2000-12-05 |
Family
ID=15538277
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11152334A Withdrawn JP2000334397A (ja) | 1999-05-31 | 1999-05-31 | 板状試料の流体処理装置及び板状試料の流体処理方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US6443168B1 (ja) |
| JP (1) | JP2000334397A (ja) |
| KR (1) | KR20010039627A (ja) |
| TW (1) | TW459281B (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104952768A (zh) * | 2014-03-24 | 2015-09-30 | 斯克林集团公司 | 基板处理装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| NL1011487C2 (nl) * | 1999-03-08 | 2000-09-18 | Koninkl Philips Electronics Nv | Werkwijze en inrichting voor het roteren van een wafer. |
| US7171973B2 (en) * | 2001-07-16 | 2007-02-06 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
| WO2003021657A1 (fr) * | 2001-09-03 | 2003-03-13 | Tokyo Electron Limited | Dispositif et procede de traitement de substrat |
| US6708701B2 (en) * | 2001-10-16 | 2004-03-23 | Applied Materials Inc. | Capillary ring |
| US6786996B2 (en) | 2001-10-16 | 2004-09-07 | Applied Materials Inc. | Apparatus and method for edge bead removal |
| JP2004055722A (ja) * | 2002-07-18 | 2004-02-19 | Renesas Technology Corp | 洗浄装置、基板の洗浄方法および半導体装置の製造方法 |
| US6883250B1 (en) * | 2003-11-04 | 2005-04-26 | Asm America, Inc. | Non-contact cool-down station for wafers |
| KR100749543B1 (ko) * | 2006-03-28 | 2007-08-14 | 세메스 주식회사 | 기판 세정 장치 및 그 세정 방법 |
| DE102006051812A1 (de) * | 2006-11-03 | 2008-05-08 | Mtu Aero Engines Gmbh | Entschichtungsvorrichtung für rotationssymetrische Bauteile, insbesondere aus Flugzeugtriebwerken |
| US8905680B2 (en) | 2011-10-31 | 2014-12-09 | Masahiro Lee | Ultrathin wafer transport systems |
| US9316443B2 (en) | 2012-08-23 | 2016-04-19 | Lam Research Ag | Method and apparatus for liquid treatment of wafer shaped articles |
| US9748120B2 (en) | 2013-07-01 | 2017-08-29 | Lam Research Ag | Apparatus for liquid treatment of disc-shaped articles and heating system for use in such apparatus |
| US9490138B2 (en) | 2013-12-10 | 2016-11-08 | Tel Fsi, Inc. | Method of substrate temperature control during high temperature wet processing |
| US10167552B2 (en) * | 2015-02-05 | 2019-01-01 | Lam Research Ag | Spin chuck with rotating gas showerhead |
| CN112614794A (zh) * | 2020-12-09 | 2021-04-06 | 若名芯半导体科技(苏州)有限公司 | 一种晶圆用高温药液清洗设备及其清洗工艺 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0611274B1 (de) * | 1993-02-08 | 1998-12-02 | SEZ Semiconductor-Equipment Zubehör für die Halbleiterfertigung AG | Träger für scheibenförmige Gegenstände |
| US5518542A (en) * | 1993-11-05 | 1996-05-21 | Tokyo Electron Limited | Double-sided substrate cleaning apparatus |
| US5979475A (en) * | 1994-04-28 | 1999-11-09 | Hitachi, Ltd. | Specimen holding method and fluid treatment method of specimen surface and systems therefor |
| JP3250090B2 (ja) | 1995-06-27 | 2002-01-28 | 東京エレクトロン株式会社 | 洗浄処理装置及び洗浄処理方法 |
| US6318385B1 (en) * | 1998-03-13 | 2001-11-20 | Semitool, Inc. | Micro-environment chamber and system for rinsing and drying a semiconductor workpiece |
| KR100292075B1 (ko) * | 1998-12-29 | 2001-07-12 | 윤종용 | 반도체소자제조용웨이퍼처리장치 |
-
1999
- 1999-05-31 JP JP11152334A patent/JP2000334397A/ja not_active Withdrawn
-
2000
- 2000-05-30 US US09/579,142 patent/US6443168B1/en not_active Expired - Fee Related
- 2000-05-30 KR KR1020000029211A patent/KR20010039627A/ko not_active Application Discontinuation
- 2000-05-30 TW TW089110512A patent/TW459281B/zh not_active IP Right Cessation
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN104952768A (zh) * | 2014-03-24 | 2015-09-30 | 斯克林集团公司 | 基板处理装置 |
| US10424496B2 (en) | 2014-03-24 | 2019-09-24 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate treating method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW459281B (en) | 2001-10-11 |
| KR20010039627A (ko) | 2001-05-15 |
| US6443168B1 (en) | 2002-09-03 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20060801 |