JP2016159376A - Cutting device - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、洗浄水によって板状ワークを洗浄しながら、切削ブレードで板状ワークを切削する切削装置に関する。 The present invention relates to a cutting apparatus that cuts a plate-shaped workpiece with a cutting blade while cleaning the plate-shaped workpiece with cleaning water.
切削装置では、切削ブレードによる板状ワークの切削時に切削屑(コンタミ)が生じて、板状ワークの上面や板状ワークに形成された切削溝に切削屑が付着していた。板状ワークに付着した切削屑は洗浄ユニットで洗浄されるが、洗浄ユニットへの移送中に板状ワークが乾燥してしまうと、洗浄ユニットで板状ワークから切削屑が除去できなくなる。このため、チャックテーブル上で板状ワークを洗浄する切削装置(特許文献1参照)や、板状ワークの上面に常に切削水を供給して板状ワークの上面や切削溝に切削屑が付着するのを防止する切削装置(特許文献2、3参照)が提案されている。
In the cutting apparatus, cutting waste (contamination) is generated when the plate-like workpiece is cut by the cutting blade, and the cutting waste adheres to the upper surface of the plate-like workpiece or the cutting groove formed in the plate-like workpiece. The cutting waste adhering to the plate-like workpiece is washed by the cleaning unit. However, if the plate-like workpiece is dried during the transfer to the washing unit, the cutting waste cannot be removed from the plate-like workpiece by the washing unit. For this reason, a cutting device for cleaning the plate-like workpiece on the chuck table (see Patent Document 1), or cutting water is always supplied to the upper surface of the plate-like workpiece, and cutting chips adhere to the upper surface of the plate-like workpiece and the cutting groove. A cutting device (see
しかしながら、特許文献1−3に記載の切削装置では、洗浄水によって板状ワークの表面に付着した大きな切削屑を除去することができるが、板状ワークの切削溝に付着するような微細な切削屑までは十分に除去することができなかった。 However, in the cutting apparatus described in Patent Documents 1-3, large cutting waste adhering to the surface of the plate-like workpiece can be removed by the cleaning water, but fine cutting that adheres to the cutting groove of the plate-like workpiece. Even the waste could not be removed sufficiently.
本発明はかかる点に鑑みてなされたものであり、板状ワークの切削溝に付着した微細な切削屑を除去可能な洗浄機能を備えた切削装置を提供することを目的とする。 This invention is made | formed in view of this point, and it aims at providing the cutting device provided with the washing | cleaning function which can remove the fine cutting waste adhering to the cutting groove of a plate-shaped workpiece.
本発明の切削装置は、板状ワークを保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルが保持する板状ワークを切削ブレードで切削する切削手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを相対的にX方向に切削送りする切削送り手段と、該チャックテーブルと該切削手段とを相対的にY方向にインデックス送りするインデックス送り手段と、該チャックテーブルが保持する板状ワークを該切削手段で切削した切削溝を洗浄する洗浄手段と、を備える切削装置であって、該切削手段は、該切削ブレードを回転可能に装着するスピンドルと、該スピンドルに装着された該切削ブレードの一部を突出させカバーするブレードカバーと、を備え、該洗浄手段は、該切削手段で切削した該切削溝に向かって洗浄水と高圧エアーとを混合させた混合液を噴射する噴射口を有する洗浄ノズルと、該洗浄ノズルに該洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、該洗浄ノズルに該高圧エアーを供給する高圧エアー供給手段と、を備え、該洗浄ノズルの該噴射口から噴出する該混合液で該切削溝を洗浄する。 The cutting apparatus of the present invention includes a chuck table for holding a plate-like workpiece, a cutting means for cutting the plate-like workpiece held by the chuck table with a cutting blade, and the chuck table and the cutting means relatively in the X direction. Cutting feed means for cutting and feeding, index feed means for relatively feeding the chuck table and the cutting means in the Y direction, and a cutting groove obtained by cutting a plate-like workpiece held by the chuck table with the cutting means A cutting device comprising: a spindle for rotatably mounting the cutting blade; and a blade for projecting and covering a part of the cutting blade mounted on the spindle A cover, and the cleaning means sprays a mixed liquid in which cleaning water and high-pressure air are mixed toward the cutting groove cut by the cutting means. A cleaning nozzle having an injection port, a cleaning water supply means for supplying the cleaning water to the cleaning nozzle, and a high-pressure air supply means for supplying the high-pressure air to the cleaning nozzle. The cutting groove is washed with the liquid mixture ejected from the mouth.
この構成によれば、洗浄水と高圧エアーが混合されることで、混合液が噴霧状の液滴となって噴射口から切削溝に向けて噴射される。噴霧状の液滴が切削溝の壁面に噴射されることで、微細な切削屑が切削溝の壁面から引き剥がされて除去される。このように、板状ワークの表面ではなく切削溝を狙って噴霧状の液滴が噴射されることで、切削溝に付着した微細な切削屑に噴霧状の液滴を衝突させて、板状ワークから微細な切削屑を除去し易くしている。 According to this configuration, the cleaning water and the high-pressure air are mixed, so that the mixed liquid is sprayed as droplets and ejected from the ejection port toward the cutting groove. By spraying the sprayed droplets onto the wall surface of the cutting groove, fine cutting chips are peeled off from the wall surface of the cutting groove and removed. In this way, sprayed droplets are sprayed aiming at the cutting groove rather than the surface of the plate-like workpiece, so that the sprayed droplets collide with the fine cutting waste adhering to the cutting groove, and the plate shape It makes it easy to remove fine cutting waste from the workpiece.
本発明によれば、切削溝に向けて噴霧状の液滴が噴射されることで、切削溝に付着した微細な切削屑を好適に除去することができる。 According to the present invention, the fine cutting waste adhering to the cutting groove can be suitably removed by spraying spray droplets toward the cutting groove.
以下、添付図面を参照して、本実施の形態に係る切削装置について説明する。図1は、本実施の形態に係る切削装置の斜視図である。図2は、本実施の形態に係る板状ワークの平面図である。なお、以下の説明においては、板状ワークとしてパッケージ基板を切削する切削装置を例示して説明するが、この構成に限定されない。切削装置は、板状ワークとして半導体ウエーハや光デバイスウエーハを切削する装置でもよい。 Hereinafter, the cutting apparatus according to the present embodiment will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view of a cutting apparatus according to the present embodiment. FIG. 2 is a plan view of the plate-like workpiece according to the present embodiment. In the following description, a cutting device that cuts a package substrate as a plate-like workpiece will be described as an example. However, the present invention is not limited to this configuration. The cutting apparatus may be an apparatus that cuts a semiconductor wafer or an optical device wafer as a plate-like workpiece.
図1に示すように、切削装置1は、チャックテーブル20に保持された板状ワークWを切削ブレード33で切削すると共に、切削時に生じた切削屑(コンタミ)をチャックテーブル20上で洗浄するように構成されている。図2A及び図2Bに示すように、板状ワークWは、略長方形の基材(例えば、半導体デバイス用の樹脂板、LEDデバイス用の金属板)61の長手方向の複数箇所(本実施の形態では3箇所)にデバイス領域A1が設けられ、各デバイス領域A1を囲むように余剰領域A2が設けられている。基材61の表面には、各デバイス領域A1が樹脂モールド(例えば、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂)によって覆われることで樹脂製の凸部62が形成されている。
As shown in FIG. 1, the
また、板状ワークWは、格子状の分割予定ライン63によって多数の領域に区画されている。格子状の分割予定ライン63に沿って板状ワークWが切削されることで、余剰領域A2が端材として板状ワークWから切り離され、デバイス領域A1が個々のチップとして分割される。なお、板状ワークWは、CSP(Chip Size Package)基板、QFN(Quad Flat Non-leaded package)基板等のようにデバイス搭載後のパッケージ基板に限らず、デバイス搭載前の基板でもよい。また、デバイス領域A1には、半導体デバイスおよびLEDデバイスのいずれが配設されてもよい。
The plate-like workpiece W is divided into a large number of regions by grid-like division planned
図1に戻り、ハウジング10の上面には、X方向に延在する矩形状の開口が形成されており、この開口はチャックテーブル20と共に移動可能な移動板11及び蛇腹状の防水カバー12により被覆されている。防水カバー12の下方には、チャックテーブル20をX方向に切削送りするボールねじ式の切削送り手段21(図3参照)が設けられている。移動板11上にはθテーブル22を介してチャックテーブル20がZ軸回りに回転可能に支持されている。チャックテーブル20の上面には、板状ワークWの各凸部62に対応した位置に、板状ワークWの各凸部62を収容可能な複数の凹部23が形成されている。
Returning to FIG. 1, a rectangular opening extending in the X direction is formed on the upper surface of the
また、チャックテーブル20の上面には、板状ワークWの分割予定ライン63に対応して切削ブレード33が進入する進入溝24が形成されている。チャックテーブル20の凹部23の底面25には、進入溝24によって格子状に区画された領域で、板状ワークWの分割後の個々のチップを吸引保持する複数の吸引孔27が形成されている。また、凹部23の周囲の支持面26には、板状ワークWの余剰領域A2を吸引保持する複数の吸引孔28が形成されている。各吸引孔27、28は、それぞれチャックテーブル20内の流路を通じて吸引源(不図示)に接続されている。
In addition, on the upper surface of the chuck table 20, an
切削手段30は、チャックテーブル20の上方に位置付けられており、ボールネジ式のインデックス送り手段31(図3参照)によってY方向にインデックス送りされ、ボールねじ式の昇降手段(不図示)によってZ方向に昇降される。切削手段30は、スピンドル32の先端に切削ブレード33を回転可能に装着し、切削ブレード33の一部(略下半部)を突出させてカバーする箱型のブレードカバー34を設けて構成される。切削ブレード33は、ダイヤモンド等の砥粒を結合材料で結合してリング状に形成される。ブレードカバー34には、切削ブレード33に向けて切削水を噴射する一対の切削水ノズル35(一方のみ図示)が設けられている。
The
一対の切削水ノズル35は、ブレードカバー34の後方下端から前方に向かって延びる略L字状に形成されており、各切削水ノズル35の先端が切削ブレード33の略下半部に位置付けられている。切削水ノズル35の先端には複数のスリット36(図3参照)が形成されており、このスリット36から切削ブレード33による切り込み箇所に向けて切削水が噴射される。切削水ノズル35から噴射された切削水で切削ブレード33による切り込み箇所を洗浄及び冷却しながら、高速回転する切削ブレード33で分割予定ライン63に沿って板状ワークWが切削される。
The pair of
ところで、切削ブレード33によって板状ワークWに切削溝が形成されると、切削溝の壁面に微細な切削屑が付着する。このとき、L字状の切削水ノズル35から切削ブレード33の切削箇所に向けて切削水が噴射されるが、切削水ノズル35から噴射された切削水の液滴は粒径が大きいため、大きな加工屑を除去するのには適しているが、微細な切削屑を除去するのには適していない。また、切削水ノズル35から噴射された切削水の液滴の大部分は、切削溝に付着した微細な切削屑に衝突することなく、切削ブレード33や板状ワークWの上面に衝突して板状ワークの外側に流れ出てしまう。
By the way, when a cutting groove is formed in the plate-like workpiece W by the
そこで、本実施の形態に係る切削装置1では、切削手段30で切削した板状ワークWの切削溝を洗浄する洗浄手段40を設け、洗浄水と高圧エアーを混合した混合液によって板状ワークWの切削溝を2流体洗浄している。洗浄手段40の洗浄ノズル41の噴射口45(図3参照)から混合液を噴射することで、混合液が噴霧状の液滴となって切削溝に向けて噴射される。このとき、噴霧状の液滴が高速に噴射されることで、液滴と微細な切削屑の衝突により切削溝の壁面から切削屑が引き剥がされると共に、液滴が切削溝の壁面に衝突して生じたジェット水流により切削屑が洗い流される。
Therefore, in the
また、切削手段30の前方の支持壁13には、支持壁13内にはチャックテーブル20に保持された板状ワークWの全面に洗浄水を噴射するカーテンノズル50が設けられている。カーテンノズル50は、チャックテーブル20の移動方向であるX方向に直交するY方向に延在し、板状ワークWの長辺よりも長く形成されている。カーテンノズル50には、複数の噴射口51(図3参照)が等間隔に形成されており、複数の噴射口51から噴射された洗浄水でウォーターカーテンが形成される。ウォーターカーテンを板状ワークWが通過することで、洗浄水によって板状ワークW全体が洗浄される。
The
カーテンノズル50に形成されたウォーターカーテンにより、洗浄ノズル41で切削溝から除去した切削屑の再付着が防止される。また、洗浄ノズル41には洗浄手段40としての洗浄水供給源(洗浄水供給手段)42と高圧エアー供給源(高圧エアー供給手段)43とが接続され、カーテンノズル50には洗浄水供給源37が接続されている。洗浄ノズル41には、洗浄水供給源42から洗浄水が供給されると共に高圧エアー供給源43から高圧エアーが供給される。また、カーテンノズル50には、洗浄水供給源37から洗浄水が供給される。
The water curtain formed on the
なお、本実施の形態では、異なる洗浄水供給源42、37から洗浄ノズル41とカーテンノズル50に洗浄水が供給されたが、同一の洗浄水供給源42から洗浄ノズル41とカーテンノズル50に洗浄水が供給されてもよい。さらに、支持壁13には切削手段30とチャックテーブル20とのアライメント用に撮像手段55が設けられている。撮像手段55による撮像画像によって、分割予定ライン63に対して切削ブレード33がアライメントされる。この撮像手段55は、切削溝(分割予定ライン63)に対する洗浄ノズル41のアライメントに使用されてもよい。切削溝に対する洗浄ノズル41の位置調整については後述する。
In this embodiment, cleaning water is supplied from the different cleaning
図3及び図4を参照して、切削装置による切削動作について説明する。図3は、本実施の形態に係る切削装置による切削動作の一例を示す図である。図4は、本実施の形態に係る洗浄ノズルによる切削溝の洗浄状態を示す図である。なお、本実施の形態では、切削ブレードによる切削動作と洗浄ノズルによる洗浄動作が同時に実施される構成について説明したが、切削ブレードによる切削動作後に洗浄ノズルによる洗浄動作が実施されてもよい。 With reference to FIG.3 and FIG.4, the cutting operation by a cutting device is demonstrated. FIG. 3 is a diagram illustrating an example of a cutting operation by the cutting apparatus according to the present embodiment. FIG. 4 is a diagram showing a cleaning state of the cutting groove by the cleaning nozzle according to the present embodiment. In the present embodiment, the configuration in which the cutting operation by the cutting blade and the cleaning operation by the cleaning nozzle are performed at the same time has been described. However, the cleaning operation by the cleaning nozzle may be performed after the cutting operation by the cutting blade.
図3A及び図3Bに示すように、切削手段30のブレードカバー34の後部(図示左側)には、バルブ46、47を介して洗浄水供給源42及び高圧エアー供給源43に接続された洗浄ノズル41が設けられている。洗浄ノズル41は、切削手段30で切削した切削溝64に向かって洗浄水と高圧エアーとを混合させた混合液を噴射する噴射口45を有している。洗浄水供給源42から供給された洗浄水と高圧エアー供給源43から供給された高圧エアーとが洗浄ノズル41内の混合流路48で混合され、混合された混合液が噴射口45から噴霧状の液滴になって噴射される。
As shown in FIGS. 3A and 3B, a cleaning nozzle connected to a cleaning
この場合、バルブ46、47によって洗浄水及び高圧エアーの供給量が制御されて、噴射口45から噴射される液滴の粒径が調整される。例えば、切削溝64に付着する切削屑の径が0.5μmから2μmの場合には、噴射口45から噴射される液滴の径が1μmから4μmになるように調整される。また、洗浄ノズル41の噴射口45の中心が切削ブレード33のブレード幅を2等分する中心線C上に位置付けられるように、ブレードカバー34に洗浄ノズル41が取り付けられている。よって、板状ワークWの分割予定ライン63に切削ブレード33を位置合わせすることで、分割予定ライン63(切削溝64)に噴射口45が位置合わせされる。つまり、噴射口45から噴射される液滴の径は、切削屑の径より大きく設定し、切削屑に液滴を衝突させ、液滴の移動エネルギーが切削屑の位置エネルギーより大きくすると洗浄が効果的に行う事ができる。しかし、液滴が大きすぎると複数の切削屑に衝突し洗浄効果が低下するため切削屑より僅かに大きくする事が望ましい。
In this case, the supply amounts of cleaning water and high-pressure air are controlled by the
このように構成された切削装置1では、板状ワークWの表面を下に向けた状態で、チャックテーブル20の上面に載置される。このとき、板状ワークWの表面側の凸部62がチャックテーブル20の凹部23に位置付けられている。板状ワークWの凸部62がチャックテーブル20の凹部23の底面に保持されると共に、板状ワークWの余剰領域A2がチャックテーブル20の支持面26に保持される。チャックテーブル20に板状ワークWが保持された状態では、格子状の分割予定ライン63がチャックテーブル20に形成された格子状の進入溝24に対して位置合わせされている。
In the
そして、インデックス送り手段31によって切削ブレード33がY方向にインデックス送りされて分割予定ライン63に対して位置合わせされ、昇降手段によって切削ブレード33が板状ワークWをフルカット可能な高さまで移動される。このとき、洗浄ノズル41の噴射口45も分割予定ライン63に対して位置合わせされると共に、噴射口45が板状ワークW付近の高さまで移動される。この状態で、切削水ノズル35から切削水が噴射され、洗浄ノズル41から混合液が噴射されながら、高速回転する切削ブレード33に対してチャックテーブル20がX方向に切削送りされる。
Then, the
これにより、切削ブレード33がチャックテーブル20の進入溝24に進入して板状ワークWが分割予定ライン63に沿って切削される。これにより、切削ブレード33の後方に分割予定ライン63に沿う切削溝64が形成される。板状ワークWの切削時には切削溝64の壁面に微細な切削屑が付着するが、切削溝64の真上に位置付けられた洗浄ノズル41の噴射口45から洗浄水と高圧エアーの混合液が切削溝64に向けて噴射される。混合液は噴霧状の液滴となって切削溝64の壁面に衝突することで、切削溝64の壁面から微細な切削屑が除去される。
As a result, the
この場合、図4Aに示すように、洗浄ノズル41の噴射口45が切削溝64と同一幅に形成されている。噴霧状の液滴71は噴射口45から下方に向かって広がるため、噴射口45が板状ワークWにできる限り近づけられることで、切削溝64の溝幅と略同一のスポット径で噴霧状の液滴71が切削溝64に向けて噴射される。これにより、幅狭の噴射口45から噴射される噴霧状の液滴の勢いを強めて洗浄力が高められると共に、噴霧状の液滴が切削溝64の壁面65に沿って噴射されることで、切削溝64の壁面65に付着した微細な切削屑75に液滴が衝突し易くなっている。
In this case, as shown in FIG. 4A, the
噴霧状の液滴71が微細な切削屑75に衝突すると、液滴71内に生じた衝撃波と膨張波による圧力変動によって切削溝64の壁面65から切削屑75が引き剥がされる。また、噴霧状の液滴71が微細な切削屑75に衝突せずに切削溝64の壁面65に衝突すると、切削溝64の壁面65にジェット水流が作り出されて切削屑75が洗い流される。このとき、板状ワークWの切削溝64の下方にはチャックテーブル20の進入溝24が位置付けられているため、噴霧状の液滴71が切削溝64を吹き抜けるように、噴射口45から切削溝64を狙って噴霧状の液滴71を強く噴射することができる。
When the atomized
そして、図4Bに示すように、噴霧状の液滴71によって切削溝64の壁面65から微細な切削屑75が引き剥がされると、チャックテーブル20の進入溝24を流れる水流によって切削屑75が外部に排出される。このようにして、板状ワークWの切削溝64に対して噴霧状の液滴71が局所的に噴射されることで、切削溝64の壁面65に付着した微細な切削屑75が除去される。
As shown in FIG. 4B, when the
図3に戻り、切削手段30の前方には、板状ワークWを横切るようにカーテンノズル50が設けられており、カーテンノズル50の噴射口51から噴射された洗浄水によってウォーターカーテンが形成されている。この場合、カーテンノズル50から斜め後方に洗浄水が噴射されているため、板状ワークWの裏面にカーテンノズル50から後方に向かう洗浄水の流れが作り出される。洗浄水の流れによって、板状ワークWの全体が効果的に洗浄されると共に、洗浄ノズル41で切削溝64から除去された切削屑の板状ワークWに対する再付着が防止されている。
Returning to FIG. 3, a
このように、洗浄ノズル41によって板状ワークWの切削溝64に付着した微細な切削屑75が除去されると共に、カーテンノズル50の下方を板状ワークWが通過することで板状ワークW全体が洗浄される。このため、本実施の形態に係る切削装置1では、切削後の板状ワークWに対するスピンナー洗浄を不要にしている。なお、本実施の形態では、切削ブレード33の後方に洗浄ノズル41が位置付けられる構成にしたが、板状ワークWに対する切削ブレード33の通過後の切削溝64に洗浄ノズル41が位置付けられていればよい。例えば、切削ブレード33の側方に洗浄ノズル41が位置付けられて、隣接ラインの切削溝64を洗浄ノズル41で洗浄してもよい。隣接ラインの切削溝64を洗浄する場合には、切削ブレード33で後方に巻き上げられた切削水の抵抗を受けることがなく、噴霧状の液滴で切削溝64を良好に洗浄できる。
As described above, the
ところで、板状ワークWの切削溝64に洗浄ノズル41の噴射口45が高精度に位置合わせされていなければ、十分な洗浄効果を得ることができない。上記の例では、分割予定ライン63に切削ブレード33が位置合わせされることで、分割予定ライン63に洗浄ノズル41の位置合わせが実施されたが、洗浄ノズル41と切削ブレード33の中心がインデックス方向に位置ズレしていると、洗浄ノズル41の噴射口45が切削溝64から外れてしまう。そこで、切削手段30に、切削ブレード33に対して洗浄ノズル41をインデックス方向(Y方向)に位置調整可能な調整機構を設ける構成にしてもよい。
By the way, if the
以下、図5を参照して調整機構について説明する。図5は、変形例に係る調整機構の調整動作の一例を示す図である。なお、図5においては、既に分割予定ラインに対して切削ブレードがアライメントされているものとする。 Hereinafter, the adjustment mechanism will be described with reference to FIG. FIG. 5 is a diagram illustrating an example of the adjustment operation of the adjustment mechanism according to the modification. In FIG. 5, it is assumed that the cutting blade is already aligned with respect to the division planned line.
図5Aに示すように、切削手段30のブレードカバー34には、モータ駆動の調整機構49を介して洗浄ノズル41がインデックス方向(Y方向)に移動可能に取り付けられている。分割予定ライン63に切削ブレード33が位置合わせされた状態で、切削加工の開始前に、洗浄ノズル41の噴射口45から板状ワークWに向けて混合液がスポット噴射される。次に、撮像手段55(図1参照)によって混合液のスポット位置Pが撮像され、撮像画像に基づいてスポット位置Pの中心と分割予定ライン63のインデックス方向のズレ量ΔLが算出される。そして、調整機構49によってズレ量ΔL分だけ洗浄ノズル41が移動されて洗浄ノズル41の噴射口45が分割予定ライン63に位置合わせされる。
As shown in FIG. 5A, the cleaning
また、図5Bに示すように、切削ブレード33が位置付けられた分割予定ラインの隣接ラインに洗浄ノズル41の噴射口45が位置合わせられてもよい。この場合、上記したように、切削ブレード33が位置付けられた分割予定ライン63に洗浄ノズル41の噴射口45が位置合わせされた後、調整機構49によって1インデックス分だけ洗浄ノズル41が移動されて洗浄ノズル41の噴射口45が隣接ラインに位置合わせされる。なお、1インデックスとは分割予定ライン63の間隔を示している。このような構成により、切削ブレード33で板状ワークWの分割予定ライン63を切削中に、既に切削済みの隣接ラインの切削溝64(図4参照)を洗浄ノズル41で洗浄することができる。なお、モータ駆動の調整機構49に限らず、手動式の調整機構49が用いられてもよい。
Further, as shown in FIG. 5B, the
以上のように、本実施の形態に係る切削装置1では、洗浄水と高圧エアーが混合されることで、混合液が噴霧状の液滴71となって噴射口45から切削溝64に向けて噴射される。噴霧状の液滴71が切削溝64の壁面65に噴射されることで、微細な切削屑75が切削溝64の壁面65から引き剥がされて除去される。このように、板状ワークWの表面ではなく切削溝64を狙って噴霧状の液滴71が噴射されることで、切削溝64に付着した微細な切削屑75に噴霧状の液滴71を衝突させて、板状ワークWから微細な切削屑75を除去し易くしている。
As described above, in the
なお、本発明は上記実施の形態に限定されず、種々変更して実施することが可能である。上記実施の形態において、添付図面に図示されている大きさや形状などについては、これに限定されず、本発明の効果を発揮する範囲内で適宜変更することが可能である。その他、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施することが可能である。 In addition, this invention is not limited to the said embodiment, It can change and implement variously. In the above-described embodiment, the size, shape, and the like illustrated in the accompanying drawings are not limited to this, and can be appropriately changed within a range in which the effect of the present invention is exhibited. In addition, various modifications can be made without departing from the scope of the object of the present invention.
例えば、本実施の形態及び変形例においては、板状ワークWとしてのパッケージ基板用のチャックテーブル20を例示して説明したが、この構成に限定されない。板状ワークWが半導体ウエーハや光デバイスウエーハの場合には、円形のポーラス面を有するウエーハ用のチャックテーブルが使用されてもよい。 For example, in the present embodiment and the modification, the package substrate chuck table 20 as the plate-like workpiece W has been exemplified and described, but the present invention is not limited to this configuration. When the plate-like workpiece W is a semiconductor wafer or an optical device wafer, a wafer chuck table having a circular porous surface may be used.
また、本実施の形態及び変形例においては、切削手段30の前方の支持壁13にカーテンノズル50が設けられる構成にしたが、この構成に限定されない。カーテンノズル50は、チャックテーブル20と共に移動可能に構成されてもよい。例えば、カーテンノズル50は、チャックテーブル20に隣接するように、移動板11上に設けられてもよい。このような構成により、チャックテーブル20と共にカーテンノズル50も切削送りされるため、板状ワークWに対して常に洗浄水を噴射することができる。よって、板状ワークWが乾燥して切削屑が板状ワークWに付着することがない。
Moreover, in this Embodiment and the modification, it was set as the structure by which the
また、本実施の形態及び変形例においては、切削手段30に単一の洗浄ノズル41が設けられる構成にしたが、この構成に限定されない。切削手段30に複数の洗浄ノズル41が設けられてもよい。また、洗浄ノズル41に1つの噴射口45が形成される構成に限らず、洗浄ノズル41に複数の噴射口45が形成されてもよい。
Moreover, in this Embodiment and the modification, although it was set as the structure by which the
また、本実施の形態及び変形例においては、洗浄ノズル41が切削手段30のブレードカバー34に設けられる構成にしたが、この構成に限定されない。洗浄ノズル41は切削手段30と共にチャックテーブル20に対して相対的に移動可能であればよく、例えば、洗浄ノズル41がスピンドル32に設けられる構成にしてもよい。
Moreover, in this Embodiment and the modification, although the
以上説明したように、本発明は、切削溝に付着した微細な切削屑を除去することができるという効果を有し、特に、CSP基板、QFN基板等のパッケージ基板を洗浄しながら切削する切削装置に有用である。 As described above, the present invention has an effect that fine cutting chips adhering to a cutting groove can be removed, and in particular, a cutting apparatus that performs cutting while cleaning a package substrate such as a CSP substrate or a QFN substrate. Useful for.
1 切削装置
20 チャックテーブル
21 切削送り手段
30 切削手段
31 インデックス送り手段
32 スピンドル
33 切削ブレード
34 ブレードカバー
40 洗浄手段
41 洗浄ノズル
42 洗浄水供給源(洗浄水供給手段)
43 高圧エアー供給源(高圧エアー供給手段)
45 洗浄ノズルの噴射口
49 調整機構
50 カーテンノズル
51 カーテンノズルの噴射口
64 切削溝
71 液滴
75 切削屑
W 板状ワーク
DESCRIPTION OF
43 High pressure air supply source (High pressure air supply means)
45 Cleaning
Claims (1)
該切削手段は、該切削ブレードを回転可能に装着するスピンドルと、該スピンドルに装着された該切削ブレードの一部を突出させカバーするブレードカバーと、を備え、
該洗浄手段は、該切削手段で切削した該切削溝に向かって洗浄水と高圧エアーとを混合させた混合液を噴射する噴射口を有する洗浄ノズルと、該洗浄ノズルに該洗浄水を供給する洗浄水供給手段と、該洗浄ノズルに該高圧エアーを供給する高圧エアー供給手段と、を備え、
該洗浄ノズルの該噴射口から噴出する該混合液で該切削溝を洗浄する切削装置。 A chuck table for holding a plate-like workpiece, a cutting means for cutting a plate-like workpiece held by the chuck table with a cutting blade, and a cutting feed means for cutting and feeding the chuck table and the cutting means relatively in the X direction And index feeding means for index-feeding the chuck table and the cutting means relative to each other in the Y direction, and a cleaning means for cleaning a cutting groove obtained by cutting the plate-like workpiece held by the chuck table with the cutting means, A cutting device comprising:
The cutting means includes a spindle on which the cutting blade is rotatably mounted, and a blade cover that projects and covers a part of the cutting blade mounted on the spindle,
The cleaning means has a cleaning nozzle having an injection port for injecting a mixed liquid obtained by mixing cleaning water and high-pressure air toward the cutting groove cut by the cutting means, and supplies the cleaning water to the cleaning nozzle. Cleaning water supply means, and high-pressure air supply means for supplying the high-pressure air to the cleaning nozzle,
A cutting device for cleaning the cutting groove with the mixed liquid ejected from the ejection port of the cleaning nozzle.
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